山東應(yīng)用BOE蝕刻液聯(lián)系方式

來源: 發(fā)布時間:2023-12-22

據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的蝕刻液,其特征在于,進(jìn)一步含有α-羥基羧酸和/ 或α-羥基羧酸的鹽。 根據(jù)權(quán)利要求4所述的蝕刻液,其特征在于,所述α-羥基羧酸為選自由酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的蝕刻液,其特征在于,所述酸的濃度為20重量%至70重量%;所述有機(jī)硫化合物的濃度為0.01重量%至10重量%。 根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項所述的蝕刻液,其特征在于,所述α-羥基羧酸和/或α-羥基羧酸的鹽的濃度為0.2重量%至5重量%。哪家的BOE蝕刻液配方比較好?山東應(yīng)用BOE蝕刻液聯(lián)系方式

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通常用于金屬層蝕刻的銅酸蝕刻溶液主要成分為過氧化氫和一些添加劑;過氧化氫用于對金屬進(jìn)行氧化,而添加劑則主要將氧化物酸化成離子態(tài),使其溶解于溶液中,并且維持蝕刻特性要求。由于過氧化氫同時具有氧化性和還原性,其可以將銅氧化,也可以被金屬離子催化發(fā)生歧化分解反應(yīng),生成氧氣。如果此反應(yīng)速度過快,則會生熱乃至引起等安全事故。與此同時,二價銅離子也具有一定的氧化性,當(dāng)蝕刻時間較長,所述銅酸蝕刻溶液體系內(nèi)的銅離子含量較高時,溶液的蝕刻特性會發(fā)生變化,以至于蝕刻達(dá)不到要求,所述銅酸蝕刻溶液不能夠再進(jìn)行蝕刻,即達(dá)到蝕刻壽命?;谝陨蟽蓚€方面,過氧化氫體系的銅酸蝕刻溶液壽命較低,一般為當(dāng)銅酸溶液中銅離子的濃度達(dá)到4000-8000百萬分比濃度,則不能再使用。山東如何分類BOE蝕刻液電話BOE蝕刻液的大概費(fèi)用大概是多少?

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   蝕刻(etching)是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wetetching)和干蝕刻(dryetching)兩類。濕蝕刻就是利用合適的化學(xué)溶液腐蝕去除材質(zhì)上未被光阻覆蓋(感光膜)的部分,達(dá)到一定的雕刻深度。蝕刻精度高,則可以完成精度要求更高的精細(xì)零件的加工,擴(kuò)大蝕刻應(yīng)用的范圍。目前已經(jīng)使用的蝕刻液類型有六種類型:酸性氯化銅,堿性氯化銅,氯化鐵,過硫酸銨,硫酸/鉻酸,硫酸/雙氧水蝕刻液。常用的化學(xué)藥水,硝酸、氫氟酸等。

   酸性蝕刻液是用于印制電路板線路制作和多層板內(nèi)層制作的蝕刻液,隨著電路板行業(yè)的迅速發(fā)展,產(chǎn)生的廢液量越來越大,發(fā)掘的污染物種類也越來越多,對環(huán)境造成巨大的危害,此類問題也成為社會的重要課題。為了減少甚至杜絕此類污染的發(fā)生,我們需要對酸性蝕刻液進(jìn)行回收循環(huán)利用。目前對于酸性蝕刻廢液的再生利用大多采用化學(xué)或電化學(xué)的方法,但傳統(tǒng)的方法廢液中總銅的含量不斷增大,比重增加,必須排掉一部分廢液或者補(bǔ)加子液和水來控制參數(shù),這樣不僅污染大,影響環(huán)境,而且還會造成銅和酸的浪費(fèi)。BOE蝕刻液使用時要注意什么?

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如何挑選一款適合公司的BOE蝕刻液?山東應(yīng)用BOE蝕刻液聯(lián)系方式

蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù),蝕刻技術(shù)分為濕蝕刻和干蝕刻,其中,濕蝕刻是采用化學(xué)試劑,經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)達(dá)到蝕刻的目的,薄膜場效應(yīng)晶體管液晶顯示器(tft~lcd)、發(fā)光二極管(led)、有機(jī)發(fā)光二極管(oled)等行業(yè)用作面板過程中銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜(ito)的蝕刻通常采用鹽酸和硝酸的混合水溶液。現(xiàn)有的制備裝置在進(jìn)行制備時會發(fā)熱反應(yīng),使得裝置外殼穩(wěn)定較高,工作人員直接接觸有燙傷風(fēng)險,熱水與鹽酸接觸會產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng),濺出容易傷害工作人員,保護(hù)性不足,鹽酸硝酸具有較強(qiáng)的腐蝕性,常規(guī)的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質(zhì)量,用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進(jìn)行攪拌,成本過高,且混合的效果不好。所以,如何設(shè)計一種ito蝕刻液制備裝置,成為當(dāng)前要解決的問題。山東應(yīng)用BOE蝕刻液聯(lián)系方式