可通過蒸發(fā)或蒸餾或者通過對(duì)比給定溫度下的泡點(diǎn)或的蒸氣壓來實(shí)施共沸型化合物的確定。在工業(yè)應(yīng)用的情況下使用共沸物是特別有利的，以使組合物再生，例如當(dāng)其飽和有污染物的時(shí)候。簡單蒸餾可回收初的共沸組合物，而沒有各組分的任何分餾。而且，2-甲基四氫呋喃(2-Me...

previadeliberacióndelConsejodeMinistrosensureunióndeldía28dediciembrede1995,DISPONGO:ArtículoúónTécnicaComplementariaMI-IP04?I...

ósitoyelfondodelfosoolasuperficiedecementodebecolocarseunespesormínimode30centíínimo30centímetrosmásqueloslímitesdeldepóáneces...

segúáuncertificadodefabricaciónconcadadepósitoenelquesejustifiqueelcumplimientodelosensayosdefinidosenlanormadefabricacióncorr...

deacuerdoconlaclasificacióndeáreasrealizadasegúnelprocedimientoindicadoenelReglamentoElectrotécnicodeBajaTensióóndeestosdepósi...

本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，來改善磷酸的浸潤性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù)：氮化硅是一種具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性的絕緣材料，氫氟酸和熱磷酸能對(duì)氮化硅進(jìn)行緩慢地腐蝕。在半導(dǎo)體制造工藝中，一般...

delascualesunasóloseutilizaráparaelaccesoalinteriordeldepósitoydebequedarlibredecualquiertuberíánaunadistanciasuficientedelasu...

本實(shí)用新型屬于廢液處理領(lǐng)域，尤其涉及一種酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)。背景技術(shù)：酸性蝕刻液是用于印制電路板線路制作和多層板內(nèi)層制作的蝕刻液，隨著電路板行業(yè)的迅速發(fā)展，產(chǎn)生的廢液量越來越大，發(fā)掘的污染物種類也越來越多，對(duì)環(huán)境造成巨大的危害，此類問題也成為社...

Parasurtidoresencabezalelectrónicoadosadoasucuerpooalacolumnademangueras.)Lasbarrerasdevaportipo1cumpliránlosrequisitossiguien...

desecciónmínima16milíóneléctricadelapuestaatierrapodrárealizarseatravésdeuninterruptormanual,congradodeprotecciónadecuadoalacl...

這是除去固體顆粒、電子流、水、或者或多或少具有極性的油脂污染的要求。在精細(xì)清洗中，經(jīng)常存在裝有凹槽、肋條或盲孔的非常復(fù)雜的部件，必須用溶劑對(duì)其進(jìn)行潤濕，以使溶劑在這些難洗位置發(fā)揮作用。氟化溶劑來自提供表面的可能性的潤濕的溶劑類型，其中，所述表面的可能性...

íatendráunapendientehaciaeldepósitotalquepermitalaevacuacióndeposiblescondensadosycomomínimoéstaseráádisponerdeunaválvuladecie...

形成氣液混合體，從擴(kuò)散管22排出又進(jìn)入到再生液調(diào)配缸3。電解再生某線路板生產(chǎn)線蝕刻廢液，蝕刻廢液量1000m3/d，相比沒有使用本實(shí)用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)，能耗節(jié)約40％，節(jié)約使用藥品100kg/d，經(jīng)濟(jì)效益提高30％。作為本實(shí)施例的...

35kilogramos/centímetrocuadrado).IgualmenteserealizaráunapruebademedicióndieléáncertificadasporunOrganismodecontrolcompetented...

ósitosapareddecubetoserácomomínimode50centímetrosyentretanquesserááóóónexteriordelosdepósitosseestudiarádeformaespecialenlosca...

íatendráunapendientehaciaeldepósitotalquepermitalaevacuacióndeposiblescondensadosycomomínimoéstaseráádisponerdeunaválvuladecie...

0HT260WXC-100CELLHT260WX2-101MV238FHB-N10MV238FHM-N10HT236F01-100HT236F03-100HM236WU1-100HM236WU1-400HM236WU3-100HM236WU3-110H

表％九氟丁基甲基醚和50重量％甲基四氫呋喃的液體混合物的分餾顯示出92重量％九氟丁基甲基醚和8重量％甲基四氫呋喃的共沸組合物，其在°C的沸點(diǎn)。實(shí)施例2如實(shí)施例1所述進(jìn)行沸點(diǎn)測定方法。表II給出九氟丁基乙基醚和甲基四氫呋喃的各種混合物在。表II九氟丁基乙...

此處所描述的具體實(shí)施例用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。參照圖1，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)包括：電解槽1、射流器2、再生液調(diào)配缸3、液體泵4，其中，電解槽1具有一出液口和出氣口，且電解槽1中內(nèi)置有酸性蝕刻液，電解槽1對(duì)...

添加劑為二乙二醇單甲醚、三乙二醇乙醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，添加量分別為％、％、％。實(shí)施例6本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實(shí)施例中所含成分及各成分稱取的質(zhì)量顯示于表1...

此處所描述的具體實(shí)施例用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。參照圖1，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)包括：電解槽1、射流器2、再生液調(diào)配缸3、液體泵4，其中，電解槽1具有一出液口和出氣口，且電解槽1中內(nèi)置有酸性蝕刻液，電解槽1對(duì)...

yteniendoencuentalaviscosidaddellíquidoalatemperaturamííasyaccesoriosseajustaráncomomínimo,alasespecificacionesdelasnormasUNE1...

ósitosapareddecubetoserácomomínimode50centímetrosyentretanquesserááóóónexteriordelosdepósitosseestudiarádeformaespecialenlosca...

所述九氟丁基烷基醚主要由九氟正丁基烷基醚和九氟異丁基烷基醚組成。5.權(quán)利要求14中任一項(xiàng)的組合物，特征在于，所述組合物是共沸的或共沸型的。6.權(quán)利要求5的組合物，特征在于，所述組合物包含515重量％的甲基四氫呋喃和8595重量％的九氟丁基甲基醚。7.共...

所述組合物包含540重量％的甲基四氫呋喃和6095重量％的式C4F90R的九氟丁基烷基醚。的甲基四氫呋喃是2-甲基四氫呋喃。在式C4F90R的九氟丁基烷基醚中，九氟丁基甲基醚和九氟丁基乙基醚。不論R是什么，的九氟丁基烷基醚主要由九氟正丁基烷基醚和九氟異...

其擴(kuò)散管深入到所述再生液調(diào)配缸中；液體泵，其一端通過管道連接所述再生液調(diào)配缸的循環(huán)出液口，另一端通過管道連接所述射流器的進(jìn)液口，用于將所述再生液調(diào)配缸中的電解后液通過所述管道抽取至所述射流器的進(jìn)液口。進(jìn)一步地，所述酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還包括：曝氣...

?O?.Elinteriordeestaarquetasseclasificazona?O?debidoasusituaciónbajoelniveldesueloyportenerpuntosdeescapes,bienporladescargade...

odeunemplazamientopeligrosoaotronopeligroso,asícomoenlasentradasysalidasdelasenvolventesmetálicasdeequiposeléctricosquepuedanp...

0HT260WXC-100CELLHT260WX2-101MV238FHB-N10MV238FHM-N10HT236F01-100HT236F03-100HM236WU1-100HM236WU1-400HM236WU3-100HM236WU3-110H

本實(shí)用新型屬于廢液處理領(lǐng)域，尤其涉及一種酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)。背景技術(shù)：酸性蝕刻液是用于印制電路板線路制作和多層板內(nèi)層制作的蝕刻液，隨著電路板行業(yè)的迅速發(fā)展，產(chǎn)生的廢液量越來越大，發(fā)掘的污染物種類也越來越多，對(duì)環(huán)境造成巨大的危害，此類問題也成為社...