NK值膜厚儀應用

來源: 發(fā)布時間:2023-11-14

FSM360拉曼光譜系統(tǒng)FSM紫外光和可見光拉曼系統(tǒng),型號360FSM拉曼的應用l局部應力;l局部化學成分l局部損傷紫外光可測試的深度優(yōu)袖的薄膜(SOI或Si-SiGe)或者厚樣的近表面局部應力可見光可測試的深度良好的厚樣以及多層樣品的局部應力系統(tǒng)測試應力的精度小于15mpa(0.03cm-1)全自動的200mm和300mm硅片檢查自動檢驗和聚焦的能力。以上的信息比較有限,如果您有更加詳細的技術(shù)問題,請聯(lián)系我們的技術(shù)人員為您解答?;蛘咴L問我們的官網(wǎng)了解更多信息。膜厚儀通過不同的測量原理來實現(xiàn)對膜厚的精確測量。NK值膜厚儀應用

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FSM413MOT紅外干涉測量設備:適用于所有可讓紅外線通過的材料:硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)平整度厚度變化(TTV)溝槽深度過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度粗糙度薄膜厚度不同半導體材料的厚度環(huán)氧樹脂厚度襯底翹曲度晶圓凸點高度(bumpheight)MEMS薄膜測量TSV深度、側(cè)壁角度...如果您想了解更多關(guān)于FSM膜厚儀的技術(shù)問題,請聯(lián)系我們岱美儀器。Filmetrics F10-ARc膜厚儀生產(chǎn)國F3-sX系列使用近紅外光來測量薄膜厚度,即使有許多肉眼看來不透光(例如半導體)。

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Filmetrics的技術(shù)Filmetrics提供了范圍廣范的測量生物醫(yī)療涂層的方案:支架:支架上很小的涂層區(qū)域通常需要顯微鏡類的儀器。我們的F40在幾十個實驗室內(nèi)得到使用,測量鈍化和/或藥物輸送涂層。我們有獨特的測量系統(tǒng)對整個支架表面的自動厚度測繪,只需在測量時旋轉(zhuǎn)支架。植入件:在測量植入器件的涂層時,不規(guī)則的表面形狀通常是為一挑戰(zhàn)。Filmetrics提供這一用途的全系列探頭。導絲和導引針:和支架一樣,這些器械常常可以用像F40這樣的顯微鏡儀器。導液管和血管成型球囊的厚度:大于100微米的厚度和可見光譜不透明性決定了F20-NIR是這一用途方面全世界眾多實驗室內(nèi)很受歡迎的儀器。

銦錫氧化物與透明導電氧化物液晶顯示器,有機發(fā)光二極管變異體,以及絕大多數(shù)平面顯示器技術(shù)都依靠透明導電氧化物(TCO)來傳輸電流,并作每個發(fā)光元素的陽極。和任何薄膜工藝一樣,了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關(guān)重要。對于液晶顯示器而言,就需要有測量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法,對有機發(fā)光二極管而言,則需要測量發(fā)光、電注入和封裝層的厚度。在測量任何多個層次的時候,諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學技術(shù)需要測量或建模估算每一個層次的厚度和光學常數(shù)(反射率和k值)。不幸的是,使得氧化銦錫和其他透明導電氧化物在顯示器有用的特性,同樣使這些薄膜層難以測量和建模,從而使測量在它們之上的任何物質(zhì)變得困難。Filmetrics的氧化銦錫解決方案Filmetrics已經(jīng)開發(fā)出簡便易行而經(jīng)濟有效的方法,利用光譜反射率精確測量氧化銦錫。將新型的氧化銦錫模式和F20-EXR,很寬的400-1700nm波長相結(jié)合,從而實現(xiàn)氧化銦錫可靠的“一鍵”分析。氧化銦錫層的特性一旦得到確定,剩余顯示層分析的關(guān)鍵就解決了。厚度范圍: 測量從 1nm 到 13mm 的厚度。 測量 70nm 到 10um 薄膜的折射率。

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F20系列是世界上蕞**的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng),只需按下一個按鈕,不到一秒鐘即可同時測量厚度和折射率。設置也非常簡單,只需把設備連接到您運行Windows?系統(tǒng)的計算機USB端口,并連接樣品平臺就可以了。F20系列不同型號的選擇,主要取決于您需要測量的薄膜厚度(確定所需的波長范圍)。型號厚度范圍*波長范圍F2015nm-70μm380-1050nmF20-EXR15nm-250μm380-1700nmF20-NIR100nm-250μm950-1700nmF20-UV1nm-40μm190-1100nmF20-UVX1nm-250μm190-1700nmF20-XTμm-450μm1440-1690nm*取決于薄膜種類Filmetrics膜厚測試儀通過分析薄膜的反射光譜來測量薄膜的厚度,通過非可見光的測量,可以測量薄至1nm或厚至13mm的薄膜。測量結(jié)果可在幾秒鐘顯示:薄膜厚度、顏色、折射率甚至是表面粗糙度。1.有五種不同波長選擇(波長范圍從紫外220nm至近紅外1700nm)2.蕞大樣品薄膜厚度的測量范圍是:3nm~25um3.精度高于、氧化物、氮化物;、Polyimides;3.光電鍍膜應用:硬化膜、抗反射膜、濾波片。1.光源有壽命,不用時請關(guān)閉2.光纖易損,不要彎折,不要頻繁插拔3.精密儀器。應用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響),平整度。薄膜測厚儀膜厚儀價格怎么樣

F30 系列是監(jiān)控薄膜沉積,蕞強有力的工具。NK值膜厚儀應用

F3-CS:快速厚度測量可選配FILMeasure厚度測量軟件使厚度測量就像在平臺上放置你的樣品一樣容易,軟件內(nèi)建所有常見的電介質(zhì)和半導體層(包括C,N和HT型聚對二甲苯)的光學常數(shù)(n和k),厚度結(jié)果會及時的以直覺的測量結(jié)果顯示對于進階使用者,可以進一步以F3-CS測量折射率,F3-CS可在任何運行WindowsXP到Windows864位作業(yè)系統(tǒng)的計算機上運行,USB電纜則提供電源和通信功能.包含的內(nèi)容:USB供電之光譜儀/光源裝置FILMeasure8軟件內(nèi)置樣品平臺BK7參考材料四萬小時光源壽命額外的好處:應用工程師可立刻提供幫助(周一-周五)網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))。NK值膜厚儀應用