Nano X-3000輪廓儀值得買

   比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本，復(fù)雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度，使得橢偏儀對超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動(dòng)光學(xué)儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng)（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱）。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的手選，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。光學(xué)系統(tǒng)：同軸照明無限遠(yuǎn)干涉成像系統(tǒng)。Nano X-3000輪廓儀值得買

輪廓儀、粗糙度儀、三坐標(biāo)的區(qū)別關(guān)于輪廓儀和粗糙度儀輪廓儀與粗糙度儀不是同一種產(chǎn)品，輪廓儀主要功能是測量零件表面的輪廓形狀，比如：汽車零件中的溝槽的槽深、槽寬、倒角（包括倒角位置、倒角尺寸、角度等），圓柱表面素線的直線度等參數(shù)。總之，輪廓儀反映的是零件的宏觀輪廓。粗糙度儀的功能是測量零件表面的磨加工/精車加工工序的表面加工質(zhì)量，通俗地講，就是零件表面加工得光不光（粗糙度老國標(biāo)叫光潔度），即粗糙度反映的是零件加工表面的微觀情況。關(guān)于三坐標(biāo)測量輪廓度及粗糙度三坐標(biāo)測量機(jī)是不能測量粗糙度的，至于測量零件的表面輪廓，要視三坐標(biāo)的測量精度及零件表面輪廓度的要求了，如果你的三坐標(biāo)測量機(jī)精度比較高，但零件輪廓度要求不可，是可以用三坐標(biāo)來代替的。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右，而輪廓儀都在2um以內(nèi)，還有就是三坐標(biāo)可以測量大尺寸零件的輪廓，因?yàn)樗旋堥T式三坐標(biāo)和關(guān)節(jié)臂三坐標(biāo)，而輪廓儀主要是用來測量一些小的精密零件輪廓尺寸的，加上粗糙度模塊也可以測量粗糙度。光電輪廓儀價(jià)格怎么樣NanoX-8000的XY光柵分辨率 0.1um，定位精度 5um，重復(fù)精度 1um。

輪廓儀的自動(dòng)拼接功能：條件：被測區(qū)域明顯大于視場的區(qū)域，使用自動(dòng)圖片拼接。需要點(diǎn)擊自動(dòng)拼接，輪廓儀會(huì)把移動(dòng)路徑上的拍圖自動(dòng)拼接起來。軟件會(huì)自適應(yīng)計(jì)算路徑上移動(dòng)的偏差，自動(dòng)消除移動(dòng)中偏差，減小誤差。但是誤差是一定存在的。白光輪廓儀的典型應(yīng)用：對各種產(chǎn)品，不見和材料表面的平面度，粗糙度，波溫度，面型輪廓，表面缺陷，磨損情況，腐蝕情況，孔隙間隙，臺(tái)階高度，完全變形情況，加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測量和分析。

NanoX-8000系統(tǒng)主要性能?菜單式系統(tǒng)設(shè)置，一鍵式操作，自動(dòng)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)?一鍵式系統(tǒng)校準(zhǔn)?支持連接MES系統(tǒng)，數(shù)據(jù)可導(dǎo)入SPC?具備異常報(bào)警，急停等功能，報(bào)警信息可儲(chǔ)存?MTBF≥1500hrs?產(chǎn)能:45s/點(diǎn)（移動(dòng)+聚焦+測量）（掃描范圍50um）?具備Globalalignment&Unitalignment?自動(dòng)聚焦范圍：±0.3mm?XY運(yùn)動(dòng)速度蕞快如果需要了解更多詳細(xì)參數(shù)，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。我們主要經(jīng)營鍵合機(jī)、光刻機(jī)、輪廓儀，隔振臺(tái)等設(shè)備。幾何特征（關(guān)鍵孔徑尺寸，曲率半徑，特征區(qū)域的面積和集體，特征圖形的位置和數(shù)量等）。

輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應(yīng)用：晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程，其中由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小，任何微小的黏附異物和下次均會(huì)導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺陷，因此必須對光罩和晶圓的表面輪廓進(jìn)行檢測，檢測相應(yīng)的輪廓尺寸。

白光輪廓儀的典型應(yīng)用：對各種產(chǎn)品，不見和材料表面的平面度，粗糙度，波溫度，面型輪廓，表面缺陷，磨損情況，腐蝕情況，孔隙間隙，臺(tái)階高度，完全變形情況，加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測量和分析。 但是在共焦圖像中，通過多珍孔盤的操作濾除模糊細(xì)節(jié)（未聚焦），只有來自聚焦平面的光到達(dá)CCD相機(jī)。Nano X-3000輪廓儀值得買

NanoX-8000 的XY 平臺(tái)蕞大移動(dòng)速度：200mm/s 。Nano X-3000輪廓儀值得買

超納輪廓儀的主設(shè)計(jì)簡介:中組部第十一批“****”****，美國KLA-Tencor（集成電路行業(yè)檢測設(shè)備市場的籠頭企業(yè)）資申研發(fā)總監(jiān)，干涉測量技術(shù)**美國上市公司ADE-Phaseift的總研發(fā)工程師，創(chuàng)造多項(xiàng)干涉測量數(shù)字化所需的關(guān)鍵算法，在光測領(lǐng)域發(fā)表23個(gè)美國專利和35篇學(xué)術(shù)論文3個(gè)研發(fā)的產(chǎn)品獲得大獎(jiǎng)，國家教育部弟一批公派研究生,83年留學(xué)美國。光學(xué)輪廓儀可廣泛應(yīng)用于各類精密工件表面質(zhì)量要求極高的如：半導(dǎo)體、微機(jī)電、納米材料、生物醫(yī)療、精密涂層、科研院所、航空航天等領(lǐng)域?？梢哉f只要是微型范圍內(nèi)重點(diǎn)部位的納米級(jí)粗糙度、輪廓等參數(shù)的測量，除了三維光學(xué)輪廓儀，沒有其它的儀器設(shè)備可以達(dá)到其精度要求。（網(wǎng)絡(luò)）。Nano X-3000輪廓儀值得買

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