光學(xué)鏡頭納米壓印原理

IQAlignerUV-NIL特征：用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸，可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝EVG專(zhuān)有的全自動(dòng)浮雕功能抵抗分配站集成粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能IQAlignerUV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型曝光源：汞光源對(duì)準(zhǔn)：≤±0.5微米自動(dòng)分離：支持的前處理：涂層：水坑點(diǎn)膠（可選）迷你環(huán)境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的SmartNIL的主要技術(shù)是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。光學(xué)鏡頭納米壓印原理

EVG®620NT是智能NIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)。用UV納米壓印能力為特色的EVG's專(zhuān)有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù)，在100毫米范圍內(nèi)。EVG620NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以蕞小的占位面積提供了蕞新的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，蕞短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動(dòng)批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專(zhuān)有的SmartNIL技術(shù)。奧地利納米壓印可以免稅嗎EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線。

對(duì)于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到最大直徑150mm。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機(jī)構(gòu)。EVGroup專(zhuān)有的卡盤(pán)設(shè)計(jì)可提供均勻的接觸力，以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤(pán)支持軟性和硬性印模。EVG610特征：頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制電動(dòng)和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術(shù)蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求分步流程指導(dǎo)遠(yuǎn)程技術(shù)支持多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶界面語(yǔ)言）敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版附加功能：鍵對(duì)準(zhǔn)紅外對(duì)準(zhǔn)納米壓印光刻μ接觸印刷

EVG®6200NT是SmartNILUV納米壓印光刻系統(tǒng)。用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專(zhuān)有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù)范圍達(dá)150m。這些系統(tǒng)以其自動(dòng)化的靈活性和可靠性而著稱(chēng)，以蕞小的占地面積提供了蕞新的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，蕞短的掩模和工具更換時(shí)間以及高效的全球服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動(dòng)批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專(zhuān)有的SmartNIL技術(shù)。EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。

   面板廠為補(bǔ)償較低的開(kāi)口率，多運(yùn)用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù)，但此作法的缺點(diǎn)是用電量較高。若運(yùn)用NIL制程，可確保適當(dāng)?shù)拈_(kāi)口率，降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過(guò)數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時(shí)間長(zhǎng)，經(jīng)過(guò)多次曝光后，在圖樣間會(huì)形成細(xì)微的縫隙，無(wú)法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程，是LCD領(lǐng)域中***一個(gè)創(chuàng)新任務(wù)。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時(shí)程，偏光膜企業(yè)的營(yíng)收可能減少。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò)。EVG的納米壓印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。上海納米壓印試用

SmartNIL 非常適合對(duì)具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。光學(xué)鏡頭納米壓印原理

   NIL系統(tǒng)肖特增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)負(fù)責(zé)人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴(kuò)展到300-mm，對(duì)于實(shí)現(xiàn)我們客戶滿足當(dāng)今和未來(lái)領(lǐng)仙AR/MR設(shè)備不斷增長(zhǎng)的市場(chǎng)需求所需的規(guī)模經(jīng)濟(jì)產(chǎn)量來(lái)說(shuō)至關(guān)重要。通過(guò)攜手合作，EVG和肖特彰顯了當(dāng)今300-mm高折射率玻璃制造的設(shè)備和供應(yīng)鏈的就緒性。”在此之前，使用光刻/納米壓印技術(shù)對(duì)具有光子學(xué)應(yīng)用結(jié)構(gòu)的玻璃基板進(jìn)行圖案成形瑾限于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設(shè)備推向大眾消費(fèi)和工業(yè)市場(chǎng)邁出的重要一步。不過(guò)，在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進(jìn)的自動(dòng)化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術(shù)得益于多年的研究、開(kāi)發(fā)和實(shí)驗(yàn)，旨在滿足納米圖案成形的需求，經(jīng)過(guò)了現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證，能夠輕松從晶圓級(jí)樣品尺寸擴(kuò)展到大面積基板。去年六月，EVG推出了HERCULES®NIL300mm，將SmartNIL引入300-mm制造，滿足各種設(shè)備和應(yīng)用的生產(chǎn)需求，其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實(shí)（VR）頭戴顯示設(shè)備的光學(xué)器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設(shè)備、納米光子學(xué)和等離子電子學(xué)。集成到SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG®HERCULES®。光學(xué)鏡頭納米壓印原理

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