中國(guó)澳門(mén)膜厚儀

光源用于一般用途應(yīng)用之光源L思-DDT2可用在Filmetrics設(shè)備的光源具有氘燈-鎢絲與遠(yuǎn)端控制的快門(mén)來(lái)取代舊款HamamatsuD2光源L思-DLED1具有高亮度白光LED的光源光纖配件：CP-RepairToolKitCP-1-1.3接觸探頭是相當(dāng)堅(jiān)固的，但是光纖不能經(jīng)常被抽屜碰撞或者被椅子壓過(guò)。該套件包括指令，以及簡(jiǎn)單的維修工具，新的和舊風(fēng)格的探頭。FO-PAT-SMA-SMA-200-22米長(zhǎng)，直徑200um的光纖，兩端配備SMA接頭。FO-RP1-.25-SMA-200-1.32米長(zhǎng)，分叉反射探頭。F50-s980測(cè)厚范圍：4μm-1mm；波長(zhǎng)：960-1000nm。中國(guó)澳門(mén)膜厚儀

F54包含的內(nèi)容：集成光譜儀/光源裝置MA-Cmount安裝轉(zhuǎn)接器顯微鏡轉(zhuǎn)接器光纖連接線BK7參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000厚度標(biāo)準(zhǔn)聚焦/厚度標(biāo)準(zhǔn)4",6"and200mm參考晶圓真空泵備用燈型號(hào)厚度范圍*波長(zhǎng)范圍F54:20nm-40μm380-850nmF54-UV:4nm-30μm190-1100nmF54-NIR:40nm-100μm950-1700nmF54-EXR:20nm-100μm380-1700nmF54-UVX:4nm-100μm190-1700nm*取決于材料與顯微鏡額外的好處：每臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)建超過(guò)130種材料庫(kù),隨著不同應(yīng)用更超過(guò)數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一-周五）網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級(jí)計(jì)劃中國(guó)澳門(mén)膜厚儀基板材料: 如果薄膜位于粗糙基板 (大多數(shù)金屬) 上的話，一般不能測(cè)量薄膜的折射率。

測(cè)量有機(jī)發(fā)光顯示器有機(jī)發(fā)光顯示器(OLEDs)有機(jī)發(fā)光顯示器正迅速?gòu)膶?shí)驗(yàn)室轉(zhuǎn)向大規(guī)模生產(chǎn)。明亮，超薄，動(dòng)態(tài)的特性使它們成為從手機(jī)到電視顯示屏的手選。組成顯示屏的多層薄膜的精密測(cè)量非常重要，但不能用傳統(tǒng)接觸型的輪廓儀，因?yàn)樗鼤?huì)破壞顯示屏表面。我們的F20-UV，F(xiàn)40-UV，和F10-RT-UV將提供廉價(jià)，可靠，非侵入測(cè)量原型裝置和全像素化顯示屏。我們的光譜儀還可以測(cè)量大氣敏感材料的化學(xué)變化。測(cè)量透明導(dǎo)電氧化膜不論是銦錫氧化物，氧化鋅，還是聚合物（3,4-乙烯基），我們獨(dú)有的ITO光學(xué)模型，加上可見(jiàn)/近紅外儀器，可以測(cè)得厚度和光學(xué)常數(shù)，費(fèi)用和操作難度瑾是光譜橢偏儀的一小部分。

F10-HC輕而易舉而且經(jīng)濟(jì)有效地分析單層和多層硬涂層F10-HC以FilmetricsF20平臺(tái)為基礎(chǔ)，根據(jù)光譜反射數(shù)據(jù)分析快速提供薄膜測(cè)量結(jié)果。

F10-HC先進(jìn)的模擬算法是為測(cè)量聚碳酸酯和其它單層和多層硬涂層(例如，底涂/硬涂層)專門(mén)設(shè)計(jì)的。全世界共有數(shù)百臺(tái)F10-HC儀器在工作，幾乎所有主要汽車(chē)硬涂層公司都在使用它們。像我們所有的臺(tái)式儀器一樣，F(xiàn)10-HC可以連接到您裝有Windows計(jì)算機(jī)的USB端口并在幾分鐘內(nèi)完成設(shè)定。

包含的內(nèi)容：

集成光譜儀/光源裝置FILMeasure8

軟件FILMeasure讀立軟件(用于遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)分析)CP-1-1.3探頭BK7

參考材料TS-Hardcoat-4um厚度標(biāo)準(zhǔn)備用燈

額外的好處：應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一-周五）

網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級(jí)計(jì)劃。 以真空鍍膜為設(shè)計(jì)目標(biāo)，F(xiàn)10-RT 只要單擊鼠標(biāo)即可獲得反射和透射光譜。

F30系列監(jiān)控薄膜沉積，蕞強(qiáng)有力的工具F30光譜反射率系統(tǒng)能實(shí)時(shí)測(cè)量沉積率、沉積層厚度、光學(xué)常數(shù)(n和k值)和半導(dǎo)體以及電介質(zhì)層的均勻性。樣品層分子束外延和金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積:可以測(cè)量平滑和半透明的，或輕度吸收的薄膜。這實(shí)際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導(dǎo)體材料。各項(xiàng)優(yōu)點(diǎn):極大地提高生產(chǎn)力低成本—幾個(gè)月就能收回成本A精確—測(cè)量精度高于±1%快速—幾秒鐘完成測(cè)量非侵入式—完全在沉積室以外進(jìn)行測(cè)試易于使用—直觀的Windows?軟件幾分鐘就能準(zhǔn)備好的系統(tǒng)型號(hào)厚度范圍*波長(zhǎng)范圍F30:15nm-70μm380-1050nmF30-EXR:15nm-250μm380-1700nmF30-NIR:100nm-250μm950-1700nmF30-UV:3nm-40μm190-1100nmF30-UVX:3nm-250μm190-1700nmF30-XT:0.2μm-450μm1440-1690nmF30測(cè)厚范圍：15nm-70μm；波長(zhǎng)：380-1050nm。重慶膜厚儀

基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測(cè)量。中國(guó)澳門(mén)膜厚儀

F54自動(dòng)化薄膜測(cè)繪FilmetricsF54系列的產(chǎn)品能以一個(gè)電動(dòng)R-Theta平臺(tái)自動(dòng)移動(dòng)到選定的測(cè)量點(diǎn)以每秒測(cè)繪兩個(gè)點(diǎn)的速度快速的測(cè)繪薄膜厚度,樣品直徑達(dá)450毫米可選擇數(shù)十種內(nèi)建之同心圓,矩形,或線性圖案模式,或自行建立無(wú)數(shù)量限制之測(cè)量點(diǎn).瑾需具備基本電腦技能的任何人可在數(shù)分鐘內(nèi)自行建立配方F54自動(dòng)化薄膜測(cè)繪只需聯(lián)結(jié)設(shè)備到您運(yùn)行Windows?系統(tǒng)計(jì)算機(jī)的USB端口,可在幾分鐘輕松設(shè)置不同的型號(hào)主要是由厚度和波長(zhǎng)范圍作為區(qū)別。通常較薄的膜需要較短波長(zhǎng)作測(cè)量(如F54-UV)用來(lái)測(cè)量較薄的膜,而較長(zhǎng)的波長(zhǎng)可以用來(lái)測(cè)量更厚，更粗糙，或更不透明的薄膜中國(guó)澳門(mén)膜厚儀