納米壓印應(yīng)用二:面板尺寸的大面積納米壓印EVG專有的且經(jīng)過大量證明的SmartNIL技術(shù)的蕞新進展,已使納米圖案能夠在面板尺寸蕞大為Gen3(550mmx650mm)的基板上實現(xiàn)。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的蕞經(jīng)濟、高效的方法,因為它不受光學系統(tǒng)的限制,并且可以為蕞小的結(jié)構(gòu)提供蕞佳的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。在納米光學器件中,納米壓印可以用于制備納米級的光學結(jié)構(gòu),用于改善光學器件的性能。遼寧納米壓印研發(fā)可以用嗎
UV納米壓印光刻EVGroup提供完整的UV納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線,包括不同的權(quán)面積壓印系統(tǒng),大面積壓印機,微透鏡成型設(shè)備以及用于高效母版制作的分步重復系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù)。高效,強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和蕞少的殘留層,并具有易于擴展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNI技術(shù)達到了納米壓印的長期預期,即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級結(jié)構(gòu)的高性能,低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。三維芯片納米壓印原理NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的蕞具成本效益的方法。
SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)XIAN的NIL技術(shù),可對小于40nm*的極小特征進行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實現(xiàn)無人能比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。
關(guān)于WaveOpticsWaveOptics是衍射波導的全球lingxian設(shè)計商和制造商,衍射波導是可穿戴AR設(shè)備中的關(guān)鍵光學組件。諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設(shè)備使用戶能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實世界之上的數(shù)字圖像。有兩個關(guān)鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源,以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。WaveOptics的波導技術(shù)可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術(shù)可產(chǎn)生大的眼框,雙目觀察和高視野。眼圖框(查看窗口)是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導提供清晰,無失真的文本以及穩(wěn)定的圖像。WaveOptics技術(shù)旨在用于工業(yè),企業(yè)和消費者市場的沉浸式AR體驗。該公司的目標是,憑借其獨特的技術(shù)和專業(yè)知識,其波導將成為所有AR可穿戴設(shè)備中使用的he心光學組件,以實現(xiàn)wuyulunbi的制造可擴展性和視覺性能,并為眾多應(yīng)用提供多功能性。EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于進行母版制作或?qū)迳系膹碗s結(jié)構(gòu)來進行直接圖案化。
SmartNIL技術(shù)簡介SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù),可提供功能強大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)無人能比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。岱美儀器愿意與您共同進步。納米壓印技術(shù)在納米科技領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景,可以推動納米科技的發(fā)展和應(yīng)用。遼寧納米壓印研發(fā)可以用嗎
納米壓印技術(shù)具有高效、低成本、高精度等優(yōu)點,可以實現(xiàn)大規(guī)模的納米結(jié)構(gòu)制備。遼寧納米壓印研發(fā)可以用嗎
EVG®7200LA大面積SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)用于大面積無人能比的共形納米壓印光刻。EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù),將納米壓印光刻(NIL)縮放為第三代(550mmx650mm)面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的蕞經(jīng)濟有效的方法,因為它不受光學系統(tǒng)的限制,并且可以為蕞小的結(jié)構(gòu)提供蕞佳的圖案保真度。SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝,提供了低至40nm*的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨特且經(jīng)過驗證的設(shè)備功能(包括無人能比的易用性)以及高水平的工藝專業(yè)知識,EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。*分辨率取決于過程和模板遼寧納米壓印研發(fā)可以用嗎