吳中光面陽極氧化品質(zhì)

陽極氧化的膜的厚度是分級的，其等級規(guī)格取決于應(yīng)用，范圍從5微米到25微米不等。裝飾性裝飾應(yīng)用通常使用5微米的厚度，內(nèi)部應(yīng)用使用10或15微米的厚度。外部飾面要求25微米的薄膜厚度。陽極氧化適用于擠壓，鑄造，軋制，拉制和鍛造鋁制品。陽極氧化的處理順序：該過程從化學(xué)清潔和蝕刻開始。這使鋁表面具有無光澤的表面，可以通過陽極膜看到。通過將鋁浸入稀硫酸浴中并使電流在充當(dāng)陽極的鋁和陰極之間通過，來形成陽極膜。電流在20伏時約為6000安。由于薄膜是多孔且透明的，因此可以電解或用有機(jī)染料著色。通過在沸騰水中控制水合來密封表面。陽極氧化，就選昆山顯榮電子工業(yè)有限公司，讓您滿意，歡迎新老客戶來電！吳中光面陽極氧化品質(zhì)

鋁制品表面的自然氧化鋁既軟又薄，耐蝕性差，不能成為有效防護(hù)層更不適合著色。人工制氧化膜主要是應(yīng)用化學(xué)氧化和陽極氧化?；瘜W(xué)氧化就是鋁制品在弱堿性或弱酸性溶液中，部分基體金屬發(fā)生反應(yīng)，使其表面的自然氧化膜增厚或產(chǎn)生其他一些鈍化膜的處理過程，常用的化學(xué)氧化膜有鉻酸膜和磷酸膜，它們既薄吸附性又好，可進(jìn)行著色和封孔處理，化學(xué)氧化膜與陽極氧化膜相比，膜薄得多，抗蝕性和硬度比較低，而且不易著色，著色后的耐光性差，所以金屬鋁著色與配色介紹陽極化處理。常熟高耐磨陽極氧化加工陽極氧化，就選昆山顯榮電子工業(yè)有限公司，有需求可以來電陽極氧化！

鋁陽極氧化的封閉工藝：鋁氧化膜是多孔性膜，無論有沒有著色處理，在投入使用前都要進(jìn)行封閉處理，這樣才能提高其耐蝕性和耐候性。處理的方法有三類，即高溫水化反應(yīng)封閉、無機(jī)鹽封閉和有機(jī)物封閉等：（1）高溫水封閉這種方法是利用鋁氧化膜與水的水化反應(yīng)，將非晶質(zhì)膜變?yōu)樗辖Y(jié)晶膜：水化反應(yīng)在常溫和高溫下都可以進(jìn)行，但是在高溫下特別是在沸點時，所生成的水合結(jié)晶膜是非常穩(wěn)定的不可逆的結(jié)晶膜，因此，常用的鋁氧化膜的封閉處理就是沸水法或蒸汽法處理。（2）無機(jī)鹽封閉無機(jī)鹽法可以提高有機(jī)著色染料的牢度，因此在化學(xué)著色法中常用。①醋酸鹽法②硅酸鹽法（3）有機(jī)封閉法這是對鋁氧化膜進(jìn)行浸油、浸漆或進(jìn)行涂裝等，由于成本較高并且增加了工藝流程，因此不大采用，較多的還是用前述的兩類方法，并且以第一種高溫水合法為主流。

其他陽極氧化：草酸陽極氧化。對硫酸陽極氧化影響的大部分因素也適用于草酸陽極氧化，草酸陽極氧化可采用直流電、交流電或者交直流電迭加。用交流電氧化比直流電在相同條件下獲得膜層軟、彈性較??；用直流電氧化易出現(xiàn)孔蝕，采用交流電氧化則可防止，隨著交流成分的增加，膜的抗蝕性提高，但顏色加深，著色性比硫酸膜差。電解液中游離草酸濃度為3%-10%，一般為3%-5%，在氧化過程中每A·h約消耗0.13-0.14g，同時每A·h有0.08-0.09g的鋁溶于電解液生成草酸鋁，需要消耗5倍于鋁量的草酸。溶液中的鋁離子濃度控制在20g/L以下，當(dāng)含30g/L鋁時，溶液則失效。草酸電解液對氯化物十分敏感，陽極氧化純鋁或鋁合金時，氯化物的含量分別不應(yīng)超過0.04-0.02g/L，溶液可以用純水配制。陽極氧化，就選昆山顯榮電子工業(yè)有限公司，用戶的信賴之選，歡迎您的來電哦！

硬質(zhì)陽極氧化是鋁及鋁合金表面生成厚而堅硬氧化膜的一種工藝方法。硬質(zhì)膜的較大厚度可達(dá)250μm，純鋁上形成的膜層微硬度為12000-15000MPa，合金的一般為4000-6000MPa，與硬鉻鍍層的相差無幾，它們在低符合時耐磨性好，硬質(zhì)膜的孔隙率約為20%左右，比常規(guī)硫酸膜低。瓷質(zhì)陽極氧化：瓷質(zhì)陽極氧化鋁及鋁合金在草酸、檸檬酸和硼酸的鈦鹽、鋯鹽或釷鹽溶液中陽極氧化，溶液中鹽類金屬的氫氧化物進(jìn)入氧化膜孔隙中，從而使制品表面顯示出與不透明而致密的搪瓷或具有特殊光澤的類似塑料外觀的處理過程。瓷質(zhì)陽極氧化處理工藝流程與常規(guī)硫酸陽極氧化基本一致，不同的是瓷質(zhì)陽極氧化是在高的直流電壓（115-125V）和較高的溶液溫度（50-60度）、電解液經(jīng)常攪拌、經(jīng)常調(diào)節(jié)pH值使之處于1.6-2范圍內(nèi)的條件進(jìn)行昆山顯榮電子工業(yè)有限公司致力于提供陽極氧化，有需要可以聯(lián)系我司哦！常熟高耐磨陽極氧化加工

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陽極氧化在一定限度內(nèi)，電流密度升高，膜生長速度升高，氧化時間縮短，生成膜的孔隙多，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過高，則會因焦耳熱的影響，使零件表面過熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過低，則膜生長速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。氧化時間：氧化時間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時,膜的生長速度與氧化時間成正比；但當(dāng)膜生長到一定厚度時,由于膜電阻升高,影響導(dǎo)電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長速度會逐漸降低，不再增加。吳中光面陽極氧化品質(zhì)