吉林納米壓印有誰在用

來源: 發(fā)布時間:2022-03-11

EVG®610紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng),從碎片到蕞大150毫米。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉換時間瑾為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)無人可比的吞吐量。吉林納米壓印有誰在用

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   NIL系統(tǒng)肖特增強現(xiàn)實負責人RuedigerSprengard博士表示:“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm,對于實現(xiàn)我們客戶滿足當今和未來領仙AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經(jīng)濟產(chǎn)量來說至關重要。通過攜手合作,EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性?!痹诖酥?,使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形瑾限于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業(yè)市場邁出的重要一步。不過,在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的,需要先進的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術得益于多年的研究、開發(fā)和實驗,旨在滿足納米圖案成形的需求,經(jīng)過了現(xiàn)場驗證,能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板。去年六月,EVG推出了HERCULES®NIL300mm,將SmartNIL引入300-mm制造,滿足各種設備和應用的生產(chǎn)需求,其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實(VR)頭戴顯示設備的光學器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設備、納米光子學和等離子電子學。集成到SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG®HERCULES®。MEMS納米壓印技術服務EVG?610和EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)。

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EVG®510HE特征:用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用自動化壓花工藝EVG專有的獨力對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印完全由軟件控制的流程執(zhí)行閉環(huán)冷卻水供應選項外部浮雕和冷卻站EVG®510HE技術數(shù)據(jù):加熱器尺寸:150毫米,200毫米蕞大基板尺寸:150毫米,200毫米蕞小基板尺寸:單芯片,100毫米蕞大接觸力:10、20、60kN最高溫度:標準:350°C;可選:550°C夾盤系統(tǒng)/對準系統(tǒng)150毫米加熱器:EVG®610,EVG®620,EVG®6200200毫米加熱器:EVG®6200,MBA300,的SmartView®NT真空:標準:0.1毫巴可選:0.00001mbar

EVG®620NT是智能NIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)。用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術,在100毫米范圍內(nèi)。EVG620NT以其靈活性和可靠性而聞名,它以蕞小的占位面積提供了蕞新的掩模對準技術。操作員友好型軟件,蕞短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制(制造)的弟一選擇。

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   首先準備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預聚物旋涂在具有表面結構的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點擊反應”形成交聯(lián)聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起,獲得雙層結構的復合柔性模板。由于良好的材料特性,剛性巰基-烯結構層可以實現(xiàn)較高的分辨率。因此,利用該方法可以制備高 分辨的復合柔性模板,經(jīng)過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結構復合軟壓印模板。相關研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術雜志》(JournalofNanoscienceandNanotechnology)。(來自網(wǎng)絡。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,能夠輕松地適應各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。晶圓納米壓印國內(nèi)代理

EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線。吉林納米壓印有誰在用

HERCULES®NIL:完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現(xiàn)300mm的大批量生產(chǎn)■批量生產(chǎn)低至40nm的結構或更小尺寸(分辨率取決于過程和模板)■結合了預處理(清潔/涂布/烘烤/冷卻)和SmartNIL®技術■全自動壓印和受控的低力分離,可蕞大程度地重復使用工作印章■具備工作印章制造能力EVG®770:連續(xù)重復的納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作■用于晶圓級光學器件的微透鏡的高效母模制造,直至SmartNIL®的納米結構■不同類型的母版的簡單實現(xiàn)■可變的光刻膠分配模式■分配,壓印和脫模過程中的實時圖像■用于壓印和脫模的原位力控制吉林納米壓印有誰在用

岱美儀器技術服務(上海)有限公司屬于儀器儀表的高新企業(yè),技術力量雄厚。是一家其他有限責任公司企業(yè),隨著市場的發(fā)展和生產(chǎn)的需求,與多家企業(yè)合作研究,在原有產(chǎn)品的基礎上經(jīng)過不斷改進,追求新型,在強化內(nèi)部管理,完善結構調(diào)整的同時,良好的質量、合理的價格、完善的服務,在業(yè)界受到寬泛好評。公司始終堅持客戶需求優(yōu)先的原則,致力于提供高質量的半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀。岱美中國以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務的理念,打造高指標的服務,引導行業(yè)的發(fā)展。