此處所描述的具體實(shí)施例用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。參照圖1，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)包括：電解槽1、射流器2、再生液調(diào)配缸3、液體泵4，其中，電解槽1具有一出液口和出氣口，且電解槽1中內(nèi)置有酸性蝕刻液，電解槽1對...

名稱：含有全氟丁基醚的組合物的制作方法含有全氟丁基醚的組合物本發(fā)明涉及共沸或共沸型的全氟丁基醚混合物或組合物。更具體地說，本發(fā)明的一個(gè)主題是包含至少一種九氟丁基烷基醚和可生物降解化合物的組合物。地球大氣阻擋了來自于地球的IR發(fā)射，這是導(dǎo)致溫室效應(yīng)和有利...

除去75重量％的油。在45°C下的簡單加熱、或者在環(huán)境溫度(20°C)下的簡單攪拌或超聲應(yīng)用可以除去所有的沉積油。此外，沒有觀察到油的溶解，而是觀察到上升到液體表面的油的脫離(卷起機(jī)理(rollingupmechanism)).與快速導(dǎo)致溶劑飽和的溶解...

soldaduraytécnicasafines)ósitosdelosEstadosmiembrosdelaCEEodepaísestercerosconlosqueexistaunconveniodereciprocidad,lahomologac...

?O?.Elinteriordeestaarquetasseclasificazona?O?debidoasusituaciónbajoelniveldesueloyportenerpuntosdeescapes,bienporladescargade...

tuberíayaparatosurtidorotubuladuradeldepóíarígidayconectorflexibledeberánserfáónquedarácondicionadaaqueestematerialcumplalosre...

濕電子化學(xué)品位于電子信息產(chǎn)業(yè)偏中上游的材料領(lǐng)域。濕電子化學(xué)品上游是基 礎(chǔ)化工產(chǎn)品，下游是電子信息產(chǎn)業(yè)（信息通訊、消費(fèi)電子、家用電器、汽車電子、 LED、平板顯示、太陽能電池、**等領(lǐng)域）。濕電子化學(xué)品的生產(chǎn)工藝主要采用物 理的提純技術(shù)及混配技術(shù)，將工業(yè)級...

odeunemplazamientopeligrosoaotronopeligroso,asícomoenlasentradasysalidasdelasenvolventesmetálicasdeequiposeléctricosquepuedanp...

lapruebadepresiónhidráánresistentesaloshidrocarburosyalosaditivosquepuedanconteneryaseguraráónserándeunmaterialqueresistalacor...

óíasdeplásticoflexiblenorequerirándeunrecubrimientoadicionaldebarreraanticorrosivaoprotecciones,íasdeplásticoflexibleesnecesar...

siendoobligatorioelusodeacoplamientoscompatiblesconlamangueradelcamióncisternaylabocadecargadelosdepóápidasserándematerialesqu...

然后將裝有蝕刻液的石英燒瓶放入加熱套中加熱，待加熱到確定溫度后，放入氮化硅樣片進(jìn)行蝕刻；蝕刻完后，取出樣片采用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊?，使用橢圓偏振光譜儀對蝕刻前所取位置的6個(gè)點(diǎn)的厚度進(jìn)行測量，計(jì)算蝕刻前后6個(gè)取點(diǎn)的厚度差值，對比6個(gè)點(diǎn)之間的厚度差值的...

然后將裝有蝕刻液的石英燒瓶放入加熱套中加熱，待加熱到確定溫度后，放入氮化硅樣片進(jìn)行蝕刻；蝕刻完后，取出樣片采用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊?，使用橢圓偏振光譜儀對蝕刻前所取位置的6個(gè)點(diǎn)的厚度進(jìn)行測量，計(jì)算蝕刻前后6個(gè)取點(diǎn)的厚度差值，對比6個(gè)點(diǎn)之間的厚度差值的...

íatendráunapendientehaciaeldepósitotalquepermitalaevacuacióndeposiblescondensadosycomomínimoéstaseráádisponerdeunaválvuladecie...

并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異常現(xiàn)象，確實(shí)達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導(dǎo)致該基板20刮傷或破片風(fēng)險(xiǎn)等主要優(yōu)勢。該蝕刻設(shè)備1可進(jìn)一步設(shè)置有一噴灑裝置50，...

conunanormaeuropeaENoconunarecomendaciónCEIparaalgunosdelosmodosdeprotecciónsiguientes:1.oInmersiónenaceite?o?.2.oSobrepresión...

所述制備裝置主體的內(nèi)部中間部位活動(dòng)連接有高效攪拌裝置，所述制備裝置主體的一側(cè)中間部位嵌入連接有翻折觀察板，所述制備裝置主體的底端固定連接有裝置底座，所述裝置底座的內(nèi)部底部固定連接有成品罐，所述裝置底座的頂端一側(cè)固定連接有鹽酸裝罐，所述裝置底座的頂端另一...

本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術(shù)：廢銅蝕刻液含有可回收的金屬，所以需要進(jìn)行回收處理，目前通用的做法是，使用化學(xué)方法回收廢液內(nèi)的銅，或提煉成硫酸銅產(chǎn)品，工藝落后，銅回收不徹底，處理的經(jīng)濟(jì)效益不明顯，有二次污染污染物...

EN10029yEN10029AC).2.aSobrelongitudes:+1/.aSobrecapacidadnominal:+3/ónovalización:semidelaovalizaciónantesydespuésdelllenadode...

0HT260WXC-100CELLHT260WX2-101MV238FHB-N10MV238FHM-N10HT236F01-100HT236F03-100HM236WU1-100HM236WU1-400HM236WU3-100HM236WU3-110H

T156WXB-500HB156WX1-100HT156WXB-502HB156WX1-600HB156WX1-500NT156WHM-N21HB156WX1-200NT156WHM-N10HB156FH1-301HB156FH1-401NT156WH

形成氣液混合體，從擴(kuò)散管22排出又進(jìn)入到再生液調(diào)配缸3。電解再生某線路板生產(chǎn)線蝕刻廢液，蝕刻廢液量1000m3/d，相比沒有使用本實(shí)用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)，能耗節(jié)約40％，節(jié)約使用藥品100kg/d，經(jīng)濟(jì)效益提高30％。作為本實(shí)施例的...

本發(fā)明涉及剝離液技術(shù)領(lǐng)域：，更具體的說是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術(shù)：：電子行業(yè)飛速發(fā)展，光刻膠應(yīng)用也越來越。在半導(dǎo)體元器件制造過程中，經(jīng)過涂敷-顯影-蝕刻過程，在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后，必須在除去殘余光刻膠的同時(shí)不能損傷任...

gradodelafuentedeescapeeinfluenciadelaventilación)laextensióndecadazonapeligrosaobedeceráalossiguientescriteriosyconsideracion...

能夠增強(qiáng)親水性，使得剝離液親水性良好，能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤濕劑含有羥基，為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過具體實(shí)施例對本申請作進(jìn)一步詳細(xì)說明。以下實(shí)施例對本申請進(jìn)行進(jìn)一步說明，不應(yīng)理解為對本申請的限制。表一：兩種不同組分的剝離液配方一和配...

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別是涉及一種用于包括但不限于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中光刻膠去除步驟的光刻膠剝離去除方法。背景技術(shù)：光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的也稱為光致抗蝕劑、...

EN10029yEN10029AC).2.aSobrelongitudes:+1/.aSobrecapacidadnominal:+3/ónovalización:semidelaovalizaciónantesydespuésdelllenadode...

本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術(shù)：廢銅蝕刻液含有可回收的金屬，所以需要進(jìn)行回收處理，目前通用的做法是，使用化學(xué)方法回收廢液內(nèi)的銅，或提煉成硫酸銅產(chǎn)品，工藝落后，銅回收不徹底，處理的經(jīng)濟(jì)效益不明顯，有二次污染污染物...

砷化鎵也有容易被腐蝕的特點(diǎn)，比如堿性的氨水、酸性的鹽酸、硫酸、硝酸等。去膠，也成為光刻膠的剝離。即完成光刻鍍膜等處理之后，需要去除光刻膠之后進(jìn)行下一步。有時(shí)直接采用+異丙醇的方式就可以去除。但是對于等離子體處理過的光刻膠，一般就比較難去除干凈。有的人把加...

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