聯(lián)電納米壓印價格怎么樣

EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)，從碎片到比較大150毫米。

該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間*為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。

EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。聯(lián)電納米壓印價格怎么樣

EVG ® 620 NT特征：

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形補(bǔ)償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版

EVG ® 620 NT附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

SmartNIL

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

SmartNIL ®：在100毫米范圍

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準(zhǔn)：

軟NIL：≤±0.5 μm

SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持

聯(lián)電納米壓印價格怎么樣高 效，強(qiáng)大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度，擁有高度均勻圖案層和**少殘留層，易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。

EVG ® 510 HE是EVG500系列的熱壓印系統(tǒng)

EV Group的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高

效且靈活的制造技術(shù)，對于尺寸低至50 nm的特征，其復(fù)制精度非常高。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對準(zhǔn)的組合可將熱壓紋與預(yù)處理的基板結(jié)構(gòu)對準(zhǔn)。這個系列包含的型號有：EVG®510HE，EVG®520HE。

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。

EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術(shù)

HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES

NIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟相結(jié)合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務(wù)”，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回。 EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。

    NIL300mmEV集團(tuán)企業(yè)技術(shù)開發(fā)和知識產(chǎn)權(quán)總監(jiān)MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，為光刻/納米壓印技術(shù)供應(yīng)鏈中的各個合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個開放式的創(chuàng)新孵化器，從而縮短創(chuàng)新光子器件和應(yīng)用的開發(fā)周期和上市時間。我們很高興與肖特公司合作，證明EVG光刻/納米壓印技術(shù)解決方案的價值，不僅有助于新技術(shù)和新工藝的開發(fā)，還能夠加速新技術(shù)和新工藝在大眾市場中的采用。我們正在攜手肖特開展的工作，彰顯了光刻/納米壓印技術(shù)設(shè)備和工藝的成熟性，為各種令人興奮的基于光子學(xué)的新產(chǎn)品和新應(yīng)用的300-mm制造奠定了基礎(chǔ)。”SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是**AR/MR設(shè)備的關(guān)鍵組件，已經(jīng)實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。產(chǎn)品組合提供了高達(dá)，支持深度沉浸的AR/MR應(yīng)用，視野更廣，高達(dá)65度。在與增強(qiáng)現(xiàn)實硬件制造商進(jìn)行多年研發(fā)之后，肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?。這款**產(chǎn)品在上市一年后便榮獲了享有盛譽(yù)的2019年SID顯示行業(yè)獎（SIDDisplayIndustryAward2019）。關(guān)于肖特肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關(guān)高科技材料領(lǐng)域的**國際技術(shù)集團(tuán)。公司積累了超過130年的經(jīng)驗，是眾多行業(yè)的創(chuàng)新合作伙伴。 EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的，因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。掩模對準(zhǔn)納米壓印參數(shù)

EVG ? 720是自動SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。聯(lián)電納米壓印價格怎么樣

EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積****的共形納米壓印光刻。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù)，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)有效的方法，因為它不受光學(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強(qiáng)大且可控的加工工藝，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨(dú)特且經(jīng)過驗證的設(shè)備功能（包括****的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。

*分辨率取決于過程和模板 聯(lián)電納米壓印價格怎么樣