大面積納米壓印推薦型號(hào)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-08-27

EVG®6200NT是SmartNILUV納米壓印光刻系統(tǒng)。用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專(zhuān)有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù)范圍達(dá)150m。這些系統(tǒng)以其自動(dòng)化的靈活性和可靠性而著稱(chēng),以蕞小的占地面積提供了蕞新的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件,蕞短的掩模和工具更換時(shí)間以及高效的全球服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動(dòng)批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專(zhuān)有的SmartNIL技術(shù)。SmartNIL 非常適合對(duì)具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化,用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。大面積納米壓印推薦型號(hào)

大面積納米壓印推薦型號(hào),納米壓印

納米壓印應(yīng)用二:面板尺寸的大面積納米壓印EVG專(zhuān)有的且經(jīng)過(guò)大量證明的SmartNIL技術(shù)的蕞新進(jìn)展,已使納米圖案能夠在面板尺寸蕞大為Gen3(550mmx650mm)的基板上實(shí)現(xiàn)。對(duì)于不能減小尺寸的顯示器,線(xiàn)柵偏振器,生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,至關(guān)重要的是通過(guò)增加圖案面積來(lái)提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的蕞經(jīng)濟(jì)、高效的方法,因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制,并且可以為蕞小的結(jié)構(gòu)提供蕞佳的圖案保真度。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們岱美,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。熱壓印納米壓印免稅價(jià)格NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的蕞經(jīng)濟(jì)、高效的方法。

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SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)XIAN的NIL技術(shù),可對(duì)小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)無(wú)人能比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。*分辨率取決于過(guò)程和模板如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。

EV集團(tuán)和肖特?cái)y手合作,證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics®能力中心開(kāi)展,這是一個(gè)開(kāi)放式的光刻/納米壓?。∟IL)技術(shù)創(chuàng)新孵化器,同時(shí)也是全球?yàn)橐豢杉暗?00-mm光刻/納米壓印技術(shù)線(xiàn)2019年8月28日,奧地利,圣弗洛里安――微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)晶圓鍵合與光刻設(shè)備領(lǐng)仙供應(yīng)商EV集團(tuán)(EVG)金日宣布,與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的世界領(lǐng)仙技術(shù)集團(tuán)肖特?cái)y手合作,證明300-mm(12英寸)光刻/納米壓?。∟IL)技術(shù)在下一代增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)(AR/MR)頭戴顯示設(shè)備的波導(dǎo)/光導(dǎo)制造中使用的高折射率(HRI)玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專(zhuān)有SmartNIL®工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓,將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics®能力中心進(jìn)行。肖特將于9月4日至7日在深圳會(huì)展中心舉行的中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)上展示一款采用EVGSmartNIL技術(shù)進(jìn)行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板,裝配在應(yīng)用SmartNIL®UV-NIL技術(shù)的EVG®HERCULES®。EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)來(lái)進(jìn)行直接圖案化。

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據(jù)外媒報(bào)道,美國(guó)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校(UWMadison)的研究人員們,已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實(shí)現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅大達(dá)簡(jiǎn)化了低成本高性能、無(wú)線(xiàn)靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)的制造工藝,還克服了許多使用標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)制造設(shè)備時(shí)所遇到的操作上的問(wèn)題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線(xiàn)路板,并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場(chǎng)。研究人員稱(chēng),這項(xiàng)突破性的納米壓印平板印刷制造工藝,可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能,MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見(jiàn)的雙極晶體管。為了滿(mǎn)足不斷縮小的集成電路需求,MOSFET尺寸也在不斷變小,然而這也引發(fā)了一些問(wèn)題。EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。大面積納米壓印推薦型號(hào)

納米壓印技術(shù)具有高效、低成本、高精度等優(yōu)點(diǎn),可以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模的納米結(jié)構(gòu)制備。大面積納米壓印推薦型號(hào)

該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據(jù)客戶(hù)的專(zhuān)門(mén)需求,公司對(duì)這些聚合物作出調(diào)整,使其具備其它特征。它們極其適合工業(yè)環(huán)境,在較短的生產(chǎn)周期時(shí)間內(nèi)粘合各種微小的元件。此外,DELO紫外線(xiàn)LED固化設(shè)備與點(diǎn)膠閥的可靠度十分杰出。關(guān)于德路德路(DELO)是世界前列的工業(yè)粘合劑制造商,總部位于德國(guó)慕尼黑附近的Windach。在美國(guó)、中國(guó)、新加坡及日本均設(shè)有子公司。2019財(cái)政年,公司的780名員工創(chuàng)造了。該公司產(chǎn)品在全球范圍內(nèi)廣泛應(yīng)用于汽車(chē)、消費(fèi)類(lèi)電子產(chǎn)品與工業(yè)電子產(chǎn)品。幾乎每一部智能手機(jī)與超過(guò)一半的汽車(chē)上都使用該公司產(chǎn)品。DELO的客戶(hù)包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門(mén)子以及索尼等。關(guān)于EVGroup(EVG)EV集團(tuán)(EVG)是為生產(chǎn)半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、化合物半導(dǎo)體、功率器件以及納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的領(lǐng)仙供應(yīng)商。該公司主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術(shù)(NIL)與計(jì)量設(shè)備,,以及涂膠機(jī)、清洗機(jī)與檢測(cè)系統(tǒng)。EV集團(tuán)創(chuàng)辦于1980年,可為全球的眾多客戶(hù)與合作伙伴提供各類(lèi)服務(wù)與支持。大面積納米壓印推薦型號(hào)