本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,特別是涉及一種用于包括但不限于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中光刻膠去除步驟的光刻膠剝離去除方法。背景技術(shù):光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的也稱為光致抗蝕劑、光阻等,其作用是作為抗刻蝕層保護(hù)襯底表面。光刻膠廣泛應(yīng)用于集成電路(ic)、封裝(packaging)、微機(jī)電系統(tǒng)(mems)、光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)、平板顯示其(led、lcd、oled)和太陽能光伏(solarpv)等領(lǐng)域。在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,離子注入層光刻膠(參考圖2)在經(jīng)過高劑量或大分子量的源種注入后(參考圖3),會在光刻膠的外層形成一層硬殼(參考圖4)本發(fā)明命名為主要光刻膠層?,F(xiàn)有的離子注入層光刻膠在經(jīng)過氧氣灰化干法剝離時,由于等離子氧與光刻膠反應(yīng)速率很高,會有一部分等離子氧先穿透主要光刻膠層到達(dá)第二光刻膠層,在與第二光刻膠層反應(yīng)后在內(nèi)部產(chǎn)生大量氣體,第二層光刻膠膨脹(參考圖5),主要光刻膠層終因承受不住內(nèi)層巨大的氣壓而爆裂,爆裂的光刻膠有一定的概率掉落在臨近的光刻膠上(參考圖6),導(dǎo)致此交疊的光刻膠不能法剝離干凈。在經(jīng)過后續(xù)批作業(yè)的濕法剝離后會產(chǎn)生殘余物。剝離液公司的聯(lián)系方式。廣東哪家蝕刻液剝離液銷售公司
按照玻璃基板傳送方向從當(dāng)前腔室101開始逐級由各腔室10向玻璃基板供給剝離液以進(jìn)行剝離制程。剝離液從當(dāng)前腔室101進(jìn)入相應(yīng)的存儲箱20,在剝離液的水平面超過預(yù)設(shè)高度后流入過濾器30,再經(jīng)過過濾器30的過濾將過濾后的剝離液傳送至下一級腔室102內(nèi)。其中,薄膜碎屑70一般為金屬碎屑或ito碎屑。其中,如圖2所示,圖2為本申請實施例提供的剝離液機(jī)臺100的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。閥門開關(guān)60設(shè)置在管道40及第二管道50上。在過濾器30被阻塞時,關(guān)閉位于過濾器30兩側(cè)的管道40及第二管道50上的閥門開關(guān)60,可以保證當(dāng)前級腔室101對應(yīng)的存儲箱20內(nèi)剝離液不會流出,同時下一級腔室102內(nèi)的剝離液也不會流出。在一些實施例中,請參閱圖3,圖3為本申請實施例提供的剝離液機(jī)臺100的第三種結(jié)構(gòu)示意圖。過濾器30包括多個并列排布的子過濾器301,所述管道40包括多個子管道401,每一所述子管道401與一子過濾器301連通,且所述多個子管道401與當(dāng)前級腔室101對應(yīng)的存儲箱20連通。在一些實施例中,第二管道50包括公共子管道501及多個第二子管道502,每一所述第二子管道502與一子過濾器301連通,每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通,所述公共子管道501與所述下一級腔室102連通。其中。蕪湖BOE蝕刻液剝離液什么價格鋁剝離液的配方是什么?
利用提升泵將一級過濾罐中濾液抽取到攪拌釜內(nèi);再向攪拌釜中輸入沉淀劑,如酸性溶液,與前述濾液充分?jǐn)嚢杌旌显俅挝龀龀恋砦?,即二級線性酚醛樹脂,打開二級過濾罐進(jìn)料管路上的電磁閥,帶有沉淀物的混合液進(jìn)入二級過濾罐中,由其中的過濾筒過濾得到二級線性酚醛樹脂,廢液二級過濾罐底部的廢液出口流出,送往剝離成分處理系統(tǒng)。上述過濾得到的一級線性酚醛樹脂可用于光刻膠產(chǎn)品的原料,而二級線性酚醛樹脂可用于其他場合。綜上,實現(xiàn)了對光刻膠樹脂的充分的回收利用,回收率得到提高。附圖說明圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是過濾筒的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實施方式如圖1、圖2所示,該光刻膠廢剝離液回收裝置,包括攪拌釜10和與攪拌釜10連通的過濾罐,所述過濾罐的數(shù)量為兩個,由一級過濾罐16和二級過濾罐13組成。所述一級過濾罐16和二級過濾罐13在垂直方向上位于攪拌釜10下方,一級過濾罐16和二級過濾罐13的進(jìn)料管路15、14分別與攪拌釜10底部連通,且進(jìn)料管路15、14上分別設(shè)有電磁閥18、17。所述一級過濾罐16的底部出液口19連接有提升泵6,所述提升泵6的出料管路末端與攪拌釜10頂部的循環(huán)料口7連通。攪拌釜10頂部另設(shè)有廢剝離液投料口5和功能切換口3。
隨著電子元器件制作要求的提高,相關(guān)行業(yè)應(yīng)用對濕電子化學(xué)品純度的要求也不斷提高。為了適應(yīng)電子信息產(chǎn)業(yè)微處理工藝技術(shù)水平不斷提高的趨勢,并規(guī)范世界超凈高純試劑的標(biāo)準(zhǔn),國際半導(dǎo)體設(shè)備與材料組織(SEMI)將濕電子化學(xué)品按金屬雜質(zhì)、控制粒徑、顆粒個數(shù)和應(yīng)用范圍等指標(biāo)制定國際等級分類標(biāo)準(zhǔn)。濕電子化學(xué)品在各應(yīng)用領(lǐng)域的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)有所不同,光伏太陽能電池領(lǐng)域一般只需要G1級水平;平板顯示和LED領(lǐng)域?qū)耠娮踊瘜W(xué)品的等級要求為G2、G3水平;半導(dǎo)體領(lǐng)域中,集成電路用濕電子化學(xué)品的純度要求較高,基本集中在G3、G4水平,分立器件對濕電子化學(xué)品純度的要求低于集成電路,基本集中在G2級水平。一般認(rèn)為,產(chǎn)生集成電路斷絲、短路等物理性故障的雜質(zhì)分子大小為**小線寬的1/10。因此隨著集成電路電線寬的尺寸減少,對工藝中所需的濕電子化學(xué)品純度的要求也不斷提高。從技術(shù)趨勢上看,滿足納米級集成電路加工需求是超凈高純試劑今后發(fā)展方向之一。 使用剝離液,輕松剝離各種材料。
本申請涉及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種剝離液機(jī)臺及其工作方法。背景技術(shù):剝離(lift-off)工藝通常用于薄膜晶體管(thinfilmtransistor)制程中的光罩縮減,lift-off先形成光阻并圖案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同時,沉積在光阻上的膜層也被剝離,從而完成膜層的圖形化,通過該制程可以實現(xiàn)兩次光刻合并為一次以達(dá)到光罩縮減的目的。現(xiàn)有技術(shù)中,由于光阻上沉積了薄膜(該薄膜材料可以為金屬,ito(氧化銦錫)等用于制備tft的膜層),在剝離光阻的同時薄膜碎屑被帶入剝離液(stripper)中,大量的薄膜碎屑將會導(dǎo)致剝離液機(jī)臺中的過濾器(filter)堵塞,從而導(dǎo)致機(jī)臺無法使用,并且需要停止所有剝離液機(jī)臺的工作,待將filter清理后再次啟動,降低了生產(chǎn)效率。技術(shù)實現(xiàn)要素:本申請實施例提供一種剝離液機(jī)臺及其工作方法,可以提高生產(chǎn)效率。本申請實施例提供一種剝離液機(jī)臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應(yīng)連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)。在一些實施例中。剝離液分為溶劑型和水系兩種類別;安徽銅蝕刻液剝離液銷售價格
剝離液可適用不同制程光刻膠的剝離;廣東哪家蝕刻液剝離液銷售公司
使用當(dāng)前級腔室相應(yīng)的過濾器過濾來自當(dāng)前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān);取出被阻塞的所述過濾器。在一些實施例中,所述若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān)包括:若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則關(guān)閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關(guān)。本申請實施例還提供一種剝離液機(jī)臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應(yīng)連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)開關(guān)。通過閥門開關(guān)控制連接每一級腔室的過濾器相互獨立,從而在過濾器被阻塞時通過閥門開關(guān)將被堵塞的過濾器取下并不影響整體的剝離進(jìn)程,提高生產(chǎn)效率。附圖說明為了更清楚地說明本申請實施例中的技術(shù)方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖**是本申請的一些實施例,對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來講。 廣東哪家蝕刻液剝離液銷售公司