無(wú)錫純鋁硬質(zhì)氧化批發(fā)

硬質(zhì)氧化工藝特點(diǎn)：硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的電解液在-10℃～+5℃左右的溫度下電解。由于硬質(zhì)陽(yáng)極氧化所生成的氧化膜層具有較高的電阻，會(huì)直接影響到電流強(qiáng)度的氧化作用。為了取得較厚的氧化膜，勢(shì)必要增加外電壓，其目的是為了消除電阻大的影響，而使電流密度保持一定，但電流較大時(shí)會(huì)產(chǎn)生激烈的發(fā)熱現(xiàn)象，加上生成氧化膜時(shí)會(huì)放出大量的熱量，使零件周?chē)娊庖簻囟葎×疑仙?，溫度上升將?huì)加速氧化膜的溶解，使氧化膜無(wú)法變厚。解決辦法：就是采用冷卻設(shè)備和攪拌相結(jié)合。冷卻設(shè)備使電解液強(qiáng)行降溫，攪拌是為了使整槽電解液溫度均勻，以利于獲得較高質(zhì)量的硬質(zhì)氧化膜。零件硬質(zhì)陽(yáng)極氧化表面出現(xiàn)白色斑點(diǎn)說(shuō)明區(qū)域存在明顯的腐蝕形貌。無(wú)錫純鋁硬質(zhì)氧化批發(fā)

在鋁硬質(zhì)氧化染色整個(gè)流程中，因?yàn)檠趸に囋蛟斐扇旧涣际潜容^普遍的。氧化膜的膜厚和孔隙均勻一致是染色時(shí)獲得均勻一致顏色的前提和基礎(chǔ)，為獲得均勻一致的氧化膜，保證足夠的循環(huán)量，冷卻量，保證良好的導(dǎo)電性是舉足輕重的，此外就是氧化工藝的穩(wěn)定性。硫酸濃度，控制在180—200g／l。稍高的硫酸濃度可促進(jìn)氧化膜的溶解反應(yīng)加快，利于孔隙的擴(kuò)張，更易于染色；鋁離子濃度，控制在5—15g／l。鋁離子小于5g／l，生成的氧化膜吸附能力降低，影響上色速度，鋁離子大于15g／l時(shí)，氧化膜的均勻性受到影響，容易出現(xiàn)不規(guī)則的膜層。鋁硬質(zhì)氧化溫度，控制在20℃左右，氧化槽液的溫度對(duì)染色的影響非常明顯，過(guò)低的溫度致使氧化膜的膜孔致密，染色速度明顯減緩；溫度過(guò)高，氧化膜蔬松，容易粉化，不利于染色的控制，氧化槽的溫差變化應(yīng)在2℃以?xún)?nèi)為宜。張家港彩色硬質(zhì)氧化報(bào)價(jià)大部分硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜的厚度為50-80um。

硬質(zhì)氧化是一種電化學(xué)處理方式，在純鋁或鋁合金材料上面形成一極硬、耐高溫、耐磨、有高電阻性、耐腐蝕的硬氧化膜。此一極高之表面硬度，配合鋁合金本身輕、機(jī)械加工容易、低成本的特性，普遍應(yīng)用于各種工業(yè)用途上，此值我國(guó)工業(yè)升級(jí)之際，更是精密工業(yè)不可或缺的一環(huán)。尺寸精確：膜層厚度一般為50±5μm,元件單面尺寸約增加25μm，對(duì)于較精細(xì)公差及特殊厚度要求，需于圖面上特別注明。硬質(zhì)氧化膜的形式是有一半的膜在鋁的內(nèi)部一半長(zhǎng)出來(lái)，與鋁基體金屬的結(jié)合力很強(qiáng)，很難用機(jī)械方法將它們分離，即使膜層隨基體彎曲直至破裂，膜層與基體金屬仍保持良好的結(jié)合。

硬質(zhì)陽(yáng)極氧化過(guò)程的機(jī)理與前述的普通陽(yáng)極氧化成膜機(jī)理一樣，都是膜的電化學(xué)生成與化學(xué)溶解兩個(gè)過(guò)程相互轉(zhuǎn)變的結(jié)果。但是，為了得到硬度高、膜層厚的氧化膜，在陽(yáng)極氧化過(guò)程中，必須降低槽液溫度，以便降低氧化膜的溶解速度。由于硬質(zhì)氧化膜厚、致密，具有較高的電阻，影響陽(yáng)極氧化過(guò)程的進(jìn)行。為了使氧化正常進(jìn)行，并達(dá)到要求的厚度，勢(shì)必要提高槽電壓來(lái)克服電阻的影響，使陽(yáng)極電流保持一定。由于電壓升高，電流過(guò)大，會(huì)產(chǎn)生大量的熱，造成零件附近溶液的溫度升高，加速氧化膜的溶解。為了消除這一影響，需要采用制冷設(shè)備進(jìn)行人工強(qiáng)制降溫，并用凈化的壓縮空氣強(qiáng)烈攪拌，帶走零件周?chē)臒崃?。鋁合金硬質(zhì)氧化膜因其具有的特點(diǎn)而受到普遍的重視。

常溫鋁硬質(zhì)陽(yáng)極氧化又叫普通氧化，膜厚一般在5-15微米，硬度200-400HV。低溫氧化一般用于硬質(zhì)氧化，硬質(zhì)氧化的特點(diǎn)。1：色澤膜層呈灰.褐.墨綠至黑色，與材料成分和工藝有關(guān)，而且溫度愈低，膜層愈厚色澤愈深。2：硬度氧化膜硬度極高，在純鋁上HV=1200-1500，在合金鋁上硬度明顯降低。HV=400-800.由于微孔可吸附潤(rùn)滑劑，故可提高耐磨能力。3：厚度膜層較高可達(dá)到250微米，所以又稱(chēng)為厚膜氧化。4：腐蝕具有極高的耐腐蝕能力，尤其在工業(yè)大氣和海洋性氣候中有好的耐腐蝕性能。5：絕緣與絕熱性硬質(zhì)膜電阻大，膜層100微米，可耐2000伏以上，熔點(diǎn)達(dá)2050攝氏度，導(dǎo)熱系數(shù)低至67KW/(M.K),是極好的耐熱材料。6：結(jié)合力與機(jī)體結(jié)合十分強(qiáng)固。由于鋁硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的特性，故應(yīng)用的地方很多。主要用于耐熱，耐磨，絕緣性能要求很高的鋁制零件，如活塞，汽缸，軸承，水電設(shè)備葉輪等。溫度是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一。青浦附近硬質(zhì)氧化廠

硬質(zhì)氧化后產(chǎn)品的外部尺寸會(huì)變大，內(nèi)孔會(huì)變小。無(wú)錫純鋁硬質(zhì)氧化批發(fā)

硬質(zhì)陽(yáng)極氧化和普通陽(yáng)極氧化的區(qū)別：硬質(zhì)氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部，50%附著在鋁合金表面，因此硬質(zhì)氧化后產(chǎn)品外部尺寸變大，內(nèi)孔變小。一、操作條件方面的差異：1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過(guò)高易出現(xiàn)粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對(duì)來(lái)說(shuō)溫度越低硬質(zhì)越高。2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質(zhì)氧化有時(shí)高達(dá)120V。二、膜層性能方面的差異：1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對(duì)較??；硬質(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm，過(guò)低達(dá)不到硬度≥300HV的要求。2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質(zhì)氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關(guān)）。3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質(zhì)氧化孔隙率低。4、普通氧化基本是透明膜；硬質(zhì)氧化由于膜厚，為不透明膜。5、適用場(chǎng)合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場(chǎng)合。無(wú)錫純鋁硬質(zhì)氧化批發(fā)