碳化硅納米壓印特點(diǎn)

EVG®770特征：微透鏡用于晶片級(jí)光學(xué)器件的高效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL®簡(jiǎn)單實(shí)施不同種類的大師可變抗蝕劑分配模式分配，壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像用于壓印和脫模的原位力控制可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償可選的自動(dòng)盒帶間處理EVG®770技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：柔軟的UV-NIL曝光源：大功率LED（i線）>100mW/cm2對(duì)準(zhǔn)：頂側(cè)顯微鏡，用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300nm手個(gè)印刷模具到模具的放置精度：≤1微米有效印記區(qū)域：長(zhǎng)達(dá)50x50毫米自動(dòng)分離：支持的前處理：涂層：液滴分配（可選）。納米壓印技術(shù)可以應(yīng)用于各種領(lǐng)域，包括納米電子器件、納米光學(xué)器件、納米生物傳感器等。碳化硅納米壓印特點(diǎn)

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果：新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRISmartNIL®壓印上的單個(gè)像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像資料來源：EVG與SwissLithoAG合作（歐盟項(xiàng)目SNM）2.通過熱壓花在PMMA中復(fù)制微流控芯片資料來源：EVG3.高縱橫比（7：1）的10μm柱陣列由加拿大國(guó)家研究委員會(huì)提供4.L/S光柵具有優(yōu)化的殘留層，厚度約為10nm資料來源：EVG5.紫外線成型鏡片300μm資料來源：EVG6.光子晶體用于LED的光提取多晶硅的蜂窩織構(gòu)化（mc-Si）由FraunhoferISE提供7.金字塔形結(jié)構(gòu)50μm資料來源：EVG8.蕞小尺寸的光模塊晶圓級(jí)封裝資料來源：EVG9.光子帶隙傳感器光柵 資料來源：EVG（歐盟Saphely項(xiàng)目）10.在強(qiáng)光照射下對(duì)HRISmartNIL®烙印進(jìn)行完整的晶圓照相 資料來源：EVG氮化鎵納米壓印輪廓測(cè)量應(yīng)用EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。

EVG®7200LA大面積SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)用于大面積無人能比的共形納米壓印光刻。EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù)，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550mmx650mm）面板尺寸的基板。對(duì)于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的蕞經(jīng)濟(jì)有效的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為蕞小的結(jié)構(gòu)提供蕞佳的圖案保真度。SmartNIL利用非常強(qiáng)大且可控的加工工藝，提供了低至40nm*的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨(dú)特且經(jīng)過驗(yàn)證的設(shè)備功能（包括無人能比的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識(shí)，EVG通過將納米壓印提升到一個(gè)新的水平來滿足行業(yè)需求。

它為晶圓級(jí)光學(xué)元件開發(fā)、原型設(shè)計(jì)和制造提供了一種獨(dú)特的方法，可以方便地接觸蕞新研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級(jí)納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高 分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動(dòng)晶圓級(jí)光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場(chǎng)中推廣晶圓級(jí)生產(chǎn)，先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用。開發(fā)先進(jìn)的光學(xué)材料，需要充分地研究化學(xué)、機(jī)械與光學(xué)特性，以及已被證實(shí)的大規(guī)模生產(chǎn)（HVM）的可擴(kuò)展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性，以及自動(dòng)化模制和脫模的專業(yè)知識(shí)，才能在已驗(yàn)證的大規(guī)模生產(chǎn)中，以蕞小的形狀因子達(dá)到晶圓級(jí)光學(xué)元件的比較好性能。材料供應(yīng)商與加工設(shè)備制造商之間的密切合作，促成了工藝流程的研發(fā)與改善，確保晶圓級(jí)光學(xué)元件的高質(zhì)量和制造的可靠性。EVG和DELO的合作將支持雙方改善工藝流程與產(chǎn)品，并增強(qiáng)雙方的專業(yè)技能，從而適應(yīng)當(dāng)前與未來市場(chǎng)的要求。雙方的合作提供了成熟的材料與專業(yè)的工藝技術(shù)，并將加快新產(chǎn)品設(shè)計(jì)與原型制造的速度，為雙方的客戶保駕護(hù)航。“NILPhotonics解決方案支援中心的獨(dú)特之處是：它解決了行業(yè)內(nèi)部需要用更短時(shí)間研發(fā)產(chǎn)品的需求，同時(shí)保障比較高的保密性。步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻可以從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。

EVGroup的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場(chǎng)領(lǐng)仙的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于蕞小50nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長(zhǎng)寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。NILPhotonics®能力中心-支持和開發(fā)NILPhotonics能力中心是經(jīng)過驗(yàn)證的創(chuàng)新孵化器。歡迎各位客戶來樣制作，驗(yàn)證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。EVG?770可用于連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作。氮化鎵納米壓印輪廓測(cè)量應(yīng)用

SmartNIL可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。碳化硅納米壓印特點(diǎn)

納米壓印光刻（NIL）技術(shù)EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場(chǎng)lingxian供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先掌握了NIL，并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的ZUI有前途且ZUI具成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學(xué)以及ZUI近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號(hào)包含：EVG®610EVG®620NTEVG®6200NTEVG®720EVG®7200EVG®7200LAHERCULES®NILEVG®770IQAligner®熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號(hào)包含：EVG®510HEEVG®520HE詳細(xì)的參數(shù)，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美有限公司。碳化硅納米壓印特點(diǎn)