【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜臟】: 顧名思義,膜層有臟。一般的膜臟發(fā)生在膜內或膜外。臟也可以包括:灰塵點、白霧、油斑、指紋印、口水點等。 改善對策:檢討過程,杜絕臟污染。 1. 送交洗凈或擦拭的鏡片不要有過多的不良附著物。 2. 加強鍍前鏡片的洗凈率或擦凈率。 3. 改善上傘后待鍍膜鏡片的擺放環(huán)境,防止污染。 4. 養(yǎng)成上傘作業(yè)員的良好習慣,防止鏡片污染。 5. 加快真空室護板更換周期。 6. 充氣管道清潔,防止氣體充入時污染。 7. 初始排期防渦流(湍流),初始充氣防過充。 8. 鏡片擺放環(huán)境和搬運過程中避免油污、水汽。 9. 工作環(huán)境改造成潔凈車間。 10. 將鍍膜機作業(yè)面板和主機隔開,減少主機產(chǎn)生的有害物質污染鏡片。真空鍍膜設備的主要應用。云南真空鍍膜設備
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜外自霧】: 現(xiàn)象:鍍膜完成后,表面有一些淡淡的白霧,用丙tong或混合液擦拭,會有越擦越嚴重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭,可以擦掉或減輕。 可能成因有: 1. 膜結構問題,外層膜的柱狀結構松散,外層膜太粗糙 2. 蒸發(fā)角過大,膜結構粗糙 3. 溫差:鏡片出罩時內外溫差過大 4. 潮氣:鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣 5. 真空室內POLYCOLD解凍時水汽過重 6. 蒸鍍中充氧不完全,膜結構不均勻。 7. 膜與膜之間的應力 改善思路:膜外白霧成因很多但各有特征,盡量對癥下藥。主要思路,一是把膜做的致密光滑些不容易吸附,二是改善環(huán)境減少吸附的對象。 改善對策: 1. 改善膜系,外層加二氧化硅,使膜表面光滑,不易吸附。 2. 降低出罩時的鏡片溫度 3. 改善充氧(加大),改善膜結構 4. 適當降低蒸發(fā)速率,改善柱狀結構 5. 離子輔助鍍膜,改善膜結構 6. 加上Polycold解凍時的小充氣閥 7. 從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角 8. 改善基片表面粗糙度 9. 注意Polycold解凍時的真空度。 山西真空鍍膜設備真空鍍膜設備公司排名。
【離子鍍的歷史】: 真空離子鍍膜技術是近幾十年才發(fā)展起來的一種新的鍍膜技術。在離子鍍技術興起的40多年來取得了巨大的進步,我國也有將近30多年的離子鍍研究進程。 【離子鍍的原理】: 蒸發(fā)物質的分子被電子撞擊后沉積在固體表面稱為離子鍍。蒸發(fā)源接陽極,工件接陰極,當通以三至五千伏高壓直流電以后,蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于 真空罩內充有惰性氬氣,在放電電場作用下部分氬氣被電離,從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表 面,致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出,從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后,接通蒸發(fā)源交流電源,蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā),進入輝光放電區(qū)并 被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子,在陰極吸引下,隨同氬離子一同沖向工件,當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時,則逐漸堆積形成一層牢固粘 附于工件表面的鍍層。 【離子鍍的優(yōu)缺點】: 優(yōu)點:膜層附著力好,膜層致密,具有繞度性能,能在形狀復雜的零件表面鍍膜。 缺點:離子鍍的應用范圍不廣;膜與基體間存在較寬的過渡界面。會有氣體分子吸附。
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜料點】: 膜料點不良也是鍍膜產(chǎn)品的一個常見問題,在日企、臺企把膜料點稱為“斑孔”。顧名思義,膜料點就是蒸鍍中,大顆粒膜料點隨著膜料蒸汽分子一起蒸鍍到了基片的表面。在基片表面形成點狀的突起,有時是個別點,嚴重時時成片的細點,大顆粒點甚至打傷基片表面。 改善對策: 1. 選擇雜質少的膜料 2. 對易飛濺的膜料選擇顆粒合適的膜料 3. 膜料在鍍前用網(wǎng)篩篩一下 4. 精心預熔 5. 用一把電子搶鍍制幾種膜料時,防止坩堝轉動中膜料參雜及擋板掉下膜料渣造成膜料污染。 6. 盡Zui大可能使用蒸發(fā)舟、坩堝干凈。 7. 選擇合適的蒸發(fā)速率及速率曲線的平滑。 8. 膜料去潮,將待用膜料用培養(yǎng)皿盛放在真空室干燥。 真空鍍膜設備品牌排行。
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之劃痕(膜傷)】: 劃痕是指膜面內外有道子,膜內的稱劃痕,膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質改善中的一個頑癥,雖然很清楚產(chǎn)生的原因和改善方法,但難以**。 產(chǎn)生原因: 膜內劃痕: 1. 前工程外觀不良殘留。 2. 各操作過程中的作業(yè)過水造成鏡片劃痕 3. 鏡片擺放太密,搬運過程中造成互相磕碰 4. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷 5. 超聲波清洗造成的傷痕 膜外傷痕(膜傷): 1. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2. 鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3. 各作業(yè)過程作業(yè)過失造成的膜傷。 改善對策: 1. 強化作業(yè)員作業(yè)規(guī)范 2. 訂立作業(yè)過失清單,監(jiān)督作業(yè)員避免作業(yè)過失 3. 改善鏡片擺放間隔 4. 改善鏡片搬運方法 5. 改善擺放器具、包裝材料 6. 改善超聲波清洗工藝參數(shù) 7. 加強前工程檢驗和鍍前檢查 PVD真空鍍膜設備公司。安徽國內真空鍍膜設備廠家
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【真空鍍膜改善薄膜應力】: 1. 鍍后烘烤,Zui后一層膜鍍完后,烘烤不要馬上停止,延續(xù)10分鐘“回火”。讓膜層結構趨于穩(wěn)定。 2. 降溫時間適當延長,退火時效。減少由于真空室內外溫差過大帶來的熱應力。 3. 對高反膜、濾光膜等在蒸鍍過程中,基片溫度不宜過高,高溫易產(chǎn)生熱應力。并且對氧化鈦、氧化鉭等膜料的光學穩(wěn)定性有負面影響。 4. 鍍膜過程離子輔助,減少應力。 5. 選擇合適的膜系匹配,第yi層膜料與基片匹配。 6. 適當減小蒸發(fā)速率。 7. 對氧化物膜料全部充氧反應鍍,根據(jù)不同膜料控制氧進氣量。 云南真空鍍膜設備
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