IQAligner工業(yè)自動化功能:盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理晶圓直徑(基板尺寸):高達200毫米對準方式:上側對準:≤±0.5μm底側對準:≤±1,0μm紅外校準:≤±2,0μm/具體取決于基板材料曝光設定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式曝光選項:間隔曝光/洪水曝光系統(tǒng)控制操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR實時遠程訪問,診斷和故障排除產能全自動:弟一批生產量:每小時85片全自動:吞吐量對準:每小時80片除了光刻機之外,岱美還代理了EVG的鍵合機等設備。四川晶圓光刻機
集成化光刻系統(tǒng)HERCULES光刻量產軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產系統(tǒng)和結合了掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理功能的高度自動化,完善了EVG光刻產品系列。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺,將EVG已建立的光學掩模對準技術與集成的清潔,光刻膠涂層,烘烤和光刻膠顯影模塊相結合。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務”,在這里將經過預處理的晶圓裝載到工具中,然后返回完全結構化的經過處理的晶圓。目前可以預定的型號為:HERCULES。請訪問官網獲取更多的信息。山東光刻機國內代理EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動的基片處理,能夠實現(xiàn)現(xiàn)場升級。
EVG®610特征:晶圓/基板尺寸從小到200mm/8''頂側和底側對準能力高精度對準臺自動楔形補償序列電動和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術蕞小化系統(tǒng)占地面積和設施要求分步流程指導遠程技術支持多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)便捷處理和轉換重組臺式或帶防震花崗巖臺的單機版EVG®610附加功能:鍵對準紅外對準納米壓印光刻(NIL)EVG®610技術數(shù)據(jù):對準方式上側對準:≤±0.5μm底面要求:≤±2,0μm紅外校準:≤±2,0μm/具體取決于基板材料鍵對準:≤±2,0μmNIL對準:≤±2,0μm
EVG6200NT特征:晶圓/基板尺寸從小到200mm/8''系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性在弟一次光刻模式下的吞吐量高達180WPH,在自動對準模式下的吞吐量高達140WPH易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時間短帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列自動原點功能,用于對準鍵的精確居中具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能支持蕞新的UV-LED技術返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能可以從半自動版本升級到全自動版本蕞小化系統(tǒng)占地面積和設施要求多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)先進的軟件功能以及研發(fā)與權面生產之間的兼容性便捷處理和轉換重組遠程技術支持和SECS/GEM兼容性臺式或帶防震花崗巖臺的單機版。 IQ Aligner光刻機支持的晶圓尺寸高達200 mm / 300 mm。
此外,EVG光刻機不斷關注未來的市場趨勢 - 例如光學3D傳感和光子學 - 并為這些應用開發(fā)新的方案和調整現(xiàn)有的解決方案,以滿足客戶不斷變化的需求。我們用持續(xù)的技術和市場地位證明了這一點,包括EVG在使用各種非標準抗蝕劑方面的無人能比的經驗,這些抗蝕劑針對獨特的要求和參數(shù)進行了優(yōu)化。了解客戶需求和有效的全球支持是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎。只有接近客戶,才能得知客戶蕞真實的需求,這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。HERCULES 全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時、大間隙、晶圓平面或紅外對準,在可編程位置自動定位。廣東EVG620 NT光刻機
岱美是EVG光刻機在中國的代理商,提供本地化的貼心服務。四川晶圓光刻機
EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng):智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能(框架軟件平臺)用于過程和機器控制的集成分析功能并行任務/排隊任務處理功能設備和過程性能根蹤功能智能處理功能:事/故和警報分析/智能維護管理和根蹤晶圓直徑(基板尺寸):高達200毫米模塊數(shù):工藝模塊:2烘烤/冷卻模塊:*多10個工業(yè)自動化功能:Ergo裝載盒式工作站/SMIF裝載端口/SECS/GEM/FOUP裝載端口分配選項:各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000cP的粘度液體底漆/預濕/洗盤去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸超音波四川晶圓光刻機
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