集成電路故障分析故障分析(FA)技術用來尋找并確定集成電路內(nèi)的故障原因。故障分析中需要進行薄膜厚度測量的兩種主要類型是正面去層(用于傳統(tǒng)的面朝上的電路封裝)和背面薄化(用于較新的覆晶技術正面朝下的電路封裝)。正面去層正面去層的工藝需要了解電介質(zhì)薄化后剩余電介質(zhì)的厚度。背面故障分析背面故障分析需要在電路系統(tǒng)成像前移除大部分硅晶粒的厚度,并了解在每個薄化步驟后剩余的硅厚度是相當關鍵的。FilmetricsF3-sX是為了測量在不同的背面薄化過程的硅層厚度而專門設計的系統(tǒng)。厚度從5微米到1000微米能夠很容易的測量,另外可選配模組來延伸蕞小測量厚度至0.1微米,同時具有單點和多點測繪的版本可供選擇。測量范例現(xiàn)在我們使用我們的F3-s1550系統(tǒng)測量在不同的背面薄化過程的硅層厚度.具備特殊光學設計之F3-S1550利用比直徑更小於10μm的光斑尺寸得以測量拋光以及粗糙或不均勻表面的硅層厚度系統(tǒng)測試應力的精度小于15mpa (0.03cm-1) ,全自動的200mm和300mm硅片檢查,自動檢驗和聚焦的能力。測厚儀膜厚儀推薦型號
厚度標準:所有Filmetrics厚度標準都是得到驗證可追溯的NIST標準。S-Custom-NIST:在客戶提供的樣品上定制可追溯的NIST厚度校準。TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si:厚度標準,外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準,厚度大約3100A,4"晶圓。TS-Focus-SiO2-4-10000SiO2-on-Si:厚度標準,外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準,厚度大約10000A,4"晶圓。TS-Hardcoat-4μm:丙烯酸塑料硬涂層厚度標準,厚度大約4um,直徑2"。TS-Hardcoat-Trans:背面透明的硬涂層,可用于透射測量。TS-Parylene-4um:丙烯酸塑料上的聚對二甲苯厚度標準,厚度大約4um,直徑2"。TS-Parylene-8um:硅基上的聚對二甲苯厚度標準,厚度大約8um,23mmx23mm。TS-SiO2-4-7200:硅基上的二氧化硅厚度標準,厚度大約7200A,4"晶圓。TS-SiO2-4-7200-NIST:可追溯的NISTSiO2-4-7200厚度標準。TS-SiO2-6-Multi:多厚度硅基上的二氧化硅標準:125埃米,250埃米,500埃米,1000埃米,5000埃米,和10000埃米(+/-10%誤差),6英寸晶圓。TS-SS3-SiO2-8000:專為SS-3樣品平臺設計之二氧化硅厚度標準片,厚度大約為8000A。官方授權分銷膜厚儀應用可選粗糙度: 20 — 1000? (RMS)。
鏡頭組件Filmetrics提供幾十種不同鏡頭配置。訂制專門用途的鏡片一般在幾天之內(nèi)可以完成。LA-GL25-25-30-EXR用于60-1000mm工作距離的直徑1"鏡頭組件,30mm焦距鏡頭。KM-GL25用于直徑1"鏡頭的簡化動力支架??梢栽趦蓚€軸上斜向調(diào)節(jié)。8-32安裝螺紋。KM-F50用于直徑0.5"鏡頭的簡化動力支架。還可以用于F50??商峁┎煌溺R頭組合。LA-F50/SS-13-20-UVX小光斑(200um)選項,可見光,近紅外或紫外線。如果您想要了解更多的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器。
硬涂層厚度測量Filmetrics系統(tǒng)在汽車和航空工業(yè)得到廣泛應用,用于測量硬涂層和其他保護性薄膜的厚度。F10-HC是為彎曲表面和多層薄膜(例如,底涂/硬涂層)而專門設計的。汽車前燈在汽車前燈組件的制造中需要進行多點測量,因為涂層厚度對于品質(zhì)至關重要。外側(cè)硬涂層和聚碳酸酯鏡頭內(nèi)側(cè)的防霧層以及反射器上的涂層的厚度都是很重要的。這些用途中的每一項是特殊的挑戰(zhàn),而Filmetrics已經(jīng)開發(fā)出軟件、硬件和應用知識以便為用戶提供正確的解決方案。測量范例帶HC選項的F10-AR收集測量厚度的反射率信息。這款儀器采用光學接觸探頭,它的設計降低了背面反射。接觸探頭安置在亞克力表明。FILMeature軟件自動分析收集的光譜信息,給出涂層厚度。在這個例子中,亞克力板上還有一層與硬涂層折射率非常近似的底漆。Filmetrics 提供一系列的和測繪系統(tǒng)來測量 3nm 到 1mm 的單層、 多層、 以及單獨的光刻膠薄膜。
FSM8018VITE測試系列設備VITE技術介紹:VITE是傅里葉頻域技術,利用近紅外光源的相位剪切技術(Phasesheartechnology)設備介紹適用于所有可讓近紅外線通過的材料:硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)平整度厚度變化(TTV)溝槽深度過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度粗糙度薄膜厚度不同半導體材料的厚度環(huán)氧樹脂厚度襯底翹曲度晶圓凸點高度(bumpheight)MEMS薄膜測量TSV深度、側(cè)壁角度...F40-EXR范圍:20nm-120μm;波長:400-1700nm。官方授權分銷膜厚儀應用
所有的 Filmetrics 型號都能通過精確的光譜反射建模來測量厚度 (和折射率)。測厚儀膜厚儀推薦型號
銦錫氧化物與透明導電氧化物液晶顯示器,有機發(fā)光二極管變異體,以及絕大多數(shù)平面顯示器技術都依靠透明導電氧化物(TCO)來傳輸電流,并作每個發(fā)光元素的陽極。和任何薄膜工藝一樣,了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關重要。對于液晶顯示器而言,就需要有測量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法,對有機發(fā)光二極管而言,則需要測量發(fā)光、電注入和封裝層的厚度。在測量任何多個層次的時候,諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學技術需要測量或建模估算每一個層次的厚度和光學常數(shù)(反射率和k值)。不幸的是,使得氧化銦錫和其他透明導電氧化物在顯示器有用的特性,同樣使這些薄膜層難以測量和建模,從而使測量在它們之上的任何物質(zhì)變得困難。Filmetrics的氧化銦錫解決方案Filmetrics已經(jīng)開發(fā)出簡便易行而經(jīng)濟有效的方法,利用光譜反射率精確測量氧化銦錫。將新型的氧化銦錫模式和F20-EXR,很寬的400-1700nm波長相結(jié)合,從而實現(xiàn)氧化銦錫可靠的“一鍵”分析。氧化銦錫層的特性一旦得到確定,剩余顯示層分析的關鍵就解決了。測厚儀膜厚儀推薦型號
岱美儀器技術服務(上海)有限公司是一家集生產(chǎn)科研、加工、銷售為一體的****,公司成立于2002-02-07,位于金高路2216弄35號6幢306-308室。公司誠實守信,真誠為客戶提供服務。公司主要經(jīng)營半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀等產(chǎn)品,我們依托高素質(zhì)的技術人員和銷售隊伍,本著誠信經(jīng)營、理解客戶需求為經(jīng)營原則,公司通過良好的信譽和周到的售前、售后服務,贏得用戶的信賴和支持。公司與行業(yè)上下游之間建立了長久親密的合作關系,確保半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀在技術上與行業(yè)內(nèi)保持同步。產(chǎn)品質(zhì)量按照行業(yè)標準進行研發(fā)生產(chǎn),絕不因價格而放棄質(zhì)量和聲譽。EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB秉承著誠信服務、產(chǎn)品求新的經(jīng)營原則,對于員工素質(zhì)有嚴格的把控和要求,為半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀行業(yè)用戶提供完善的售前和售后服務。