量產(chǎn)型微射流均質(zhì)機(jī)廠家

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-06-26

微射流高壓均質(zhì)機(jī),又稱微射流均質(zhì)機(jī)、高壓微射流均質(zhì)機(jī)、微射流納米分散機(jī)、微流化器,是一種配備微射流金剛石交互容腔的第二代高壓均質(zhì)機(jī)。微射流高壓均質(zhì)機(jī)是一種基于動(dòng)態(tài)高壓微射流技術(shù)的流體處理設(shè)備,可用于納米級(jí)材料精細(xì)化粒徑控制過(guò)程,適用于制藥、化妝品、生物技術(shù)、精細(xì)化工、新能源材料等所有需要精致粒徑控制的領(lǐng)域。工作原理:微射流高壓均質(zhì)機(jī)可以簡(jiǎn)化分為兩部分:動(dòng)力單元與主要處理單元(微射流金剛石交互容腔),其中,動(dòng)力單元為物料加壓、加速產(chǎn)生高速液體射流提供動(dòng)力;微射流金剛石交互容腔作為主要處理單元,是物料處理受力發(fā)生的場(chǎng)所。通過(guò)微射流均質(zhì),產(chǎn)品質(zhì)量和穩(wěn)定性得到提升。量產(chǎn)型微射流均質(zhì)機(jī)廠家

量產(chǎn)型微射流均質(zhì)機(jī)廠家,微射流均質(zhì)機(jī)

高壓微射流均質(zhì)機(jī)用于生物、制藥、食品、化工和許多其他行業(yè)。 其產(chǎn)品和用途包括細(xì)胞破碎、食品均質(zhì)化、精細(xì)化學(xué)品、脂質(zhì)體的制備、脂肪乳劑、納米混懸劑、微乳劑、脂質(zhì)微球、疫苗、乳劑、乳制品、輸液溶液、染料、石墨烯、碳納米管、導(dǎo)電涂料、納米 氧化物分散體等。 全球高壓均質(zhì)機(jī)市場(chǎng)每年都在增長(zhǎng),在納米技術(shù)市場(chǎng)尤其如此。 為了制備藥物納米乳液,高壓均質(zhì)機(jī)(如納米均質(zhì)機(jī))是必不可少的:其壓力始終高于 20,000 psi,且具有高質(zhì)量的金剛石均質(zhì)腔,得以實(shí)現(xiàn)均勻的藥物級(jí)別納米顆粒尺寸分布。肇慶微射流均質(zhì)機(jī)行價(jià)微射流均質(zhì)機(jī)的能耗低,節(jié)約能源。

量產(chǎn)型微射流均質(zhì)機(jī)廠家,微射流均質(zhì)機(jī)

高壓微射流在CMP拋光液中的應(yīng)用,化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)技術(shù)具有獨(dú)特的化學(xué)和機(jī)械相結(jié)合的效應(yīng),是在機(jī)械拋光的基礎(chǔ)上,根據(jù)所要拋光的表面,加入相應(yīng)的化學(xué)試劑,從而達(dá)到增強(qiáng)拋光和選擇性拋光的效果。化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)是迄今獨(dú)一可以提供整體平面化的表面精加工技術(shù),它是從原子水平上進(jìn)行材料去除,從而獲得超光滑和較低損傷表面,該技術(shù)普遍應(yīng)用于光學(xué)元件、計(jì)算機(jī)硬盤、微機(jī)電系統(tǒng)、集成電路等領(lǐng)域。拋光液是化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)的關(guān)鍵之一,其性能直接影響著被拋光工件的表面質(zhì)量。

微射流均質(zhì)機(jī):1、微射流均質(zhì)機(jī)的技術(shù)優(yōu)勢(shì),微射流均質(zhì)機(jī)具有以下技術(shù)優(yōu)勢(shì):高效率:能夠在較短的時(shí)間內(nèi)完成均質(zhì)過(guò)程。高均勻性:能夠?qū)崿F(xiàn)物料的高均勻性分散。溫和處理:對(duì)熱敏感物料的溫和處理,避免熱損傷。易于操作:設(shè)備操作簡(jiǎn)單,易于控制和維護(hù)。2、微射流均質(zhì)機(jī)的選購(gòu)指南,在選購(gòu)微射流均質(zhì)機(jī)時(shí),應(yīng)考慮以下因素:處理能力:根據(jù)生產(chǎn)需求選擇合適的處理能力。均質(zhì)效果:選擇能夠達(dá)到預(yù)期均質(zhì)效果的設(shè)備。設(shè)備材質(zhì):選擇耐腐蝕、易清潔的材質(zhì)。售后服務(wù):選擇提供良好售后服務(wù)的供應(yīng)商。微射流技術(shù)突破傳統(tǒng)攪拌和高壓均質(zhì)方法局限,實(shí)現(xiàn)更均勻的顆粒分布。

量產(chǎn)型微射流均質(zhì)機(jī)廠家,微射流均質(zhì)機(jī)

CMP拋光液一般由去離子水、磨料、pH值調(diào)節(jié)劑、氧化劑以及分散劑等添加劑組成。其中SiO2、Al2O3、CeO2 是應(yīng)用較普遍的磨料。由于納米磨料顆粒存在比表面積大、表面原子數(shù)多、表面能高等問(wèn)題使其在水相介質(zhì)中極易發(fā)生粒子團(tuán)聚和快速沉降,導(dǎo)致拋光過(guò)程中表面粗糙度增加、劃傷增多及拋光效率不穩(wěn)定。因此,如何均勻分散成為制備CMP拋光液關(guān)鍵工藝之一。通過(guò)微射高壓均質(zhì)機(jī)分散可以有效的將二氧化硅,二氧化鈰等氧化物均勻分散到納米級(jí),有效解決拋光液納米分散中團(tuán)聚的痛點(diǎn)。微射流均質(zhì)機(jī)保證產(chǎn)品口感和品質(zhì)的均衡。肇慶微射流均質(zhì)機(jī)行價(jià)

微射流均質(zhì)機(jī)可以根據(jù)不同的生產(chǎn)需求進(jìn)行調(diào)節(jié)和控制。量產(chǎn)型微射流均質(zhì)機(jī)廠家

微射流在石墨烯剝離中的應(yīng)用,石墨烯是已知的較先進(jìn)的材料之一,由于其獨(dú)特的特性,引起了人們的極大興趣,在物理、化學(xué)、材料、生物醫(yī)學(xué)和環(huán)境方面進(jìn)行了普遍的研究。開發(fā)一種簡(jiǎn)便的方法來(lái)生產(chǎn)高質(zhì)量、高產(chǎn)量的石墨烯對(duì)其商業(yè)化至關(guān)重要。生產(chǎn)石墨烯主要有兩種技術(shù):自上而下和自下而上。一般來(lái)說(shuō),氧化還原、化學(xué)氣相沉積、外延生長(zhǎng)和機(jī)械剝離可用于生產(chǎn)石墨烯。近年來(lái),液相剝離法作為一種從上到下制備高質(zhì)量石墨烯的新方法受到了普遍的關(guān)注。微射流技術(shù)以恒定的壓力和獨(dú)特設(shè)計(jì)的納米處理器可以確保物料的每一毫升體積都得到同樣的均質(zhì),所以重現(xiàn)性非常好。有成熟的微射流生產(chǎn)型設(shè)備,且從小試到生產(chǎn)都是用相同的微通道,只是將通道數(shù)并列增加,因此用戶在后續(xù)產(chǎn)能放大時(shí)較為容易,節(jié)省研發(fā)時(shí)間及費(fèi)用。量產(chǎn)型微射流均質(zhì)機(jī)廠家