經(jīng)除霧組件3除霧后的氣體會(huì)夾帶著泡沫,泡沫中還是含有銅元素,為進(jìn)一步提高回收效率,需對(duì)氣體和泡沫進(jìn)行分離,泡沫與絲網(wǎng)碰撞時(shí)會(huì)吸附在絲網(wǎng)的細(xì)絲表面,細(xì)絲表面上泡沫不斷累積和泡沫的重力沉降,使泡沫形成較大的液滴沿細(xì)絲流至兩根絲的交點(diǎn),當(dāng)液滴累積至其自身產(chǎn)生的重力超過(guò)氣體的上升力和液體表面張力合力時(shí),液滴就從細(xì)絲上分離下落,氣體在通過(guò)絲網(wǎng)除沫后,基本上不含泡沫。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述分離器設(shè)有液位計(jì)7、液位開關(guān)9、液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8。蒸汽從加熱器11到分離器會(huì)因分離器內(nèi)壓力小而發(fā)生閃蒸,產(chǎn)生二次蒸汽,使氣液分離的效率更高,所以要維持分離器內(nèi)的壓力不變,通過(guò)觀察液位計(jì)7來(lái)使用液位開關(guān)9控制分離器內(nèi)壓力穩(wěn)定,保證分離器的工作狀態(tài)在設(shè)計(jì)的狀態(tài)下。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述液位計(jì)7連接有液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8。液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8將分離器內(nèi)的工作情況反映到液位計(jì)7,工作人員可以通過(guò)觀察液位計(jì)7知道分離器內(nèi)的工作情況。液相氣相溫度傳感器6采用漂浮式傳感器,在分離器內(nèi)液面處工作,壓力傳感器8安裝在分離器底部,有效測(cè)量分離器內(nèi)液壓。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示。蘇州BOE蝕刻液的價(jià)格。廣州銀蝕刻液蝕刻液推薦廠家
從蝕刻速度及安全性的觀點(diǎn)來(lái)看,推薦為40℃至70℃,更推薦為45℃至55℃。處理時(shí)間視對(duì)象物的表面狀態(tài)及形狀等而變化,通常為30秒至120秒左右。實(shí)施例然后,對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例與比較例一起進(jìn)行說(shuō)明。此外,本發(fā)明并非限定于下述實(shí)施例而解釋。制備表1及表2所示的組成的各蝕刻液,在下述條件下進(jìn)行蝕刻試驗(yàn)及蝕刻液的穩(wěn)定性試驗(yàn)。此外,表1及表2所示的組成的各蝕刻液中,剩余部分為離子交換水。另外,表1及表2所示的鹽酸的濃度為以氯化氫計(jì)的濃度。(蝕刻試驗(yàn))通過(guò)濺鍍法在樹脂上形成50nm的鈦膜,然后成膜200nm的銅膜,進(jìn)而通過(guò)電鍍銅在該銅膜上形成圖案,將所得的基板用作試樣。使用銅的蝕刻液,將試樣的濺鍍銅膜溶解而使鈦膜露出。然后,將試樣浸漬在實(shí)施例1至實(shí)施例12及比較例1至比較例3的蝕刻液中進(jìn)行蝕刻實(shí)驗(yàn)。將實(shí)驗(yàn)結(jié)果示于表1。[表1]像表1所示那樣,本發(fā)明的蝕刻液可在不蝕刻銅的情況下選擇性地蝕刻鈦。(蝕刻液的穩(wěn)定性試驗(yàn))將實(shí)施例1、實(shí)施例7、實(shí)施例12及比較例4的蝕刻液在室溫下放置2天后,進(jìn)行所述蝕刻試驗(yàn),比較放置前后的蝕刻速度。將比較結(jié)果示于表2。[表2]像表2所示那樣,本發(fā)明的蝕刻液的保存穩(wěn)定性優(yōu)異,即便在長(zhǎng)期保存的情況下也可穩(wěn)定地選擇性地蝕刻鈦。廣州銀蝕刻液蝕刻液推薦廠家使用蝕刻液需要什么條件。
蝕刻液也可含有α-羥基羧酸和/或其鹽。α-羥基羧酸及其鹽具有作為鈦的絡(luò)合劑的效果,可抑制蝕刻液中產(chǎn)生鈦的沉淀。作為所述α-羥基羧酸,例如可舉出酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸等。α-羥基羧酸和/或其鹽的濃度并無(wú)特別限制,從絡(luò)合效果及溶解性的觀點(diǎn)來(lái)看,推薦為%至5重量%,更推薦為%至2重量%。另外,蝕刻液也可含有亞硫酸及/或其鹽。亞硫酸及其鹽具有作為還原劑的效果,可提高鈦的蝕刻速度。亞硫酸和/或其鹽的濃度并無(wú)特別限制,從還原性及臭氣的觀點(diǎn)來(lái)看,推薦為%至%,更推薦為%至%。蝕刻液中除了上述的成分以外,也能以不妨礙本發(fā)明效果的程度添加其他成分。作為其他成分,例如可舉出表面活性劑、成分穩(wěn)定劑及消泡劑等。蝕刻液可通過(guò)使所述各成分溶解于水中而容易地制備。作為所述水,推薦為將離子性物質(zhì)及雜質(zhì)除去的水,例如推薦為離子交換水、純水、超純水等。蝕刻液可在使用時(shí)將各成分以成為預(yù)定濃度的方式調(diào)配,也可預(yù)先制備濃縮液并在即將使用之前稀釋而使用。使用本發(fā)明的蝕刻液的鈦的蝕刻方法并無(wú)特別限制,例如可舉出:對(duì)含有銅及鈦的對(duì)象物涂布或噴霧蝕刻液的方法;將含有銅及鈦的對(duì)象物浸漬在蝕刻液中的方法等。處理溫度并無(wú)特別限制。
近年來(lái),oled顯示器廣泛應(yīng)用于手機(jī)和平板顯示。金屬銀以優(yōu)異的電導(dǎo)率和載流子遷移率被廣泛應(yīng)用于oled顯示器的陽(yáng)極布線(ito/ag/ito)結(jié)構(gòu)中。為了對(duì)此進(jìn)行蝕刻,目前主要使用基于磷酸、硝酸、醋酸和硝酸鹽的濕蝕刻液(cna)。這樣的體系雖然能有效去除金屬銀,但在實(shí)際使用過(guò)程中仍會(huì)存在少量的銀殘留或銀再吸附沉積問題。4.本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于如何解決現(xiàn)有的銀蝕刻液在使用過(guò)程中存在少量的銀殘留、銀再吸附沉積問題。5.本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)手段實(shí)現(xiàn)解決上述技術(shù)問題的:6.一種銀蝕刻液組合物,其成分由質(zhì)量占比為40-60%磷酸、2-10%硝酸、%有機(jī)酸、%硝酸鹽、%含氮元素有機(jī)物、其余為水組成。 BOE蝕刻液生產(chǎn)廠家就找蘇州博洋化學(xué)股份。
引線框架的腐蝕是如何生產(chǎn)的呢?引線框架的材料主要是電子銅帶,常見在引線框架中通過(guò)亮鎳、錫和錫鉛鍍層下進(jìn)行鍍鎳完成保護(hù)金屬材料的目的,在材質(zhì)過(guò)程中42合金引線相對(duì)來(lái)說(shuō)容易發(fā)生應(yīng)力-腐蝕引發(fā)的裂紋。為了保障引線框架的優(yōu)異的導(dǎo)電性和散熱性,處理方式通過(guò)電鍍銀、片式電鍍線,將引線和基島表面作特殊處理,這樣能夠保障焊線和引線框架的良好焊接性能。引線框架電鍍銀蝕刻工藝流程主要分:上料-電解除油-活化-預(yù)鍍銅-預(yù)鍍銀-局部鍍銀-退銀-防銀膠擴(kuò)散-防銅變色-烘干-收料。通過(guò)該蝕刻工藝流程能夠保障引線框架蝕刻過(guò)程中電鍍層的厚度、光亮度、粗糙度、潔凈度等。因此,蝕刻引線框架對(duì)工藝和工廠的管理需要嚴(yán)格控制。 哪家的蝕刻液價(jià)格比較低?成都京東方用的蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨
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伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13,圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14,分隔板2與承載板3相互垂直設(shè)置,電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計(jì)為5°,進(jìn)液管8的形狀設(shè)計(jì)為l型,且進(jìn)液管8貫穿分隔板2設(shè)置在進(jìn)液漏斗6與伸縮管9之間,圓環(huán)塊13通過(guò)伸縮桿12活動(dòng)安裝在噴頭10上方,且噴頭10通過(guò)伸縮管9活動(dòng)安裝在電解池4上方,通過(guò)設(shè)置有伸縮管9與伸縮桿12,能夠在蝕刻液通過(guò)進(jìn)液管8流入到電解池4中時(shí),啟動(dòng)液壓缸11帶動(dòng)伸縮桿12向上移動(dòng),從而通過(guò)圓環(huán)塊13配合伸縮管9帶動(dòng)噴頭10向上移動(dòng),進(jìn)而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中,避免蝕刻液對(duì)電解池4造成沖擊而影響其使用壽命,具有保護(hù)電解池4的功能;分隔板2右端表面靠近上端固定安裝有增壓泵16,增壓泵16下端與電解池4之間連接有回流管15,增壓泵16上端與進(jìn)液管8之間連接有一號(hào)排液管17,回流管15內(nèi)部左端設(shè)置有一號(hào)電磁閥18,回流管15與進(jìn)水管27的形狀均設(shè)計(jì)為l型,通過(guò)在增壓泵16下端設(shè)置有回流管15,能夠在蝕刻液電解后,啟動(dòng)增壓泵16并打開一號(hào)電磁閥18,將蝕刻液通過(guò)回流管15抽入到一號(hào)排液管17中,并由進(jìn)液管8導(dǎo)入到伸縮管9中,直至蝕刻液由噴頭10重新噴到電解池4中。廣州銀蝕刻液蝕刻液推薦廠家