中國(guó)香港納米壓印代理價(jià)格

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-10-11

HERCULES®NIL特征:全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺(tái),具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊(壓印和預(yù)處理)200毫米/300毫米橋接工具能力全區(qū)域烙印覆蓋批量生產(chǎn)蕞小40nm或更小的結(jié)構(gòu)支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D適用于高地形(粗糙)表面*分辨率取決于過(guò)程和模板HERCULES®NIL技術(shù)數(shù)據(jù):晶圓直徑(基板尺寸):100至200毫米/200和300毫米解析度:≤40nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:SmartNIL®曝光源:大功率LED(i線(xiàn))>400mW/cm2對(duì)準(zhǔn):≤±3微米自動(dòng)分離:支持的前處理:提供所有預(yù)處理模塊迷你環(huán)境和氣候控制:可選的工作印章制作:支持的EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。中國(guó)香港納米壓印代理價(jià)格

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HERCULES®NIL:完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實(shí)現(xiàn)300mm的大批量生產(chǎn)■批量生產(chǎn)低至40nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸(分辨率取決于過(guò)程和模板)■結(jié)合了預(yù)處理(清潔/涂布/烘烤/冷卻)和SmartNIL®技術(shù)■全自動(dòng)壓印和受控的低力分離,可蕞大程度地重復(fù)使用工作印章■具備工作印章制造能力EVG®770:連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作■用于晶圓級(jí)光學(xué)器件的微透鏡的高效母模制造,直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)■不同類(lèi)型的母版的簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn)■可變的光刻膠分配模式■分配,壓印和脫模過(guò)程中的實(shí)時(shí)圖像■用于壓印和脫模的原位力控制河南納米壓印價(jià)格怎么樣EVG ? 720是自動(dòng)SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

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IQAlignerUV-NIL特征:用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸,可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝EVG專(zhuān)有的全自動(dòng)浮雕功能抵抗分配站集成粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線(xiàn)粘合功能IQAlignerUV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù):晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米解析度:≤50nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型曝光源:汞光源對(duì)準(zhǔn):≤±0.5微米自動(dòng)分離:支持的前處理:涂層:水坑點(diǎn)膠(可選)迷你環(huán)境和氣候控制:可選的工作印章制作:支持的

   首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過(guò)“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開(kāi)母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起,獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性,剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。因此,利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板,經(jīng)過(guò)表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線(xiàn)寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志》(JournalofNanoscienceandNanotechnology)。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò)。分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。

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納米壓印光刻(NIL)-SmartNIL®用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝介紹:EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場(chǎng)領(lǐng)仙設(shè)備供應(yīng)商。EVG開(kāi)拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,掌握了NIL并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專(zhuān)有SmartNIL技術(shù)通過(guò)多年的研究,開(kāi)發(fā)和現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化,以解決常規(guī)光刻無(wú)法滿(mǎn)足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。如果要獲得詳細(xì)信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司或者訪(fǎng)問(wèn)官網(wǎng)。 EVG ? 610也可以設(shè)計(jì)成紫外線(xiàn)納米壓印光刻系統(tǒng)。EVG7200納米壓印技術(shù)支持

EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。中國(guó)香港納米壓印代理價(jià)格

   NIL300mmEV集團(tuán)企業(yè)技術(shù)開(kāi)發(fā)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)總監(jiān)MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,為光刻/納米壓印技術(shù)供應(yīng)鏈中的各個(gè)合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個(gè)開(kāi)放式的創(chuàng)新孵化器,從而縮短創(chuàng)新光子器件和應(yīng)用的開(kāi)發(fā)周期和上市時(shí)間。我們很高興與肖特公司合作,證明EVG光刻/納米壓印技術(shù)解決方案的價(jià)值,不僅有助于新技術(shù)和新工藝的開(kāi)發(fā),還能夠加速新技術(shù)和新工藝在大眾市場(chǎng)中的采用。我們正在攜手肖特開(kāi)展的工作,彰顯了光刻/納米壓印技術(shù)設(shè)備和工藝的成熟性,為各種令人興奮的基于光子學(xué)的新產(chǎn)品和新應(yīng)用的300-mm制造奠定了基礎(chǔ)?!盨CHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是領(lǐng)仙AR/MR設(shè)備的關(guān)鍵組件,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。產(chǎn)品組合提供了高達(dá),支持深度沉浸的AR/MR應(yīng)用,視野更廣,高達(dá)65度。在與增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)硬件制造商進(jìn)行多年研發(fā)之后,肖特在2018年推出了弟一代SCHOTTRealView?。這款膏端產(chǎn)品在上市一年后便榮獲了享有盛譽(yù)的2019年SID顯示行業(yè)獎(jiǎng)(SIDDisplayIndustryAward2019)。關(guān)于肖特肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關(guān)高科技材料領(lǐng)域的領(lǐng)仙國(guó)際技術(shù)集團(tuán)。公司積累了超過(guò)130年的經(jīng)驗(yàn),是眾多行業(yè)的創(chuàng)新合作伙伴。中國(guó)香港納米壓印代理價(jià)格

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