中芯國(guó)際納米壓印摩擦學(xué)應(yīng)用

EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)

應(yīng)用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

EVG510 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng)，提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用

自動(dòng)化壓花工藝

EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)

外部浮雕和冷卻站 SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量。中芯國(guó)際納米壓印摩擦學(xué)應(yīng)用

EVG ® 720自動(dòng)SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米，設(shè)有EVG's專有SmartNIL ®技術(shù)

EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識(shí)，能夠大規(guī)模制造微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結(jié)構(gòu)，具有****的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件，例如衍射光學(xué)元件（ DOEs）。

*分辨率取決于過(guò)程和模板

如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問(wèn)官網(wǎng)，獲得更多信息。 中科院納米壓印廠家納米壓印設(shè)備可用來(lái)進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。

據(jù)外媒報(bào)道，美國(guó)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校（UWMadison）的研究人員們，已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實(shí)現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅大達(dá)簡(jiǎn)化了低成本高性能、無(wú)線靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管（MOSFET）的制造工藝，還克服了許多使用標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)制造設(shè)備時(shí)所遇到的操作上的問(wèn)題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板，并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場(chǎng)。研究人員稱，這項(xiàng)突破性的納米壓印平板印刷制造工藝，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能，MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見(jiàn)的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求，MOSFET尺寸也在不斷變小，然而這也引發(fā)了一些問(wèn)題。

IQAlignerUV-NIL特征：用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸，可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝EVG專有的全自動(dòng)浮雕功能抵抗分配站集成粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能IQAlignerUV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型曝光源：汞光源對(duì)準(zhǔn)：≤±0.5微米自動(dòng)分離：支持的前處理：涂層：水坑點(diǎn)膠（可選）迷你環(huán)境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)，微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。

曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用，例如仿生學(xué)、柔性電子學(xué)和光學(xué)器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板，可以實(shí)現(xiàn)亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無(wú)法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu)。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無(wú)外界提供壓力下與曲面保形接觸，實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)在非平面基底上的壓印復(fù)制，但是由于彈性模板的楊氏模量較低，所以壓印結(jié)構(gòu)的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發(fā)展現(xiàn)狀，結(jié)合傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)和軟壓印技術(shù)，中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所團(tuán)隊(duì)發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復(fù)合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結(jié)構(gòu)層和彈性基底層。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò)，侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)系我們進(jìn)行刪除，謝謝?。?EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。高校納米壓印出廠價(jià)

EVG開(kāi)拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。中芯國(guó)際納米壓印摩擦學(xué)應(yīng)用

    面板廠為補(bǔ)償較低的開(kāi)口率，多運(yùn)用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù)，但此作法的缺點(diǎn)是用電量較高。若運(yùn)用NIL制程，可確保適當(dāng)?shù)拈_(kāi)口率，降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過(guò)數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時(shí)間長(zhǎng)，經(jīng)過(guò)多次曝光后，在圖樣間會(huì)形成細(xì)微的縫隙，無(wú)法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程，是LCD領(lǐng)域中***一個(gè)創(chuàng)新任務(wù)。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時(shí)程，偏光膜企業(yè)的營(yíng)收可能減少。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò)。中芯國(guó)際納米壓印摩擦學(xué)應(yīng)用