晶圓片納米壓印技術(shù)服務(wù)

來源: 發(fā)布時間:2021-11-17

納米壓印應(yīng)用二:面板尺寸的大面積納米壓印

EVG專有的且經(jīng)過大量證明的SmartNIL技術(shù)的***進(jìn)展,已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3(550 mm x 650 mm)的基板上實現(xiàn)。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)、高 效的方法,因為它不受光學(xué)系統(tǒng)的限制,并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。


HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。晶圓片納米壓印技術(shù)服務(wù)

晶圓片納米壓印技術(shù)服務(wù),納米壓印

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn),包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(AR / VR)頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備,3D傳感器,生物醫(yī)學(xué)設(shè)備,納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。


HERCULES ® NIL特征:

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達(dá)八個可交換過程模塊(壓印和預(yù)處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


湖北掩模對準(zhǔn)納米壓印EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,能夠輕松地適應(yīng)各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。

晶圓片納米壓印技術(shù)服務(wù),納米壓印

    在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心,雙方合作研發(fā)用于制造光學(xué)傳感器的新材料,以及適用于大眾化市場的晶圓級光學(xué)元件。(奧地利)與WINDACH(德國),2019年11月27日――EV集團(tuán)(EVG)這一全球**的為微機(jī)電系統(tǒng)、納米技術(shù)與半導(dǎo)體市場提供晶圓鍵合與光刻設(shè)備的供應(yīng)商,***宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級光學(xué)元件(WLO)領(lǐng)域開展合作。這兩家公司均在光學(xué)傳感器制造領(lǐng)域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設(shè)備與DELO先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料,在工業(yè),汽車,消費(fèi)類電子產(chǎn)品市場開發(fā)與應(yīng)用新型光學(xué)設(shè)備,例如生物特征身份認(rèn)證,面部識別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心(位于EVG總部,奧地利Florian)以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應(yīng)鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器,旨在通過合作來縮短創(chuàng)新設(shè)備與應(yīng)用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎(chǔ)設(shè)施包括**技術(shù)的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設(shè)備,例如分步重復(fù)母版,透鏡模制,以及EVG的SmartNIL?技術(shù),晶圓鍵合與必要的測量設(shè)備。

EVG ® 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)

分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作


EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從**

大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括精確的對準(zhǔn)功能,完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。 EVG?770可用于連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作。

晶圓片納米壓印技術(shù)服務(wù),納米壓印

    該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據(jù)客戶的專門需求,公司對這些聚合物作出調(diào)整,使其具備其它特征。它們極其適合工業(yè)環(huán)境,在較短的生產(chǎn)周期時間內(nèi)粘合各種微小的元件。此外,DELO紫外線LED固化設(shè)備與點(diǎn)膠閥的可靠度十分杰出。關(guān)于德路德路(DELO)是世界前列的工業(yè)粘合劑制造商,總部位于德國慕尼黑附近的Windach。在美國、中國、新加坡及日本均設(shè)有子公司。2019財政年,公司的780名員工創(chuàng)造了。該公司產(chǎn)品在全球范圍內(nèi)廣泛應(yīng)用于汽車、消費(fèi)類電子產(chǎn)品與工業(yè)電子產(chǎn)品。幾乎每一部智能手機(jī)與超過一半的汽車上都使用該公司產(chǎn)品。DELO的客戶包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門子以及索尼等。關(guān)于EVGroup(EVG)EV集團(tuán)(EVG)是為生產(chǎn)半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、化合物半導(dǎo)體、功率器件以及納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的**供應(yīng)商。該公司主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術(shù)(NIL)與計量設(shè)備,,以及涂膠機(jī)、清洗機(jī)與檢測系統(tǒng)。EV集團(tuán)創(chuàng)辦于1980年,可為遍及全球的眾多客戶與合作伙伴提供各類服務(wù)與支持。HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速高功率曝光和平滑壓模分離。晶圓片納米壓印技術(shù)服務(wù)

岱美儀器代理的SmartNIL是一項關(guān)鍵的啟用技術(shù),可用于顯示器,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。晶圓片納米壓印技術(shù)服務(wù)

納米壓印光刻(NIL)技術(shù)

EVG是納米壓印光刻(NIL)設(shè)備和集成工藝的市場**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并實現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝,可用于生物MEMS,微流體,電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。


其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號包含:

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®


熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號包含:

EVG®510HE

EVG®520HE


詳細(xì)的參數(shù),請聯(lián)系我們岱美有限公司。


晶圓片納米壓印技術(shù)服務(wù)