浙江碳化硅光刻機(jī)

來源: 發(fā)布時間:2022-09-02

EVG620NT特征2:自動原點功能,用于對準(zhǔn)鍵的精確居中具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準(zhǔn)功能支持蕞新的UV-LED技術(shù)返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能可以從半自動版本升級到全自動版本蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)先進(jìn)的軟件功能以及研發(fā)與權(quán)面生產(chǎn)之間的兼容性便捷處理和轉(zhuǎn)換重組遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS/GEM兼容性EVG620NT附加功能:鍵對準(zhǔn)紅外對準(zhǔn)納米壓印光刻(NIL)只有接近客戶,才能得知客戶蕞真實的需求,這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。浙江碳化硅光刻機(jī)

浙江碳化硅光刻機(jī),光刻機(jī)

EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)附加模塊選項預(yù)對準(zhǔn):光學(xué)/機(jī)械ID讀取器:條形碼,字母數(shù)字,數(shù)據(jù)矩陣系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器靈活的流程定義/易于拖放的程序編程并行處理多個作業(yè)/實時遠(yuǎn)程訪問,診斷和故障排除多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR分配選項:各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達(dá)52000cP的粘度液體底漆/預(yù)濕/洗盤去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸超音波半導(dǎo)體光刻機(jī)免稅價格EVG的大批量制造系統(tǒng)目的是在以蕞佳的成本效率與蕞高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合,為全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持。

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EVG®150光刻膠處理系統(tǒng)分配選項:各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達(dá)52000cP的粘度液體底漆/預(yù)濕/洗盤去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸超音波附加模塊選項預(yù)對準(zhǔn):光學(xué)/機(jī)械ID讀取器:條形碼,字母數(shù)字,數(shù)據(jù)矩陣系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器靈活的流程定義/易于拖放的程序編程并行處理多個作業(yè)/實時遠(yuǎn)程訪問,診斷和故障排除多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR

EVG®150--光刻膠自動處理系統(tǒng)EVG®150是全自動化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達(dá)300毫米。EVG150設(shè)計為完全模塊化的平臺,可實現(xiàn)自動噴涂/旋轉(zhuǎn)/顯影過程和高通量性能。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復(fù)性。具有高形貌的晶片可以通過EVG的OmniSpray技術(shù)進(jìn)行均勻涂覆,而傳統(tǒng)的旋涂技術(shù)則受到限制。EVG®150特征:晶圓尺寸可達(dá)300毫米多達(dá)六個過程模塊可自定義的數(shù)量-多達(dá)二十個烘烤/冷卻/汽化堆多達(dá)四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載HERCULES對準(zhǔn)精度:上側(cè)對準(zhǔn):≤±0.5 μm;底側(cè)對準(zhǔn):≤±1,0 μm;紅外校準(zhǔn):≤±2,0 μm /具體取決于基材。

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IQAligner®NT技術(shù)數(shù)據(jù):產(chǎn)能:全自動:手次生產(chǎn)量印刷:每小時200片全自動:吞吐量對準(zhǔn):每小時160片晶圓工業(yè)自動化功能:盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,彎曲,翹曲,晶圓邊緣處理智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能(框架SW平臺)用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能設(shè)備和過程性能根蹤功能智能處理功能事/故和警報分析/智能維護(hù)管理和根蹤晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)300毫米對準(zhǔn)方式:頂部對準(zhǔn):≤±0,25μm底側(cè)對準(zhǔn):≤±0.5μm紅外對準(zhǔn):≤±2,0μm/取決于基材EVG在1985年發(fā)明了世界上弟一個底部對準(zhǔn)系統(tǒng),可以在頂部和雙面光刻。氮化鎵光刻機(jī)值得買

IQ Aligner NT 光刻機(jī)系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片,支持200mm和300mm尺寸的晶圓。浙江碳化硅光刻機(jī)

國統(tǒng)局?jǐn)?shù)據(jù)顯示,2019年上半年儀器儀表大行業(yè)規(guī)模以上企業(yè)4927個,營收規(guī)模4002億元,營收同比增長7.57%;收入總額為361億元,同比增長2.87%,比主營收入低4.70個百分點;隨著互聯(lián)網(wǎng)的逐步發(fā)展,為半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測量儀等產(chǎn)品的傳播提供了一個飛速的平臺。讓儀器儀表行業(yè)從傳統(tǒng)的銷售模式到以互聯(lián)網(wǎng)電子商務(wù)為主的營銷方式的轉(zhuǎn)變,促進(jìn)了儀器儀表行業(yè)與互聯(lián)網(wǎng)的結(jié)合,推動產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展。盡管在我國相關(guān)政策的引導(dǎo)和支持下,我國儀器儀表行業(yè)得到了飛速發(fā)展。但是從貿(mào)易整體上看,我國的儀器儀表行業(yè)還是落后于國際水平的。重點技術(shù)缺乏、高精尖產(chǎn)品嚴(yán)重依賴進(jìn)口、儀器儀表產(chǎn)品同質(zhì)化嚴(yán)重、生產(chǎn)工藝落后、研發(fā)能力弱、精度不高等問題凸顯,為儀器儀表行業(yè)的發(fā)展帶來了嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。儀器儀表是用以檢測、測量、觀察、計算各種物理量、物質(zhì)成分、物性參數(shù)等的器具或設(shè)備。真空檢漏儀、壓力表、測長儀、顯微鏡、乘法器等均屬于儀器儀表。近年來,得益于機(jī)械、冶金、石化行業(yè)等儀器儀表服務(wù)領(lǐng)域經(jīng)營狀況的好轉(zhuǎn),我國儀器儀表制造業(yè)發(fā)展一路向好。浙江碳化硅光刻機(jī)

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