中國香港光刻機中芯在用嗎

來源: 發(fā)布時間:2022-09-17

EVG620NT或完全容納的EVG620NTGen2掩模對準系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能,可在各種應(yīng)用中實現(xiàn)出色的曝光效果,例如,對薄而厚的光刻膠進行曝光,對深腔進行構(gòu)圖并形成可比的形貌,以及對薄而易碎的材料(例如化合物半導(dǎo)體)進行加工。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。EVG620NT特征:晶圓/基板尺寸從小到150mm/6''系統(tǒng)設(shè)計支持光刻工藝的多功能性易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時間短帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列EVG光刻機關(guān)注未來市場趨勢 - 例如光子學(xué) 、光學(xué)3D傳感- 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案。中國香港光刻機中芯在用嗎

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EVG®150--光刻膠自動處理系統(tǒng)

EVG®150是全自動化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達300毫米。

EVG150設(shè)計為完全模塊化的平臺,可實現(xiàn)自動噴涂/旋轉(zhuǎn)/顯影過程和高通量性能。

EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復(fù)性。

具有高形貌的晶片可以通過EVG的OmniSpray技術(shù)進行均勻涂覆,而傳統(tǒng)的旋涂技術(shù)則受到限制。

EVG®150特征:晶圓尺寸可達300毫米多達六個過程模塊可自定義的數(shù)量-多達二十個烘烤/冷卻/汽化堆多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載 低溫光刻機實際價格EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,直徑從2寸到300 mm。

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EVG曝光光學(xué):專門開發(fā)的分辨率增強型光學(xué)元件(REO)可提供高出50%的強度,并顯著提高/分辨率,在接近模式下可達到小于3μm的分辨率。REO的特殊設(shè)計有助于控制干涉效應(yīng)以獲得分辨率。EVG蕞新的曝光光學(xué)增強功能是LED燈設(shè)置。低能耗和長壽命是UV-LED光源的蕞大優(yōu)勢,因為不需要預(yù)熱或冷卻。在用戶軟件界面中可以輕松、實際地完成曝光光譜設(shè)置。此外,LED需要瑾在曝光期間供電,并且該技術(shù)消除了對汞燈經(jīng)常需要的額外設(shè)施(廢氣,冷卻氣體)和更換燈的需要。這種理想的組合不僅可以蕞大限度地降低運行和維護成本,還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性。

這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝,這不僅需要高度的靈活性,而且需要可控和可重復(fù)的處理。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗,并將這些知識技能整合到EVG100系列中,可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持。光刻膠處理設(shè)備有:EVG101光刻膠處理,EVG105光刻膠烘焙機,EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng);EVG150光刻膠處理自動化系統(tǒng)。如果您需要了解每個型號的特點和參數(shù),請聯(lián)系我們,我們會給您提供蕞新的資料?;蛘咴L問我們的官網(wǎng)獲取相關(guān)信息。EVG150光刻膠處理系統(tǒng)擁有:Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口。

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EVG®150特征2:先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能,可確保連續(xù)的高產(chǎn)量處理厚或超薄,易碎,彎曲或小直徑的晶圓用于旋涂和噴涂,顯影,烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應(yīng)用領(lǐng)域提供了巨大的機會EFEM(設(shè)備前端模塊)和可選的FSS(FOUP存儲系統(tǒng))工藝技術(shù)桌越和開發(fā)服務(wù):多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[FrameworkSWPlatform]用于過程和機器控制的集成分析功能設(shè)備和過程性能根蹤功能并行/排隊任務(wù)處理功能智能處理功能發(fā)生和警報分析智能維護管理和根蹤HERCULES平臺是“一站式服務(wù)”平臺。低溫光刻機實際價格

EVG的代理商岱美儀器能在全球范圍內(nèi)提供服務(wù)。中國香港光刻機中芯在用嗎

IQAligner®NT曝光設(shè)定:硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式楔形補償:全自動軟件控制;非接觸式IQAligner®NT曝光選項:間隔曝光/洪水曝光先進的對準功能:自動對準暗場對準功能/完整的明場掩模移動(FCMM)大間隙對準跳動控制對準IQAligner®NT系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR實時遠程訪問,診斷和故障排除如果您需要確認準確的產(chǎn)品的信息,請聯(lián)系我們。如果需要鍵合機,請看官網(wǎng)信息。中國香港光刻機中芯在用嗎

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