紫外光納米壓印微流控應(yīng)用

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-11-13

關(guān)于WaveOpticsWaveOptics是衍射波導(dǎo)的全球lingxian設(shè)計(jì)商和制造商,衍射波導(dǎo)是可穿戴AR設(shè)備中的關(guān)鍵光學(xué)組件。諸如智能眼鏡之類(lèi)的AR可穿戴設(shè)備使用戶(hù)能夠觀(guān)看覆蓋在現(xiàn)實(shí)世界之上的數(shù)字圖像。有兩個(gè)關(guān)鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類(lèi)的光源,以及將圖像從投影儀傳遞到用戶(hù)眼睛中的一種方式。WaveOptics的波導(dǎo)技術(shù)可傳輸來(lái)自光源的光波并將其投射到用戶(hù)的眼睛中。該技術(shù)可產(chǎn)生大的眼框,雙目觀(guān)察和高視野。眼圖框(查看窗口)是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請(qǐng)參見(jiàn)下圖。WaveOptics的波導(dǎo)提供清晰,無(wú)失真的文本以及穩(wěn)定的圖像。WaveOptics技術(shù)旨在用于工業(yè),企業(yè)和消費(fèi)者市場(chǎng)的沉浸式AR體驗(yàn)。該公司的目標(biāo)是,憑借其獨(dú)特的技術(shù)和專(zhuān)業(yè)知識(shí),其波導(dǎo)將成為所有AR可穿戴設(shè)備中使用的he心光學(xué)組件,以實(shí)現(xiàn)wuyulunbi的制造可擴(kuò)展性和視覺(jué)性能,并為眾多應(yīng)用提供多功能性。EVG?610和EVG?620NT / EVG?6200NT是具有紫外線(xiàn)納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。紫外光納米壓印微流控應(yīng)用

紫外光納米壓印微流控應(yīng)用,納米壓印

具體說(shuō)來(lái)就是,MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動(dòng),因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平(硅中摻雜以帶來(lái)或正或負(fù)的電荷),以確??绺鹘M件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅(SiO2)襯底上,然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,摻雜有時(shí)會(huì)泄到別的不需要的地方,那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域,并導(dǎo)致性能下降。一個(gè)典型MOSFET不同層級(jí)的剖面圖。不過(guò)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個(gè)合作伙伴攜手(包括密歇根大學(xué)、德克薩斯大學(xué)、以及加州大學(xué)伯克利分校等),開(kāi)發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù)。研究人員通過(guò)電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,從而帶來(lái)更加“物理可控”的生產(chǎn)過(guò)程。原裝進(jìn)口納米壓印研發(fā)可以用嗎SmartNIL集成多次使用的軟標(biāo)記處理功能,也具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的特點(diǎn)。

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納米壓印微影技術(shù)有望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計(jì)劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography;NIL),現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報(bào)導(dǎo),南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,未確認(rèn)NIL設(shè)備實(shí)際圖樣形成能力,直接參訪(fǎng)海外NIL設(shè)備廠(chǎng)。該制程研發(fā)小組透露,若引進(jìn)相關(guān)設(shè)備,將可提升面板性能。并已展開(kāi)具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機(jī),像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以壓印機(jī)接觸施加壓力,印出面板圖樣。之后再經(jīng)過(guò)蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程,但省落偏光膜貼附制程,可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會(huì)吸收部分光線(xiàn)降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,將不會(huì)發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,因配線(xiàn)較多,較難確保開(kāi)口率(ApertureRatio)。

該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據(jù)客戶(hù)的專(zhuān)門(mén)需求,公司對(duì)這些聚合物作出調(diào)整,使其具備其它特征。它們極其適合工業(yè)環(huán)境,在較短的生產(chǎn)周期時(shí)間內(nèi)粘合各種微小的元件。此外,DELO紫外線(xiàn)LED固化設(shè)備與點(diǎn)膠閥的可靠度十分杰出。關(guān)于德路德路(DELO)是世界前列的工業(yè)粘合劑制造商,總部位于德國(guó)慕尼黑附近的Windach。在美國(guó)、中國(guó)、新加坡及日本均設(shè)有子公司。2019財(cái)政年,公司的780名員工創(chuàng)造了。該公司產(chǎn)品在全球范圍內(nèi)廣泛應(yīng)用于汽車(chē)、消費(fèi)類(lèi)電子產(chǎn)品與工業(yè)電子產(chǎn)品。幾乎每一部智能手機(jī)與超過(guò)一半的汽車(chē)上都使用該公司產(chǎn)品。DELO的客戶(hù)包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門(mén)子以及索尼等。關(guān)于EVGroup(EVG)EV集團(tuán)(EVG)是為生產(chǎn)半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、化合物半導(dǎo)體、功率器件以及納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的領(lǐng)仙供應(yīng)商。該公司主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術(shù)(NIL)與計(jì)量設(shè)備,,以及涂膠機(jī)、清洗機(jī)與檢測(cè)系統(tǒng)。EV集團(tuán)創(chuàng)辦于1980年,可為全球的眾多客戶(hù)與合作伙伴提供各類(lèi)服務(wù)與支持。EVG?7200LA是大面積SmartNIL?UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

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SmartNIL是一項(xiàng)關(guān)鍵的啟用技術(shù),可用于顯示器,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。例如,SmartNIL提供了無(wú)人能比的全區(qū)域共形壓印,以便滿(mǎn)足面板基板上線(xiàn)柵偏振器的ZUI重要標(biāo)準(zhǔn)。SmartNIL還非常適合對(duì)具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)的微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化,以支持下一代藥物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備的生產(chǎn)。此外,SmartNIL的ZUI新發(fā)展為制造具有ZUI高功能,ZUI小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度,這對(duì)于實(shí)現(xiàn)衍射光學(xué)元件(DOE)至關(guān)重要。特征:體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度專(zhuān)有SmartNIL®技術(shù),多使用聚合物印模技術(shù)經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的分辨率低至40nm或更小大面積全場(chǎng)壓印總擁有成本ZUI低在地形上留下印記對(duì)準(zhǔn)能力室溫過(guò)程開(kāi)放式材料平臺(tái)HERCULES ? NIL是完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。云南納米壓印出廠(chǎng)價(jià)

EVG開(kāi)拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù),擁有多年技術(shù),掌握了NIL,并在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。紫外光納米壓印微流控應(yīng)用

EVG®720特征:體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度專(zhuān)有SmartNIL®技術(shù),多使用聚合物印模技術(shù)集成式壓印,UV固化脫模和工作印模制造盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式可選的頂部對(duì)準(zhǔn)可選的迷你環(huán)境適用于所有市售壓印材料的開(kāi)放平臺(tái)從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性系統(tǒng)外殼,可實(shí)現(xiàn)ZUI佳過(guò)程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑(基板尺寸)75至150毫米解析度:≤40nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:SmartNIL®曝光源:大功率LED(i線(xiàn))>400mW/cm2對(duì)準(zhǔn):可選的頂部對(duì)準(zhǔn)自動(dòng)分離:支持的迷你環(huán)境和氣候控制:可選的工作印章制作:支持的紫外光納米壓印微流控應(yīng)用