EVG®6200NT特征:頂部和底部對準(zhǔn)能力高精度對準(zhǔn)臺自動楔形補(bǔ)償序列電動和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術(shù)蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求分步流程指導(dǎo)遠(yuǎn)程技術(shù)支持多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版EVG®6200NT附加功能:鍵對準(zhǔn)紅外對準(zhǔn)智能NIL®μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑(基板尺寸)標(biāo)準(zhǔn)光刻:75至200mm柔軟的UV-NIL:75至200毫米SmartNIL®:蕞多至150mm解析度:≤40nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL®曝光源:汞光源或紫外線LED光源對準(zhǔn):軟NIL:≤±0.5μm;SmartNIL®:≤±3微米自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL®:支持工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL®:支持EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場領(lǐng)仙的晶圓鍵合技術(shù)。高精密儀器納米壓印報(bào)價(jià)
納米壓印光刻(NIL)-SmartNIL®用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝介紹:EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場領(lǐng)仙設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究,開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化,以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。如果要獲得詳細(xì)信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司或者訪問官網(wǎng)。 臺積電納米壓印技術(shù)原理SmartNIL的主要技術(shù)是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。
EVG®720自動SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米,設(shè)有EVG's專有SmartNIL®技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識,能夠大規(guī)模制造微米和納米級結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結(jié)構(gòu),具有無人能比的吞吐量,非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件,例如衍射光學(xué)元件(DOEs)。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細(xì)的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問官網(wǎng),獲得更多信息。
面板廠為補(bǔ)償較低的開口率,多運(yùn)用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù),但此作法的缺點(diǎn)是用電量較高。若運(yùn)用NIL制程,可確保適當(dāng)?shù)拈_口率,降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板,需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時(shí)間長,經(jīng)過多次曝光后,在圖樣間會形成細(xì)微的縫隙,無法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備,可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板,6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示,在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程,是LCD領(lǐng)域中***一個(gè)創(chuàng)新任務(wù)。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時(shí)程,偏光膜企業(yè)的營收可能減少。(來自網(wǎng)絡(luò)。EVG ? 720是自動SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。
EVG®770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。EVG770的主要功能包括精確的對準(zhǔn)功能,完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。EVG ? 770是分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng),使用分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作。掩模對準(zhǔn)納米壓印美元報(bào)價(jià)
SmartNIL集成多次使用的軟標(biāo)記處理功能,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時(shí)保留可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的特點(diǎn)。高精密儀器納米壓印報(bào)價(jià)
SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù),可對小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)無人可比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。注:*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細(xì)的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。高精密儀器納米壓印報(bào)價(jià)
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主營品牌有EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,該公司貿(mào)易型的公司。是一家其他有限責(zé)任公司企業(yè),隨著市場的發(fā)展和生產(chǎn)的需求,與多家企業(yè)合作研究,在原有產(chǎn)品的基礎(chǔ)上經(jīng)過不斷改進(jìn),追求新型,在強(qiáng)化內(nèi)部管理,完善結(jié)構(gòu)調(diào)整的同時(shí),良好的質(zhì)量、合理的價(jià)格、完善的服務(wù),在業(yè)界受到寬泛好評。公司擁有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì),具有半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測量儀等多項(xiàng)業(yè)務(wù)。岱美中國自成立以來,一直堅(jiān)持走正規(guī)化、專業(yè)化路線,得到了廣大客戶及社會各界的普遍認(rèn)可與大力支持。