化合物半導體光刻機國內代理

來源: 發(fā)布時間:2023-07-25

EVG®120--光刻膠自動化處理系統EVG

®120是用于當潔凈室空間有限,需要生產一種緊湊的,節(jié)省成本光刻膠處理系統。

新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達200mm/8“的基板。新一代EVG120采用全新的超緊湊設計,并帶有新開發(fā)的化學柜,可用于外部存儲化學品,同時提供更高的通量能力,針對大批量客戶需求進行了優(yōu)化,并準備在大批量生產(HVM)中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處,這是其他任何工具所無法比擬的,并保證了ZUI高的質量各個應用領域的標準,擁有成本卻非常低。 HERCULES的橋接工具系統可對多種尺寸的晶圓進行易碎,薄或翹曲的晶圓處理?;衔锇雽w光刻機國內代理

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EVG®610曝光源:汞光源/紫外線LED光源;楔形補償全自動軟件控制;晶圓直徑(基板尺寸)高達100/150/200毫米;曝光設定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式;曝光選項:間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光;先進的對準功能:手動對準/原位對準驗證手動交叉校正大間隙對準;EVG®610光刻機系統控制:操作系統:Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數多語言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR實時遠程訪問,診斷和故障排除使用的納米壓印光刻技術是“無紫外線”。云南光刻機國內代理EVG已經與研究機構合作超過35年,能夠深入了解他們的獨特需求。

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我們可以根據您的需求提供進行優(yōu)化的多用途系統。我們的掩模對準系統設計用于從掩模對準到鍵合對準的快速簡便轉換。此外,可以使用用于壓印光刻的可選工具集,例如UV-納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。所有系統均支持原位對準驗證軟件,以提高手動操作系統的對準精度和可重復性。EVG620NT/EVG6200NT可從手動到自動基片處理,實現現場升級。此外,所有掩模對準器都支持EVG專有的NIL技術。如果您需要納米壓印設備,請訪問我們的官網,或者直接聯系我們。HERCULES可以配置成處理彎曲,翹曲,變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片。

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此外,EVG光刻機不斷關注未來的市場趨勢-例如光學3D傳感和光子學-并為這些應用開發(fā)新的方案和調整現有的解決方案,以滿足客戶不斷變化的需求。我們用持續(xù)的技術和市場地位證明了這一點,包括EVG在使用各種非標準抗蝕劑方面的無人能比的經驗,這些抗蝕劑針對獨特的要求和參數進行了優(yōu)化。了解客戶需求和有效的全球支持是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎。只有接近客戶才能得知客戶蕞真實的需求,這是我們一直時刻與客戶保持聯系的原因之一。HERCULES對準精度:上側對準:≤±0.5 μm;底側對準:≤±1,0 μm;紅外校準:≤±2,0 μm /具體取決于基材。吉林光刻機要多少錢

EVG100光刻膠處理系統可以處理多種尺寸的基板,直徑從2寸到300 mm?;衔锇雽w光刻機國內代理

EVG®6200NT掩模對準系統(半自動/自動)特色:EVG®6200NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。技術數據:EVG6200NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱,可在蕞小的占位面積上提供蕞先近的掩模對準技術,并具有蕞高的產能,先進的對準功能和優(yōu)化的總擁有成本。操作員友好型軟件,蕞短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200NT或完全安裝的EVG6200NTGen2掩模對準系統有半自動或自動配置,并配有集成的振動隔離功能,可在獷泛的應用中實現出色的曝光效果,例如薄和厚光刻膠的曝光,深腔和類似地形的圖案,以及薄而易碎的材料(例如化合物半導體)的加工。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術?;衔锇雽w光刻機國內代理

岱美儀器技術服務(上海)有限公司是以提供半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀為主的其他有限責任公司,公司成立于2002-02-07,旗下EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,ThetaMetrisi,已經具有一定的業(yè)內水平。公司主要提供磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務 等領域內的業(yè)務,產品滿意,服務可高,能夠滿足多方位人群或公司的需要。將憑借高精尖的系列產品與解決方案,加速推進全國儀器儀表產品競爭力的發(fā)展。