非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。
非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨(dú)特的,必須有精確的厚度測量。 測量厚度時(shí)還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。
Filmetrics 設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時(shí)測量和輸出每個(gè)要求的硅薄膜參數(shù), 并且“一鍵”出結(jié)果。
測量范例多晶硅被***用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變,這些特性隨之改變,所以準(zhǔn)確地測量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,加入二氧化硅層,以增加光學(xué)對比,其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學(xué)模型被用來測量多晶硅薄膜光學(xué)特性。
產(chǎn)品名稱:紅外干涉厚度測量設(shè)備。Filmetrics膜厚儀出廠價(jià)
厚度測量產(chǎn)品:我們的膜厚測量產(chǎn)品可適用于各種應(yīng)用。我們大部分的產(chǎn)品皆備有庫存以便快速交貨。請瀏覽本公司網(wǎng)頁產(chǎn)品資訊或聯(lián)系我們的應(yīng)用工程師針對您的厚度測量需求提供立即協(xié)助。
單點(diǎn)厚度測量:
一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺(tái)式測量系統(tǒng)。 測量 1nm 到 13mm 的單層薄膜或多層薄膜堆。
大多數(shù)產(chǎn)品都有庫存而且可立即出貨。
F20全世界銷量**hao的薄膜測量系統(tǒng)。有各種不同附件和波長覆蓋范圍。
微米(顯微)級別光斑尺寸厚度測量當(dāng)測量斑點(diǎn)只有1微米(μm)時(shí),需要用您自己的顯微鏡或者用我們提供的整個(gè)系統(tǒng)。 Filmetrics膜厚儀出廠價(jià)測量SU-8 其它厚光刻膠的厚度有特別重要的應(yīng)用。
測量復(fù)雜的有機(jī)材料典型的有機(jī)發(fā)光顯示膜包括幾層: 空穴注入層,空穴傳輸層,以及重組/發(fā)光層。所有這些層都有不尋常有機(jī)分子(小分子和/或聚合物)。雖然有機(jī)分子高度反常色散,測量這些物質(zhì)的光譜反射充滿挑戰(zhàn),但對Filmetrics卻不盡然。我們的材料數(shù)據(jù)庫覆蓋整個(gè)OLED的開發(fā)歷史,能夠處理隨著有機(jī)分子而來的高折射散射和多種紫外光譜特征。軟基底上的薄膜有機(jī)發(fā)光顯示器具有真正柔性顯示的潛力,要求測量像PET(聚乙烯)塑料這樣有高雙折射的基準(zhǔn),這對托偏儀測量是個(gè)嚴(yán)重的挑戰(zhàn): 或者模擬額外的復(fù)雜光學(xué),或者打磨PET背面。 而這些對我們非偏振反射光譜來說都不需要,極大地節(jié)約了人員培訓(xùn)和測量時(shí)間。操作箱中測量有機(jī)發(fā)光顯示器材料對水和氧極度敏感。 很多科研小組都要求在控制的干燥氮?dú)獠僮飨渲袦y量。 而我們體積小,模塊化,光纖設(shè)計(jì)的儀器提供非密封、實(shí)時(shí)“操作箱”測量。
F10-AR易于使用而且經(jīng)濟(jì)有效地分析減反涂層和鏡頭上的硬涂層F10-AR 是測試眼科減反涂層設(shè)計(jì)的儀器。 雖然價(jià)格**低于當(dāng)今絕大多數(shù)同類儀器,應(yīng)用幾項(xiàng)技術(shù), F10-AR 使線上操作人員經(jīng)過幾分鐘的培訓(xùn),就可以進(jìn)行厚度測量。
在用戶定義的任何波長范圍內(nèi)都能進(jìn)行比較低、比較高和平均反射測試。
我們有專門的算法對硬涂層的局部反射失真進(jìn)行校正。 我們獨(dú)有的 AutoBaseline 能極大地增加基線間隔,提供比其它光纖探頭反射儀高出五倍的精確度。
利用可選的 UPG-F10-AR-HC 軟件升級能測量 0.25-15um 的硬涂層厚度。 在減反層存在的情況下也能對硬涂層厚度進(jìn)行測量。 基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測量。
厚度標(biāo)準(zhǔn):
所有 Filmetrics 厚度標(biāo)準(zhǔn)都是得到驗(yàn)證可追溯的 NIST 標(biāo)準(zhǔn)。
S-Custom-NIST:在客戶提供的樣品上定制可追溯的 NIST 厚度校準(zhǔn)。
TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si :厚度標(biāo)準(zhǔn),外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準(zhǔn),厚度大約 3100A,4" 晶圓。
TS-Focus-SiO2-4-10000SiO2-on-Si :厚度標(biāo)準(zhǔn),外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準(zhǔn),厚度大約 10000A,4" 晶圓。
TS-Hardcoat-4μm:丙烯酸塑料硬涂層厚度標(biāo)準(zhǔn),厚度大約 4um,直徑 2"。
TS-Hardcoat-Trans:背面透明的硬涂層,可用于透射測量。
TS-Parylene-4um:丙烯酸塑料上的聚對二甲苯厚度標(biāo)準(zhǔn),厚度大約 4um ,直徑2"。
TS-Parylene-8um:硅基上的聚對二甲苯厚度標(biāo)準(zhǔn),厚度大約 8um,23mm x 23mm。
TS-SiO2-4-7200:硅基上的二氧化硅厚度標(biāo)準(zhǔn),厚度大約 7200A,4" 晶圓。
TS-SiO2-4-7200-NIST:可追溯的 NIST SiO2-4-7200 厚度標(biāo)準(zhǔn)。
TS-SiO2-6-Multi:多厚度硅基上的二氧化硅標(biāo)準(zhǔn): 125埃米,250埃米,500埃米,1000埃米,5000埃米,和 10000埃米 (+/-10%誤差),6英寸晶圓。TS-SS3-SiO2-8000:專為SS-3樣品平臺(tái)設(shè)計(jì)之二氧化硅厚度標(biāo)準(zhǔn)片,厚度大約為 8000A。 F50-NIR測厚范圍:100nm-250μm;波長:950-1700nm。Filmetrics膜厚儀出廠價(jià)
厚度變化 (TTV) ;溝槽深度;過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度。Filmetrics膜厚儀出廠價(jià)
由于在重大工程、工業(yè)裝備和質(zhì)量保證、基礎(chǔ)科研中,儀器儀表都是必不可少的基礎(chǔ)技術(shù)和裝備重點(diǎn),除傳統(tǒng)領(lǐng)域的需求外,新興的智能制造、離散自動(dòng)化、生命科學(xué)、新能源、海洋工程、軌道交通等領(lǐng)域也會(huì)產(chǎn)生巨大需求。隨著互聯(lián)網(wǎng)的逐步發(fā)展,為半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測量儀等產(chǎn)品的傳播提供了一個(gè)飛速的平臺(tái)。讓儀器儀表行業(yè)從傳統(tǒng)的銷售模式到以互聯(lián)網(wǎng)電子商務(wù)為主的營銷方式的轉(zhuǎn)變,促進(jìn)了儀器儀表行業(yè)與互聯(lián)網(wǎng)的結(jié)合,推動(dòng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展。目前我國磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù) 產(chǎn)品,主要集中在中低檔市場,而市場則主要被國外品牌所占據(jù)。在某些領(lǐng)域,國產(chǎn)產(chǎn)品甚至是空白,這就需要未來我國儀器儀表向市場進(jìn)軍,擴(kuò)大產(chǎn)品占比。從貿(mào)易廣義角度來說,儀器儀表也可具有自動(dòng)操控、報(bào)警、信號傳遞和數(shù)據(jù)處理等功能,例如用于工業(yè)生產(chǎn)過程自動(dòng)操控中的氣動(dòng)調(diào)節(jié)儀表,和電動(dòng)調(diào)節(jié)儀表,以及集散型儀表操控系統(tǒng)也皆屬于儀器儀表。Filmetrics膜厚儀出廠價(jià)