晶圓納米壓印代理價格

來源: 發(fā)布時間:2021-09-23

EVG ® 7200 LA特征:

專有SmartNIL ®技術(shù),提供了****的印跡形大面積

經(jīng)過驗證的技術(shù),具有出色的復制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本

強大且精確可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容


EVG ® 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(比較大Gen3)(550 x 650毫米)

解析度:40 nm-10 μm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率窄帶(> 400 mW /cm2)

對準:可選的光學對準:≤±15 μm

自動分離:支持的

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度,這對于實現(xiàn)衍射光學元件(DOE)至關重要。晶圓納米壓印代理價格

晶圓納米壓印代理價格,納米壓印

NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當有成本效益的方法,因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制,并且它可以為極小尺寸(小于100分)提供比較好圖案保真度nm)結(jié)構(gòu)。

EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù),可提供功能強大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。

新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。 晶圓納米壓印代理價格SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)。

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      **的衍射波導設計商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group(EVG)進行合作,EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的**供應商,以帶來高性能增強現(xiàn)實( AR)波導以當今業(yè)界*低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。

      WaveOptics首席執(zhí)行官David Hayes評論:“這一合作伙伴關系標志著增強現(xiàn)實行業(yè)的轉(zhuǎn)折點,是大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量增強現(xiàn)實解決方案的關鍵步驟,這是迄今為止尚無法實現(xiàn)的能力?!?EVG的專業(yè)知識與我們可擴展的通用技術(shù)的結(jié)合將使到明年年底,AR終端用戶產(chǎn)品的市場價格將低于600美元。“這項合作是釋放AR可穿戴設備發(fā)展的關鍵;我們共同處于有利位置,可以在AR中引入大眾市場創(chuàng)新,以比以往更低的成本開辟了可擴展性的新途徑?!?

    納米壓印微影技術(shù)可望優(yōu)先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography;NIL),現(xiàn)將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報導,南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,未確認NIL設備實際圖樣形成能力,直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發(fā)小組透露,若引進相關設備,將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機,像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以壓印機接觸施加壓力,印出面板圖樣。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程,但省落偏光膜貼附制程,可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,因配線較多,較難確保開口率(ApertureRatio)。EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統(tǒng),使用分步重復納米壓印光刻技術(shù),可進行有效的母版制作。

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HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。


EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統(tǒng)達200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術(shù)


HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES

NIL基于模塊化平臺,將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結(jié)合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務”,將裸露的晶圓裝載到工具中,然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回。 EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。晶圓納米壓印代理價格

EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有:EVG?7200LA,HERCULES?NIL,EVG?770,IQAligner?等。晶圓納米壓印代理價格

EVG ® 720特征:

體積驗證的壓印技術(shù),具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術(shù),多使用聚合物印模技術(shù)

集成式壓印,UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式

可選的頂部對準

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性

系統(tǒng)外殼,可實現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

75至150毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準:可選的頂部對準

自動分離:支持的

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


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