湖北真空鍍膜設(shè)備工廠

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-05

【真空鍍膜設(shè)備的分類】: 這個(gè)問(wèn)題如果在十年之前,其實(shí)是很容易回答的,就是兩個(gè)大類,物理沉積設(shè)備和化學(xué)沉積設(shè)備。現(xiàn)在這樣回答也是沒(méi)錯(cuò)的,但現(xiàn)在再這樣回答就沒(méi)辦法把事情說(shuō)清楚了,所以從應(yīng)用領(lǐng)域上可以分成以下幾類: 傳統(tǒng)光學(xué)器件(鏡片,濾光片)所用的鍍膜設(shè)備:?jiǎn)吻惑w或多腔體蒸發(fā)式鍍膜設(shè)備,濺射式鍍膜設(shè)備。 新材料領(lǐng)域的柔性設(shè)備:卷對(duì)卷柔性鍍膜設(shè)備。 光通訊行業(yè):離子束濺射鍍膜設(shè)備。 半導(dǎo)體及相似工藝:化學(xué)氣相沉積設(shè)備。 功能膜:多弧離子鍍?cè)O(shè)備,濺射設(shè)備,蒸發(fā)設(shè)備 玻璃工藝:濺射式連續(xù)線 其余的就得歸到“工藝定制設(shè)備”這個(gè)范圍里面了,例如車燈鍍膜設(shè)備,太陽(yáng)能的共蒸發(fā)設(shè)備,光纖鍍膜設(shè)備,太陽(yáng)能管設(shè)備等等 真空鍍膜設(shè)備詳細(xì)鍍膜方法。湖北真空鍍膜設(shè)備工廠

【真空鍍膜電子束蒸發(fā)法】: 電子束蒸發(fā)法是將蒸發(fā)材料放入水冷銅坩鍋中,直接利用電子束加熱,使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結(jié)在基板表面形成膜,是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。電子束蒸發(fā)克服了一般電阻加熱蒸發(fā)的許多缺點(diǎn),特別適合制作熔點(diǎn)薄膜材料和高純薄膜材料。 【真空鍍膜激光蒸發(fā)法】: 采用激光束蒸發(fā)源的蒸鍍技術(shù)是一種理想的薄膜制備方法。這是由于激光器是可以安裝在真空室之外,這樣不但簡(jiǎn)化了真空室內(nèi)部的空間布置,減少了加熱源的放氣,而且還可完全避免了蒸發(fā)氣對(duì)被鍍材料的污染,達(dá)到了膜層純潔的目的。此外,激光加熱可以達(dá)到極高的溫度,利用激光束加熱能夠?qū)δ承┖辖鸹蚧衔镞M(jìn)行快速蒸發(fā)。這對(duì)于保證膜的成分,防止膜的分餾或分解也是極其有用的。激光蒸發(fā)鍍的缺點(diǎn)是制作大功率連續(xù)式激光器的成本較高,所以它的應(yīng)用范圍有一定的限制,導(dǎo)致其在工業(yè)中的guang泛應(yīng)用有一定的限制。 天津簡(jiǎn)述真空鍍膜設(shè)備的特點(diǎn)和應(yīng)用真空鍍膜設(shè)備的工作原理。

【真空鍍膜改善薄膜應(yīng)力】: 1. 鍍后烘烤,Zui后一層膜鍍完后,烘烤不要馬上停止,延續(xù)10分鐘“回火”。讓膜層結(jié)構(gòu)趨于穩(wěn)定。 2. 降溫時(shí)間適當(dāng)延長(zhǎng),退火時(shí)效。減少由于真空室內(nèi)外溫差過(guò)大帶來(lái)的熱應(yīng)力。 3. 對(duì)高反膜、濾光膜等在蒸鍍過(guò)程中,基片溫度不宜過(guò)高,高溫易產(chǎn)生熱應(yīng)力。并且對(duì)氧化鈦、氧化鉭等膜料的光學(xué)穩(wěn)定性有負(fù)面影響。 4. 鍍膜過(guò)程離子輔助,減少應(yīng)力。 5. 選擇合適的膜系匹配,第yi層膜料與基片匹配。 6. 適當(dāng)減小蒸發(fā)速率。 7. 對(duì)氧化物膜料全部充氧反應(yīng)鍍,根據(jù)不同膜料控制氧進(jìn)氣量。

【真空鍍膜改善外層膜表面硬度】: 減反膜一般外層選用MgF2,該層剖面是較為松散的柱狀結(jié)構(gòu),表面硬度不高,容易擦拭出道子。改善外層表面硬度的方法包括: 1. 在膜系設(shè)計(jì)允許的條件下,膜外層加10nm左右的二氧化硅膜層,二氧化硅的表面光滑度優(yōu)于氟化鎂(但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化鎂)。鍍膜后離子轟擊幾分鐘,牢固度效果會(huì)更好。(但表面會(huì)變粗) 2. 鏡片取出真空室后,放置在較為干燥潔凈的地方,防止鏡片快速吸潮,表面硬度降低。 真空鍍膜設(shè)備廠家有哪些?

【真空鍍膜機(jī)概述】: 真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子搶加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 真空鍍膜機(jī)構(gòu)造的五大系統(tǒng):排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。 真空鍍膜三要素:真空度、抽氣時(shí)間、溫度;任何鍍膜工藝都需要為這三個(gè)要素設(shè)定目標(biāo)值;因此,只有當(dāng)三個(gè)條件同時(shí)滿足時(shí),自動(dòng)化程序才會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。 真空鍍膜機(jī)需要做定期定期保養(yǎng),目的在于:讓鍍膜機(jī)能長(zhǎng)時(shí)間地正常運(yùn)轉(zhuǎn);降低故障時(shí)間,避免影響產(chǎn)能,減少損失;提高機(jī)器精度,穩(wěn)定品質(zhì);加快抽氣速度,提升機(jī)器利用率等。真空鍍膜設(shè)備故障維修技巧有哪些?上海真空鍍膜設(shè)備國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

國(guó)產(chǎn)真空鍍膜設(shè)備哪家好?湖北真空鍍膜設(shè)備工廠

【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜外自霧】: 現(xiàn)象:鍍膜完成后,表面有一些淡淡的白霧,用丙tong或混合液擦拭,會(huì)有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭,可以擦掉或減輕。 可能成因有: 1. 膜結(jié)構(gòu)問(wèn)題,外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散,外層膜太粗糙 2. 蒸發(fā)角過(guò)大,膜結(jié)構(gòu)粗糙 3. 溫差:鏡片出罩時(shí)內(nèi)外溫差過(guò)大 4. 潮氣:鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣 5. 真空室內(nèi)POLYCOLD解凍時(shí)水汽過(guò)重 6. 蒸鍍中充氧不完全,膜結(jié)構(gòu)不均勻。 7. 膜與膜之間的應(yīng)力 改善思路:膜外白霧成因很多但各有特征,盡量對(duì)癥下藥。主要思路,一是把膜做的致密光滑些不容易吸附,二是改善環(huán)境減少吸附的對(duì)象。 改善對(duì)策: 1. 改善膜系,外層加二氧化硅,使膜表面光滑,不易吸附。 2. 降低出罩時(shí)的鏡片溫度 3. 改善充氧(加大),改善膜結(jié)構(gòu) 4. 適當(dāng)降低蒸發(fā)速率,改善柱狀結(jié)構(gòu) 5. 離子輔助鍍膜,改善膜結(jié)構(gòu) 6. 加上Polycold解凍時(shí)的小充氣閥 7. 從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角 8. 改善基片表面粗糙度 9. 注意Polycold解凍時(shí)的真空度。 湖北真空鍍膜設(shè)備工廠

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