電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學,半導體,以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。常見的電介質(zhì)有:二氧化硅 – 蕞簡單的材料之一, 主要是因為它在大部分光譜上的無吸收性 (k=0), 而且非常接近化學計量 (就是說,硅:氧非常接近 1:2)。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應規(guī)范,通常被用來做厚度和折射率標準。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 對此薄膜的測量比很多電介質(zhì)困難,因為硅:氮比率通常不是3:4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時測量。 更麻煩的是,氧常常滲入薄膜,生成一定程度的氮氧化硅,增大測量難度。 但是幸運的是,我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內(nèi) “一鍵” 測量氮化硅薄膜完整特征!要想成功測量光刻膠要面對一些獨特的挑戰(zhàn), 而 Filmetrics 自動測量系統(tǒng)成功地解決這些問題。Filmetrics F50膜厚儀美元價
參考材料備用BK7和二氧化硅參考材料。BG-Microscope顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)取背景反射的小型抗反光鏡BG-F10-RT平臺系統(tǒng)內(nèi)獲取背景反射的抗反光鏡REF-Al-1mmSubstrate基底-高反射率鋁基準REF-Al-3mmSubstrate基底-高反射率鋁基準REF-BK71?"x1?"BK7反射基準。REF-F10RT-FusedSilica-2Side背面未經(jīng)處理的石英,用于雙界面基準。REF-Si-22"單晶硅晶圓REF-Si-44"單晶硅晶圓REF-Si-66"單晶硅晶圓REF-Si-88"單晶硅晶圓REF-SS3-Al專為SS-3樣品平臺設計之鋁反射率基準片REF-SS3-BK7專為SS-3樣品平臺設計之BK7玻璃反射率基準片REF-SS3-Si專為SS-3樣品平臺設計之硅反射率基準片薄膜厚度測量儀膜厚儀聯(lián)系電話不同的 F50 儀器是根據(jù)波長范圍來加以區(qū)分的。
光纖紫外線、可見光譜和近紅外備用光纖。接觸探頭是相當堅固的,但是光纖不能經(jīng)常被抽屜碰撞或者被椅子壓過。該套件包括指令,以及簡單的維修工具,新的和舊風格的探頭。FO-PAT-SMA-SMA-200-22米長,直徑200um的光纖,兩端配備SMA接頭。米長,分叉反射探頭。通用附件攜帶箱等。手提電腦手提電腦預裝FILMeasure軟件、XP和Microsoft辦公軟件。電腦提箱用于攜帶F10、F20、F30和F40系統(tǒng)的提箱。ConflatFeedthrough真空穿通,"conflat、雙出入孔SMA,并通過泄漏測試。LensPaper-CenterHole中間開孔鏡頭紙,用于保護面朝下的樣品,5本各100張。
厚度測量產(chǎn)品:我們的膜厚測量產(chǎn)品可適用于各種應用。我們大部分的產(chǎn)品皆備有庫存以便快速交貨。請瀏覽本公司網(wǎng)頁產(chǎn)品資訊或聯(lián)系我們的應用工程師針對您的厚度測量需求提供立即協(xié)助。單點厚度測量:一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統(tǒng)。測量1nm到13mm的單層薄膜或多層薄膜堆。大多數(shù)產(chǎn)品都有庫存而且可立即出貨。F20全世界銷量蕞hao的薄膜測量系統(tǒng)。有各種不同附件和波長覆蓋范圍。微米(顯微)級別光斑尺寸厚度測量當測量斑點只有1微米(μm)時,需要用您自己的顯微鏡或者用我們提供的整個系統(tǒng)。以真空鍍膜為設計目標,F(xiàn)10-RT 只要單擊鼠標即可獲得反射和透射光譜。
F40系列包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置FILMeasure8軟件FILMeasure讀立軟件(用于遠程數(shù)據(jù)分析)MA-Cmount安裝轉(zhuǎn)接器顯微鏡轉(zhuǎn)接器光纖連接線BK7參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000厚度標準聚焦/厚度標準BG-Microscope(作為背景基準)額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫,隨著不同應用更超過數(shù)百種應用工程師可立刻提供幫助(周一-周五)網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃如果需要了解更多的信息,請訪問我們官網(wǎng)或者聯(lián)系我們??蓽y量的層數(shù): 通常能夠測量薄膜堆內(nèi)的三層獨力薄膜。 在某些情況下,能夠測量到十幾層。折射率膜厚儀醫(yī)療設備
一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統(tǒng)。 測量 1nm 到 13mm 的單層薄膜或多層薄膜堆。Filmetrics F50膜厚儀美元價
FSM膜厚儀簡單介紹:FSM128厚度以及TSV和翹曲變形測試設備:美國FrontierSemiconductor(FSM)成立于1988年,總部位于圣何塞,多年來為半導體行業(yè)等高新行業(yè)提供各式精密的測量設備,客戶遍布全世界,主要產(chǎn)品包括:光學測量設備:三維輪廓儀、拉曼光譜、薄膜應力測量設備、紅外干涉厚度測量設備、電學測量設備:高溫四探針測量設備、非接觸式片電阻及漏電流測量設備、金屬污染分析、等效氧化層厚度分析(EOT)。請訪問我們的中文官網(wǎng)了解更多的信息。Filmetrics F50膜厚儀美元價
岱美中國,2002-02-07正式啟動,成立了半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀等幾大市場布局,應對行業(yè)變化,順應市場趨勢發(fā)展,在創(chuàng)新中尋求突破,進而提升EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB的市場競爭力,把握市場機遇,推動儀器儀表產(chǎn)業(yè)的進步。岱美中國經(jīng)營業(yè)績遍布國內(nèi)諸多地區(qū)地區(qū),業(yè)務布局涵蓋半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀等板塊。我們強化內(nèi)部資源整合與業(yè)務協(xié)同,致力于半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀等實現(xiàn)一體化,建立了成熟的半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀運營及風險管理體系,累積了豐富的儀器儀表行業(yè)管理經(jīng)驗,擁有一大批專業(yè)人才。岱美儀器技術(shù)服務(上海)有限公司業(yè)務范圍涉及磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務,國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務信息咨詢服務 等多個環(huán)節(jié),在國內(nèi)儀器儀表行業(yè)擁有綜合優(yōu)勢。在半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀等領域完成了眾多可靠項目。