浙江納米壓印試用

EVG®720自動SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVG's專有SmartNIL®技術EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術和材料專業(yè)知識，能夠大規(guī)模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結構，具有無人能比的吞吐量，非常適合批量生產下一代微流控和光子器件，例如衍射光學元件（DOEs）。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網，獲得更多信息。高 效，強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度，擁有高度均勻圖案層和蕞少殘留層，易于擴展的晶圓尺寸和產量。浙江納米壓印試用

EVG®770分步重復納米壓印光刻系統(tǒng)分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。將鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。吉林納米壓印美元價在納米光學器件中，納米壓印可以用于制備納米級的光學結構，用于改善光學器件的性能。

HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現300mm的大批量生產■批量生產低至40nm的結構或更小尺寸（分辨率取決于過程和模板）■結合了預處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術■全自動壓印和受控的低力分離，可蕞大程度地重復使用工作印章■具備工作印章制造能力EVG®770：連續(xù)重復的納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作■用于晶圓級光學器件的微透鏡的高效母模制造，直至SmartNIL®的納米結構■不同類型的母版的簡單實現■可變的光刻膠分配模式■分配，壓印和脫模過程中的實時圖像■用于壓印和脫模的原位力控制

EVG®720特征：體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度專有SmartNIL®技術，多使用聚合物印模技術集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式可選的頂部對準可選的迷你環(huán)境適用于所有市售壓印材料的開放平臺從研發(fā)到生產的可擴展性系統(tǒng)外殼，可實現ZUI佳過程穩(wěn)定性和可靠性技術數據晶圓直徑（基板尺寸）75至150毫米解析度：≤40nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：SmartNIL®曝光源：大功率LED（i線）>400mW/cm2對準：可選的頂部對準自動分離：支持的迷你環(huán)境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術，擁有多年技術，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量化的生產。

EVG®720自動SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVGs專有SmartNIL®技術EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術和材料專業(yè)知識，能夠大規(guī)模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結構，具有無人能比的吞吐量，非常適合批量生產下一代微流控和光子器件，例如衍射光學元件（DOEs）。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問岱美儀器技術服務有限公司的官網，獲得更多信息。SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術。浙江納米壓印試用

在納米電子器件中，納米壓印可以用于制備納米線、納米點陣等結構，用于制備納米級的電子器件。浙江納米壓印試用

EV集團和肖特攜手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術在大體積增強現實/混合現實玻璃制造中已就緒聯合工作將在EVG的NILPhotonics®能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓?。∟IL）技術創(chuàng)新孵化器，同時也是全球為一可及的300-mm光刻/納米壓印技術線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備領仙供應商EV集團（EVG）金日宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領域的世界領仙技術集團肖特攜手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓印（NIL）技術在下一代增強現實/混合現實（AR/MR）頭戴顯示設備的波導/光導制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL®工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics®能力中心進行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板，裝配在應用SmartNIL®UV-NIL技術的EVG®HERCULES®。浙江納米壓印試用