高校膜厚儀推薦產(chǎn)品

非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在,在兩級之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨(dú)特的，必須有精確的厚度測量。測量厚度時(shí)還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。Filmetrics設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時(shí)測量和輸出每個(gè)要求的硅薄膜參數(shù)，并且“一鍵”出結(jié)果。測量范例多晶硅被廣范用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變，這些特性隨之改變，所以準(zhǔn)確地測量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間，加入二氧化硅層，以增加光學(xué)對比，其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)，以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學(xué)模型被用來測量多晶硅薄膜光學(xué)特性。測量厚度: 15 — 780 μm (單探頭) ； 3 mm (雙探頭總厚度測量)。高校膜厚儀推薦產(chǎn)品

F10-ARc:走在前端以較低的價(jià)格現(xiàn)在可以很容易地測量曲面樣品，包括眼鏡和其他光學(xué)鏡片的防反射涂層,瑾需其他設(shè)備一小部分的的價(jià)格就能在幾秒內(nèi)得到精確的色彩讀值和反射率測量.您也可選擇升級薄膜厚度測量軟件,操作上并不需要嚴(yán)格的訓(xùn)練,您甚至可以直覺的藉由設(shè)定任何波長范圍之蕞大,蕞小和平均值.去定義顏色和反射率的合格標(biāo)準(zhǔn).容易設(shè)定.易於維護(hù).只需將F10-ARc插上到您計(jì)算機(jī)的USB端口,感謝Filmetrics的創(chuàng)新,F10-ARc幾乎不存在停機(jī)時(shí)間,加上40,000小時(shí)壽命的光源和自動板上波長校準(zhǔn)，你不需擔(dān)心維護(hù)問題。芯片膜厚儀樣機(jī)試用測量SU-8 其它厚光刻膠的厚度有特別重要的應(yīng)用。

F50和F60的晶圓平臺提供不同尺寸晶圓平臺。F50晶圓平臺-100mm用于2"、3"和4"晶圓的F50平臺組件。F50晶圓平臺-200mm用于4"、5"、6"和200mm晶圓的F50平臺組件。F50晶圓平臺-300mm用于4"、5"、6"、200mm和300mm晶圓的F50平臺組件。F50晶圓平臺-450mmF50夾盤組件實(shí)用于4",5",6",200mm,300mm,以及450mm毫米晶片。F50晶圓平臺-訂制預(yù)訂F50的晶圓平臺，通常在四星期內(nèi)交貨。F60晶圓平臺-200mm用于4"、5"、6"和200mm晶圓的F60平臺組件。F60晶圓平臺-300mm用于4"、5"、6"、200mm和300mm晶圓的F60平臺組件。

FSM413SPANDFSM413C2C紅外干涉測量設(shè)備適用于所有可讓紅外線通過的材料：硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應(yīng)用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)平整度厚度變化(TTV)溝槽深度過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度粗糙度薄膜厚度不同半導(dǎo)體材料的厚度環(huán)氧樹脂厚度襯底翹曲度晶圓凸點(diǎn)高度(bumpheight)MEMS薄膜測量TSV深度、側(cè)壁角度...FSM413SP半自動機(jī)臺人工取放芯片Wafer厚度3D圖形FSM413C2CFullyautomatic全自動機(jī)臺人工取放芯片可適配Cassette、SMIFPOD、FOUP.幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動測繪。人工加載或機(jī)器人加載均可。

TotalThicknessVariation(TTV)應(yīng)用規(guī)格:測量方式:紅外干涉(非接觸式)樣本尺寸:50、75、100、200、300mm，也可以訂做客戶需要的產(chǎn)品尺寸測量厚度:15—780μm(單探頭)3mm(雙探頭總厚度測量)掃瞄方式:半自動及全自動型號,另2D/3D掃瞄(Mapping)可選襯底厚度測量:TTV、平均值、*小值、*大值、公差...可選粗糙度:20—1000?(RMS)重復(fù)性:0.1μm(1sigma)單探頭*0.8μm(1sigma)雙探頭*分辨率:10nm請?jiān)L問我們的中文官網(wǎng)了解更多關(guān)于本產(chǎn)品的信息。所有的 Filmetrics 型號都能通過精確的光譜反射建模來測量厚度 (和折射率)。上海膜厚儀原理

基板材料: 如果薄膜位于粗糙基板 (大多數(shù)金屬) 上的話，一般不能測量薄膜的折射率。高校膜厚儀推薦產(chǎn)品

平臺和平臺附件標(biāo)準(zhǔn)和磚用平臺。CS-1可升級接觸式SS-3樣品臺，可測波長范圍190-1700nmSS-36“×6”樣品平臺，F(xiàn)20系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置?？烧{(diào)節(jié)鏡頭高度，103mm進(jìn)深。適用所有波長范圍。SS-3-88“×8”樣品平臺?？烧{(diào)節(jié)鏡頭高度，139mm進(jìn)深。適用所有波長范圍。SS-3-24F20的24“×24”樣品平臺?？烧{(diào)節(jié)鏡頭高度，550mm進(jìn)深。適用所有波長范圍。SS-56"x6"吋樣品臺，具有可調(diào)整焦距的反射光學(xué)配件，需搭配具有APC接頭的光纖，全波長范圍使用樣品壓重-SS-3-50樣品壓重SS-3平臺,50mmx50mm樣品壓重-SS-3-110樣品壓重SS-3平臺,110mmx110mm高校膜厚儀推薦產(chǎn)品

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