也很難保證拖車(chē)在地磅頂部不移動(dòng)。在地磅的頂部平臺(tái)中設(shè)置有兩條卡塊40,卡塊與平臺(tái)之間形成一插槽,在地磅的頂部設(shè)置有包括氣缸50和壓緊塊60的氣動(dòng)夾緊機(jī)構(gòu),壓緊塊位于插槽中,氣缸的伸縮桿與壓緊塊固連。拖車(chē)的邊緣沿插槽插入后,氣缸帶動(dòng)壓緊塊下行將拖車(chē)緊緊壓在地磅的頂部。實(shí)施例二本實(shí)施例基于實(shí)施例一。如圖2所示,在拖車(chē)的頂部設(shè)置有一圈圍設(shè)在儲(chǔ)存罐外部的護(hù)欄70,以防止其它物品碰撞儲(chǔ)存罐。實(shí)施例三本實(shí)施例基于實(shí)施例一。如圖3所示,在拖車(chē)的頂部設(shè)置有一集液盒,儲(chǔ)存罐安裝在集液盒80中,過(guò)濾器的出液管及灌裝頭的快速接頭從儲(chǔ)存罐中拔出時(shí)滴落的鋁蝕刻液,由集液盒進(jìn)行收集。實(shí)施例四本實(shí)施例基于實(shí)施例一。如圖4所示,拖車(chē)的頂部于儲(chǔ)存罐的旁側(cè)設(shè)置有集液腔室22,過(guò)濾器的出液管及灌裝頭的快速接頭從儲(chǔ)存罐中拔出時(shí)滴落的鋁蝕刻液被集液腔室內(nèi)收集。綜上所述,將原有的大型儲(chǔ)存罐更換成數(shù)個(gè)小型儲(chǔ)存罐,并采用液壓升降式拖車(chē)帶著儲(chǔ)存罐在鋁蝕刻液生產(chǎn)車(chē)間與自動(dòng)灌裝車(chē)間之中周轉(zhuǎn),如此便可為鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備配備全自動(dòng)灌裝線(xiàn),即提高了單瓶灌裝精度和效率,又降低了企業(yè)的人力成本投入;而且,將原有的大型儲(chǔ)存罐更換成數(shù)個(gè)小型儲(chǔ)存罐。銅蝕刻液哪里可以買(mǎi)到;天馬用的蝕刻液蝕刻液按需定制
為本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖,以及其三較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖,在本實(shí)用新型其二較佳實(shí)施例中,開(kāi)設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121亦呈千鳥(niǎo)排列的直通孔態(tài)樣,且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離,例如:圖4中所示的w1,其中w1大于圖3的w或圖5的w2,其中w2大于w,而該宣泄孔121的一孔徑a0亦小于3mm,以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細(xì)現(xiàn)象,若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時(shí),則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面,但仍舊可以提供空氣宣泄的管道,以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力。此外,請(qǐng)參閱圖6與圖7所示,為本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖,以及擋液板結(jié)構(gòu)運(yùn)作局部放大圖,其中本實(shí)用新型的蝕刻設(shè)備1設(shè)置于一濕式蝕刻機(jī)的一槽體(圖式未標(biāo)示)內(nèi),該蝕刻設(shè)備1包括有一如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)10、一輸送裝置30、一基板20,以及一風(fēng)刀裝置40,其中本實(shí)用新型主要借由具有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121的擋液板結(jié)構(gòu)10搭配該風(fēng)刀裝置40的硬體設(shè)計(jì),有效使該風(fēng)刀裝置40吹出的氣體43得以由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121宣泄。上海銀蝕刻液蝕刻液哪里買(mǎi)蝕刻液,讓您的產(chǎn)品更精美,細(xì)節(jié)更完美。
可以維持合適的蝕刻速度且提高sin/sio2選擇比。(b)硅烷系偶聯(lián)劑本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述硅烷(silane)系偶聯(lián)劑作為防蝕劑可以在防止包含氧化物膜和氮化物膜的膜中的氧化物膜被上述磷酸氧化時(shí)使用。上述硅烷系偶聯(lián)劑推薦使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以,更推薦滿(mǎn)足。上述硅烷系偶聯(lián)劑推薦按照蝕刻液組合物的蝕刻程度(etchingamount,e/a)滿(mǎn)足以上以下的范圍的濃度來(lái)添加。上述硅烷系偶聯(lián)劑推薦為選自由原硅酸四乙酯(tetraethylorthosilicate)、雙(三乙氧基甲硅烷基)甲烷(bis(triethoxysilyl)methane)、雙(三乙氧基甲硅烷基)乙烷(bis(triethoxysilyl)ethane)、(三乙氧基甲硅烷基)甲醇((triethoxysilyl)methanol)和(三乙氧基甲硅烷基)甲烷((triethoxysilyl)methane)組成的組中的一種以上,更推薦為選自由雙(三乙氧基甲硅烷基)甲烷、(三乙氧基甲硅烷基)甲醇和(三乙氧基甲硅烷基)甲烷組成的組中的一種以上,**推薦為(三乙氧基甲硅烷基)甲烷和/或(三乙氧基甲硅烷基)甲醇。相對(duì)于組合物總重量,上述硅烷系偶聯(lián)劑的含量為~10重量%,推薦為~%。
鋁蝕刻液是鋁蝕刻液STM-AL100。根據(jù)查詢(xún)相關(guān)信息顯示:鋁蝕刻液STM-AL100是一款專(zhuān)為蝕刻鋁目的去設(shè)計(jì)的化學(xué)品,STM-AL100的組成有主要蝕刻化學(xué)品,添加劑,輔助化學(xué)品,對(duì)于控制蝕刻均勻以及穩(wěn)定的蝕刻速率一定的效果,在長(zhǎng)效性的表現(xiàn)上更是無(wú)話(huà)可說(shuō).在化學(xué)特性上,鋁金屬容易受到酸性以及堿性的化學(xué)品攻擊,本化學(xué)品設(shè)計(jì)上為酸性配方且完全可被水溶解,故無(wú)須再花額外的成本在廢水處理上.用在生產(chǎn)的用途可以調(diào)整藥液溫度來(lái)調(diào)整蝕刻速率,所以本化學(xué)品對(duì)于初次使用者來(lái)說(shuō),是簡(jiǎn)單容易上手。蘇州哪家公司可以做蝕刻液;
以及一設(shè)置于基板下方的第二風(fēng)刀,其中***風(fēng)刀與第二風(fēng)刀分別吹出一氣體至基板。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中蝕刻設(shè)備可進(jìn)一步設(shè)置有一噴灑裝置,噴灑裝置相對(duì)于風(fēng)刀裝置一端而設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)的另一端部。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中噴灑裝置噴灑一藥液至基板上。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中擋液板結(jié)構(gòu)與基板的垂直距離介于8mm至15mm之間。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中滾輪呈順時(shí)針?lè)较蜣D(zhuǎn)動(dòng),并帶動(dòng)基板由噴灑裝置下端部朝向風(fēng)刀裝置的***風(fēng)刀下端部的方向移動(dòng)。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中氣體遠(yuǎn)離***風(fēng)刀與第二風(fēng)刀的方向分別與基板的法線(xiàn)方向夾設(shè)有一第三夾角。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中第三夾角介于20度至35度之間。再者,為了達(dá)到上述實(shí)施目的,本實(shí)用新型另研擬一種蝕刻方法,于一濕式蝕刻機(jī)的一槽體內(nèi)運(yùn)行;首先,設(shè)置一擋液板結(jié)構(gòu),其中擋液板結(jié)構(gòu)設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔;接著,使用一設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)下方的輸送裝置輸送一基板,以經(jīng)過(guò)一噴灑裝置進(jìn)行一藥液噴灑;接續(xù),使用一設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)下方的風(fēng)刀裝置對(duì)基板吹出一氣體,以使基板干燥;***,氣體經(jīng)由宣泄孔宣泄。如上所述的蝕刻方法。什么制程中需要使用蝕刻液。無(wú)錫天馬用的蝕刻液蝕刻液按需定制
蝕刻液可以用在哪些行業(yè)當(dāng)中?天馬用的蝕刻液蝕刻液按需定制
一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法技術(shù)領(lǐng)域1.本技術(shù)涉及化學(xué)蝕刻技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。背景技術(shù):2.目前,電子器件的基板表面(例如顯示器件的陣列基板)通常帶有一定圖案的氧化銦錫(ito)膜,以便后續(xù)給電子器件可控通電。該ito膜通常通過(guò)化學(xué)蝕刻的方法蝕刻ito材料層形成。其中,對(duì)于多晶ito(p-ito)材料,所用蝕刻液主要包括硫酸系、王水系ito蝕刻液。王水系蝕刻液成本低,但其蝕刻速度快,蝕刻的角度難以控制,且容易對(duì)ito膜的下層金屬造成二次腐蝕。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:3.有鑒于此,為克服目前存在的技術(shù)難題,本技術(shù)提供了一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。4.具體地,本技術(shù)首先方面提供了一種ito蝕刻液,所述ito蝕刻液包括以下重量份數(shù)的各組分:20-22份的鹽酸,6-7份的硝酸,0.5-3份的酸抑制劑,0.5-3份的表面活性劑,以及水;其中,所述酸抑制劑包括n,n-二異丙基乙胺、n,n-二異丙基乙醇胺中的至少一種;所述表面活性劑包括聚氧乙烯脂肪胺、聚氧乙烯脂肪二胺中的至少一種。5.通過(guò)對(duì)蝕刻液中硝酸及鹽酸的含量進(jìn)行精確限定,以實(shí)現(xiàn)了對(duì)王水系蝕刻液蝕刻速度的初步調(diào)控,并在一定程度上實(shí)現(xiàn)了對(duì)蝕刻角度的控制(蝕刻角度小于35天馬用的蝕刻液蝕刻液按需定制