奧地利納米壓印當?shù)貎r格

EVG®770特征：微透鏡用于晶片級光學器件的高效率制造主下降到納米結(jié)構為SmartNIL®簡單實施不同種類的大師可變抗蝕劑分配模式分配，壓印和脫模過程中的實時圖像用于壓印和脫模的原位力控制可選的光學楔形誤差補償可選的自動盒帶間處理EVG®770技術數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：柔軟的UV-NIL曝光源：大功率LED（i線）>100mW/cm2對準：頂側(cè)顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500nm和精細校準≤±300nm手個印刷模具到模具的放置精度：≤1微米有效印記區(qū)域：長達50x50毫米自動分離：支持的前處理：涂層：液滴分配（可選）。SmartNIL 非常適合對具有復雜納米結(jié)構微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學診斷設備生產(chǎn)。奧地利納米壓印當?shù)貎r格

EVGROUP®|產(chǎn)品/納米壓印光刻解決方案

納米壓印光刻的介紹：

EV Group是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究，開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗進行了優(yōu)化，以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結(jié)果。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。

光刻納米壓印三維芯片應用步進重復納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。

EVG®610紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng)，從碎片到蕞大150毫米。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間瑾為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。

EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)

應用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

EVG510 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。該設備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應選項

外部浮雕和冷卻站 岱美儀器代理的SmartNIL是一項關鍵的啟用技術，可用于顯示器，生物技術和光子應用中的許多新創(chuàng)新。

    具體說來就是，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動，因為標準的半導體制造技術旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時會泄到別的不需要的地方，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應”區(qū)域，并導致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學、德克薩斯大學、以及加州大學伯克利分校等），開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質(zhì)的新技術。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形，從而帶來更加“物理可控”的生產(chǎn)過程。（來自網(wǎng)絡。納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構的低成本的技術，大批量替代光刻技術。奧地利納米壓印當?shù)貎r格

EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案，適用于第3代基材。奧地利納米壓印當?shù)貎r格

儀器儀表行業(yè)本身是一個加入，產(chǎn)出周期較長的行業(yè)，所以作為業(yè)內(nèi)廠家，一方面要尋找中、短期市場熱點，另一方面也要在產(chǎn)品、技術研發(fā)方面有長遠的規(guī)劃;儀器儀表在工業(yè)生產(chǎn)過程中扮演著重要的角色，用到各種各樣的儀器儀表，如半導體工藝設備，半導體測量設備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀等為工業(yè)的檢驗、測量和計量提供技術支撐。目前我國磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務信息咨詢服務 產(chǎn)品，主要集中在中低檔市場，而市場則主要被國外品牌所占據(jù)。在某些領域，國產(chǎn)產(chǎn)品甚至是空白，這就需要未來我國儀器儀表向市場進軍，擴大產(chǎn)品占比。儀器儀表在工業(yè)發(fā)展中具有重要作用，這也使得儀器儀表得到快讀發(fā)展。各行各業(yè)對儀器儀表的市場需求也在不斷提升，貿(mào)易企業(yè)正在發(fā)展中尋求技術創(chuàng)新和質(zhì)量提升。儀器儀表的質(zhì)量、性能關系到工業(yè)安全，必須重視。奧地利納米壓印當?shù)貎r格