硬質(zhì)陽極氧化處理采用直流電源或直流和交流疊加電源。其溶液種類也較多，以采用硫酸硬質(zhì)陽極化處理較普遍。采用硫酸硬質(zhì)陽極氧化法時，應(yīng)考慮影響氧化膜層的各個因素。（1）硫酸氧化處理的濃度：常采用200-250g/L，槽液的相對密度（室溫下）為1.12-1.15。（2）水：水是硬質(zhì)陽極氧化處理的主要成分，一般采用蒸餾水或冷開水，而不用自來水，因為自來水中含有氯離子，當(dāng)Cl->1%時，其制件在氧化過程中就會腐蝕，并出現(xiàn)白斑。（3）氧化處理的溫度：溫度是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一。嚴格控制溫度，其氧化膜增厚，硬度提高且光滑、致密。（4）電流密度：電流也是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一，它與氧化膜的生成速度、氧化膜的組織有較大關(guān)系。電流密度過低時，氧化膜的生成速度緩慢，處理時間增加；反之，過高時，會導(dǎo)致溶液和電極因焦耳效應(yīng)而過熱。使氧化膜溶解速度增加，硬度下降，表面粗糙、疏松起粉。陽極氧化，就選昆山顯榮電子工業(yè)有限公司，歡迎客戶來電！江蘇高光陽極氧化認證
鋁陽極氧化：以鋁或鋁合金制品為陽極，置于電解質(zhì)溶液中進行通電處理，利用電解作用使其表面形成氧化鋁薄膜的過程,稱為鋁及鋁合金的陽極氧化處理。經(jīng)過陽極氧化處理，鋁表面能生成幾個微米———幾百個微米的氧化膜。比起鋁合金的天然氧化膜，其耐蝕性、耐磨性和裝飾性都有明顯的改善和提高。鋁陽極氧化的原理實質(zhì)上就是水電解的原理。當(dāng)電流通過時,將發(fā)生以下的反應(yīng)：在陰極上,按下列反應(yīng)放出H2：2H++2e→H2在陽極上,4OH-4e→2H2O+O2,析出的氧不是分子態(tài)的氧(O2),還包括原子氧(O),以及離子氧(O-2),通常在反應(yīng)中以分子氧表示。作為陽極的鋁被其上析出的氧所氧化,形成無水的Al2O3膜：2Al+3[O]=Al2O3+1675.7KJ應(yīng)指出,生成的氧并不是全部與鋁作用,一部分以氣態(tài)的形式析出。無錫噴砂陽極氧化認證昆山顯榮電子工業(yè)有限公司是一家專業(yè)提供陽極氧化的公司，歡迎您的來電哦！
陽極氧化與導(dǎo)電氧化的區(qū)別：1)陽極氧化是在通高壓電的情況下進行的，它是一種電化學(xué)反應(yīng)過程;而導(dǎo)電氧化(又叫化學(xué)氧化)不需要通電，只需要在水里浸泡就行了，它是一種純化學(xué)反應(yīng)。2)陽極氧化需要的時間很長，往往要幾十分鐘，而導(dǎo)電氧化只需要短短的幾十秒。3)陽極氧化生成的膜有幾個微米到幾十個微米，并且堅硬耐磨；導(dǎo)電氧化生成的膜0.01—0.15微米，耐磨性不是很好，但是既能導(dǎo)電又耐大氣腐蝕，這就是它的優(yōu)點。4)氧化膜本來都是不導(dǎo)電的，但因為導(dǎo)電氧化生成的膜實在是很薄，所以就是導(dǎo)電的了。
陽極氧化在一定限度內(nèi)，電流密度升高，膜生長速度升高，氧化時間縮短，生成膜的孔隙多，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過高，則會因焦耳熱的影響，使零件表面過熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過低，則膜生長速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。氧化時間：氧化時間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時,膜的生長速度與氧化時間成正比；但當(dāng)膜生長到一定厚度時,由于膜電阻升高,影響導(dǎo)電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長速度會逐漸降低，不再增加。昆山顯榮電子工業(yè)有限公司為您提供陽極氧化，有需求可以來電！
鋁及鋁合金型材的成分及熱處理狀態(tài)對所生成的陽極氧化膜的外觀及性能有很大的影響。如進行硫酸陽極氧化時，銅含量高的鋁合金型材，由于Cu、Al的溶解使膜層比較疏松、多孔；含硅高的鋁合金膜層灰暗。含銅大于5%或含硅大于7.5%的鋁合金不宜進行鉻酸陽極氧化。含銅或硅含量高的鋁合金型材不能按膏規(guī)的方法進行硬質(zhì)陽極氧化，而必須選用高頻硬質(zhì)氧化電源進行。對于裝飾性陽極氧化，對鋁及鋁合金材質(zhì)的要求就較高。一般只有純鋁、包鋁、鋁鎂、鋁錳合金才能染著較鮮艷的色彩。陽極氧化，就選昆山顯榮電子工業(yè)有限公司，讓您滿意，期待您的光臨！無錫噴砂陽極氧化認證
昆山顯榮電子工業(yè)有限公司為您提供陽極氧化，歡迎新老客戶來電！江蘇高光陽極氧化認證
硬質(zhì)陽極氧化：一、操作條件方面的差異：1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現(xiàn)粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質(zhì)越高。2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質(zhì)氧化有時高達120V。二、膜層性能方面的差異：1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對較薄；硬質(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm，過低達不到硬度≥300HV的要求。2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質(zhì)陽極氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關(guān)）。3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質(zhì)氧化孔隙率低。4、普通氧化基本是透明膜；硬質(zhì)氧化由于膜厚，為不透明膜。5、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場合。江蘇高光陽極氧化認證