太倉本色硬質(zhì)氧化企業(yè)

鋁及其合金經(jīng)硬質(zhì)陽極氧化處理后，可在其表面生成厚度達(dá)幾十到幾百微米的陽極氧化膜，由于這層氧化膜具有極高的硬度(鋁合金上可達(dá)400-6000kg/mm2，純鋁上可達(dá)1500kg/mm2)，通過對(duì)于鋁合金硬質(zhì)陽極氧化工藝研發(fā)及發(fā)展，可以得出優(yōu)良的耐磨性、耐熱性(氧化膜熔點(diǎn)可達(dá)2050℃)和絕緣性，提高了材質(zhì)本身的物理性能。鑄鋁合金硬質(zhì)陽極氧化：合金中含有較多的硅(超過7%)就很難在硫酸體系中進(jìn)行陽極氧化，而ZL102合金含硅量高達(dá)10%-13%，高硅的存在，容易造成硅的晶向偏析，導(dǎo)致成膜困難，膜層均勻性差。昆山顯榮電子工業(yè)有限公司為您提供硬質(zhì)氧化，期待您的光臨！太倉本色硬質(zhì)氧化企業(yè)

用硬質(zhì)氧化工藝來代替?zhèn)鹘y(tǒng)的鍍硬鉻鍍層，與硬鉻工藝相比它具有成本低，膜層結(jié)合牢固，鍍液，清洗廢液處理方便等優(yōu)點(diǎn)。但此工藝所得膜層的缺點(diǎn)是膜層厚度較大時(shí)，對(duì)鋁和鋁合金的機(jī)械疲勞強(qiáng)度指標(biāo)有所影響。通過提高鋁類基材表面的清潔度，即使在非鉻酸鹽處理中，也可以獲得與鉻酸鹽處理相同或在其之上的與涂膜的密合性和耐腐蝕性。該方法是在鋁類基材上，在進(jìn)行具有化成處理的工序的涂布前處理后進(jìn)行涂布的鋁類基材的表面處理方法，在對(duì)鋁類基材進(jìn)行上述涂布的前處理前，通過強(qiáng)堿性水溶液或電解水進(jìn)行處理。太倉本色硬質(zhì)氧化企業(yè)硬質(zhì)氧化，就選昆山顯榮電子工業(yè)有限公司，用戶的信賴之選，歡迎新老客戶來電！

硬質(zhì)陽極氧化膜應(yīng)怎樣檢驗(yàn)?①合格的氧化膜層呈均勻的深黑色、藍(lán)黑色或褐色。②氧化膜厚度約50μm。③氧化膜硬度HV≥300。④若氧化膜是均勻的灰黑色，只要厚度和硬度符合設(shè)計(jì)要求，仍為合格。⑤氧化膜雖然是均勻的深黑色、藍(lán)黑色或褐色，厚度和硬度也符合設(shè)計(jì)要求，但有許多白色或灰白色點(diǎn)，則不合格。⑥氧化膜雖然是均勻的深黑色、藍(lán)黑色或褐色，但有有規(guī)律的一道道不均勻現(xiàn)象，這是基體金屬的毛病，只要厚度和硬度符合設(shè)計(jì)要求，也為合格。⑦氧化膜上不允許有因燒焦而形成易擦掉的疏松膜層和因局部受熱使氧化膜被腐蝕的光亮斑點(diǎn)和邊緣、圓角部分膜層脫落的現(xiàn)象。整個(gè)零件表面除夾具印外，局部表面不得有無氧化膜的地方。允許包鋁鈑金件氧化膜出現(xiàn)小的裂紋。⑧氧化膜的厚度測定。從零件或試件上切取橫向試片，在金相顯微鏡下測定氧化膜的厚度，也可以用渦流測厚儀直接測出氧化膜厚度。⑨氧化膜的硬度測定：氧化膜的硬度(顯微硬度)可以用顯微硬度值在橫向試片上測出，不應(yīng)低于300kgf／mm2，LYl2合金不低于250kgf／mm2。

硬質(zhì)氧化的原理：單純硫酸型鋁合金硬質(zhì)陽極氧化原理和普通陽極氧化沒有本質(zhì)區(qū)別，如果是混酸型硬質(zhì)氧化會(huì)存在一些附反應(yīng)。1.陰極反應(yīng)：4H++4e=2H2↑。2.陽極反應(yīng)：4OH－－4e=2H2O+O2↑。3.鋁氧化：陽極上析出的氧呈原子狀態(tài),比分子狀態(tài)的氧更為活潑，更易與鋁起反應(yīng)：2Al+3O→Al2O3。4.氧化于陽極膜溶解的動(dòng)平衡：氧化膜隨著通電時(shí)間的增加，電流增大而促使氧化膜增厚。與此同時(shí)，由于（Al2O3）的化學(xué)性質(zhì)有兩重性，即它在酸性溶液中呈堿性氧化物，在堿性溶液中呈酸性氧化物。無疑在硫酸溶液中氧化膜液發(fā)生溶解，只有氧化膜的生成速度大于它的溶解速度，氧化膜才有可能增厚，當(dāng)溶解速度與生成速度相等時(shí)，氧化膜不再增厚。當(dāng)氧化速度過分大于溶解速度時(shí)，鋁和鋁合金制件表面易生成帶粉狀的氧化膜。昆山顯榮電子工業(yè)有限公司是一家專業(yè)提供硬質(zhì)氧化的公司，有想法的不要錯(cuò)過哦！

硬質(zhì)氧化全稱是硬質(zhì)陽極氧化處理。硬質(zhì)陽極氧化膜一般要求厚度為25-150um，大部分硬質(zhì)陽極氧化膜的厚度為50-80um，膜厚小于25um的硬質(zhì)陽極氧化膜，用于齒鍵和螺線等使用場合的零部件，耐磨或絕緣用的陽極氧化膜厚度約為50um，在某些特殊工藝條件下，要求生產(chǎn)厚度為125um以上的硬質(zhì)陽極氧化膜，但是必須注意陽極氧化膜越厚，其外層的顯微硬度可以越低，膜層表面的粗糙度增加。硬質(zhì)陽極氧化的槽液，一般是硫酸溶液以及硫酸添加有機(jī)酸，如草酸、氨基磺酸等。另外，可通過降低陽極氧化溫度或降低硫酸濃度來實(shí)現(xiàn)硬質(zhì)陽極氧化處理。對(duì)于銅含量大于5%或硅含量大于8%的變形鋁合金，或者高硅的壓鑄造鋁合金，也許還應(yīng)考慮增加一些陽極氧化的特殊措施。例如：對(duì)于2XXX系鋁合金，為了避免鋁合金在陽極氧化過程中被燒損，可采用385g/L的硫酸加上15g/L草酸作為電解槽液，電流密度也應(yīng)該提高到2.5A/dm以上。硬質(zhì)氧化，就選昆山顯榮電子工業(yè)有限公司，用戶的信賴之選，歡迎您的來電哦！太倉本色硬質(zhì)氧化企業(yè)

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硬質(zhì)陽極氧化和普通陽極氧化的區(qū)別：硬質(zhì)氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部，50%附著在鋁合金表面，因此硬質(zhì)氧化后產(chǎn)品外部尺寸變大，內(nèi)孔變小。一、操作條件方面的差異：1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現(xiàn)粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對(duì)來說溫度越低硬質(zhì)越高。2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質(zhì)氧化有時(shí)高達(dá)120V。二、膜層性能方面的差異：1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對(duì)較??；硬質(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm，過低達(dá)不到硬度≥300HV的要求。2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質(zhì)氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關(guān)）。3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質(zhì)氧化孔隙率低。4、普通氧化基本是透明膜；硬質(zhì)氧化由于膜厚，為不透明膜。5、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場合。太倉本色硬質(zhì)氧化企業(yè)

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