材料的可加工性是納米精度機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)的另一個限制。首先，所選材料必須可加工成所需的幾何形狀。例如，我們的大多數(shù)撓性運(yùn)動臺都是通過電火花加工來切割的。玻璃陶瓷盡管它們具有許多良好的性能但顯然不能用這種加工方式。另一方面，加工成本在產(chǎn)品價格中占主導(dǎo)地位，因?yàn)榧{米精度機(jī)構(gòu)中的大部分組件尺寸都比較小，因此材料成本的影響并不顯著。材料的機(jī)械加工性取決于材料的強(qiáng)度、硬度、韌性和導(dǎo)熱性等特性。 鋁合金是工程結(jié)構(gòu)中常用的材料之一。精密儀器主要利用其導(dǎo)熱性好、易于制造（加工成本低）和質(zhì)量輕的特性。由于其高熱膨脹系數(shù)，必須小心使用。通常選擇這種材料進(jìn)行熱匹配。 納米定位平臺直驅(qū)的好處？壓電納米整體移動臺控制...

掃描電子顯微鏡的納米電子束光刻（EBL）系統(tǒng)。它的主要組成部分包括改進(jìn)型掃描電子顯微鏡、激光干涉儀控制平臺、多功能高速圖形發(fā)生器和功能齊全、操作簡便的軟件系統(tǒng)。 在電子和電氣制造業(yè)中，光刻技術(shù)是制造無源/有源器件的重要步驟。隨著納米技術(shù)的飛速發(fā)展，納米光刻技術(shù)作為一種重要的納米結(jié)構(gòu)和納米器件制造技術(shù)，越來越受到人們的關(guān)注。尤其是電子束光刻技術(shù)（EBL），以其高分辨率和出色的靈活性在納米光刻技術(shù)中發(fā)揮著不可替代的作用。電子束的束斑尺寸可聚焦到小于一個納米，并可生成超高分辨率的圖案。因此，EBL在納米電子學(xué)、納米光學(xué)和其他大多數(shù)納米制造領(lǐng)域都有著巨大的應(yīng)用潛力。 壓電納米定位臺可集成于各...

人們普遍認(rèn)為，如果了解了納米定位平臺的共振頻率，就可以準(zhǔn)確地展示其性能，尤其是動態(tài)性能。簡單來說，共振頻率越高，每個平臺軸的運(yùn)動就越快。然而，就像生活中的許多事情一樣，它并沒有那么簡單!實(shí)際上，共振頻率由幾個因素決定。這些因素都會影響平臺的性能，因此在正確選擇納米定位系統(tǒng)之前，需要綜合考慮以下因素：制造平臺的材料，因?yàn)椴牧系膭偠群兔芏葧绊懝舱耦l率。低密度材料的運(yùn)動質(zhì)量越小，共振頻率越高；然而，如果增加負(fù)載，則共振頻率將迅速下降。相比之下，高剛度平臺，即使是由重型材料制造，也能更好地保持其共振頻率。施加到納米定位臺的負(fù)荷定義了加載的共振頻率，通常被認(rèn)為是每個軸的前一個共振?？刂坪头答侂娮釉O(shè)...

剛度：剛度是使物體產(chǎn)生單位變形所需的外力值。剛度與物體的材料性質(zhì)、幾何形狀、邊界支持情況以及外力作用形式有關(guān)。硅HR傳感器:Piezoconcept使用溫度補(bǔ)償?shù)母叻直媛使鑲鞲衅骶W(wǎng)絡(luò)來達(dá)到極高的長期穩(wěn)定性。這種測量裝置能夠測量皮米范圍內(nèi)的位置噪聲，其反應(yīng)不像其他專業(yè)傳感器那樣依賴于污染物的存在和氣壓的變化。反沖力：反沖力是改變方向時發(fā)生的定位誤差。齒隙可由預(yù)載推力不足或驅(qū)動部件嚙合不準(zhǔn)確引起，如齒輪齒。Piezoconcept的撓性運(yùn)動平移機(jī)構(gòu)和壓電執(zhí)行器設(shè)計(jì)本質(zhì)上是沒有反沖的。電控位移臺也稱為電控平移臺是一種依靠步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動的執(zhí)行裝置，通過絲杠將步進(jìn)電機(jī)的角位移轉(zhuǎn)換為平臺位移。通...

北京微納光科儀器(集團(tuán))有限公司主要提供《微》《納》《光》《科》四個版塊產(chǎn)品，【實(shí)驗(yàn)室一體化解決方案】的三個版塊《實(shí)驗(yàn)室裝修/凈化/設(shè)計(jì)》《實(shí)驗(yàn)室家具》《實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備》,《無人工廠一體化解決方案》以及《特殊工況下自動化設(shè)備和儀器解決方案》的服務(wù)。主要產(chǎn)品系列有：電控位移臺，手動位移臺，直驅(qū)滑臺轉(zhuǎn)臺，直線電機(jī)，相位臺，工業(yè)機(jī)械手，KK模組，真空無磁低溫；壓電納米促動器，壓電納米移動臺；光學(xué)冷加工，光學(xué)元器件，光學(xué)鍍膜，光學(xué)調(diào)整架，光纖調(diào)整耦合，晶元檢測，晶元曝光刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備，影像測量，機(jī)器視覺，圖形圖像處理，光學(xué)分析儀器，光學(xué)檢測/測試儀器；科學(xué)實(shí)驗(yàn)室的設(shè)計(jì)裝修，科學(xué)實(shí)驗(yàn)室家具（光學(xué)平臺...

納米平臺應(yīng)用領(lǐng)域都是一些特定的高精密領(lǐng)域，例如表面結(jié)構(gòu)分析，自動對焦系統(tǒng)，共焦顯微鏡，共焦顯微鏡等等，提供多種型號，多種功能，例如ZSY/OSM-Z-100B，ZSY/OEM-X-10A，NM-XYZ-100A-Z15A等等。納米科技在現(xiàn)代社會發(fā)展中起著越來越重要的作用，納米科技的發(fā)展離不開高分辨表面分析工具的發(fā)展，原子力顯微鏡憑借其超高分辨率成為研究納米科技的有力工具在各領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用，其不僅可以用于物質(zhì)表面結(jié)構(gòu)、表面摩擦學(xué)和材料力學(xué)、電學(xué)性能的研究，還可以用于原子操縱、物質(zhì)的納米級加工等。納米位移臺是原子力顯微鏡的中心部件，其性能直接決定了原子力顯微鏡的分辨率性能。 由于納米位移系統(tǒng)...

納米技術(shù)是21世紀(jì)重要的科學(xué)技術(shù)之一，它將引起一場新的工業(yè)發(fā)展浪潮。納米技術(shù)是包括納米電子、納米材料、納米生物、納米機(jī)械、納米制造、納米測量、納米物理納米化學(xué)等諸多科學(xué)技術(shù)在內(nèi)的一組技術(shù)的匯聚，其目的是研究、發(fā)展和加工結(jié)構(gòu)尺寸小于100nm的材料、裝置和系統(tǒng)，以獲得具有所需功能和性能的產(chǎn)品?？萍及l(fā)達(dá)國家為搶占這一高新技術(shù)生長點(diǎn)、制高點(diǎn)，競相將納米技術(shù)列為21世紀(jì)戰(zhàn)略性基礎(chǔ)研究的優(yōu)先項(xiàng)目。納米測量技術(shù)是納米技術(shù)的重要組成部分，對于納米材料的發(fā)展。納米器件和系統(tǒng)的研究與開發(fā)具有十分重要的意義。納米測量技術(shù)的內(nèi)涵涉及納米尺度的評價、成份、微細(xì)結(jié)構(gòu)和物性的納米尺度的測量，它是在納米尺度上研究材料和...

納米定位平臺的設(shè)計(jì)從上面的簡要介紹中可以清楚地看出，為什么只考慮每個軸的共振頻率無法提供納米定位系統(tǒng)性能的準(zhǔn)確圖片。也正因如此，多數(shù)情況下，只有定制系統(tǒng)才能滿足各個應(yīng)用程序的特定要求。例如，必須選擇與應(yīng)用相匹配的共振頻率特性的結(jié)構(gòu)材料和平臺設(shè)計(jì)。此計(jì)算中的一個關(guān)鍵因素是施加的載荷。這就是為什么我們經(jīng)常在許多數(shù)據(jù)表中關(guān)注負(fù)載性能，因?yàn)檫@個標(biāo)準(zhǔn)能更好地反映平臺的實(shí)際用途。一般來說，作用在平臺上的負(fù)載越大，平臺的共振頻率就越低。我們的高剛度平臺意味著共振頻率受負(fù)載變化的影響較小，因此任何動態(tài)調(diào)諧對負(fù)載的變化都不太敏感。 由于納米位移系統(tǒng)自身具有閉環(huán)控制，能產(chǎn)生穩(wěn)定的、重復(fù)的運(yùn)動。壓電納米運(yùn)動機(jī)構(gòu)...

頻率響應(yīng)頻率響應(yīng)本質(zhì)上是設(shè)備在給定頻率下響應(yīng)輸入信號的速度指示。壓電系統(tǒng)對命令信號響應(yīng)迅速，具有更高的諧振頻率，產(chǎn)生更快的響應(yīng)速率以及更高的穩(wěn)定性和帶寬。然而，應(yīng)注意的是，納米定位設(shè)備的諧振頻率會受到施加負(fù)載的影響，負(fù)載的增加會降低諧振頻率，從而降低納米定位器的速度和精度。4.穩(wěn)定和上升時間納米定位系統(tǒng)能在短距離內(nèi)進(jìn)行高速位移。這意味著穩(wěn)定時間是關(guān)鍵因素。這里的時間指的是，在隨后拍攝圖像或測量之前，運(yùn)動速度降低到可接受水平時所需的時長。相比之下，上升時間是納米定位平臺在兩個命令點(diǎn)之間移動的時間間隔；通常比穩(wěn)定時間快得多，重要的是，上升時間不包括納米定位平臺穩(wěn)定所需的時間。這兩個因素...

納米定位平臺的高級數(shù)字控制至關(guān)重要。尤為明顯的是，它可根據(jù)速度、分辨率和有效負(fù)載精確調(diào)整系統(tǒng)的性能特征，同時消除不必要的共振頻率影響。使用定制的軟件算法和陷波濾波器的組合來實(shí)現(xiàn)這一性能，后者能夠在狹義的頻率范圍內(nèi)衰減信號。因此，可以更大限度地減少接近共振頻率的頻率影響，有效地降低第二頻率對動態(tài)定位的影響。算法模塊工具箱可優(yōu)化平臺性能。速度和加速度控制算法能夠使平臺比單純依賴位置控制的設(shè)備實(shí)現(xiàn)更高級的操作帶寬驅(qū)動。雖然后者采用PID控制位置，但無法提供足夠的精度來控制高速運(yùn)動。如果需要在移動平臺時進(jìn)行控制以產(chǎn)生精確的波形或斜坡，則需要更多的控制。軌跡控制能夠使平臺軸快速移動到幾納米以內(nèi)的精確...

三維納米定位臺使用需要注意哪些細(xì)節(jié)：5.定期維護(hù)和保養(yǎng)：三維納米定位臺是一個復(fù)雜的精密設(shè)備，需要進(jìn)行定期的保養(yǎng)和維護(hù)，以確保設(shè)備的正常運(yùn)行和壽命。具體操作包括檢查設(shè)備的清潔度和電氣連接、潤滑和調(diào)整各軸向及傳感器等部件、更換和補(bǔ)充配件等等。用戶需要根據(jù)具體的設(shè)備和使用情況，制定相應(yīng)的保養(yǎng)和維護(hù)計(jì)劃，并在必要時進(jìn)行相應(yīng)的調(diào)整和修理工作。 三維納米定位臺的應(yīng)用領(lǐng)域：由于具有高精度和靈活性等優(yōu)點(diǎn)，三維納米定位臺在許多材料表征和精密加工領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。常見的應(yīng)用領(lǐng)域包括：1.納米級別物體定位和操控三維納米定位臺可以實(shí)現(xiàn)亞納米級別的物體的位置調(diào)整和操控，因此被廣泛應(yīng)用于納米顆粒、微米線、生...

由壓電陶瓷控制器控制的壓電納米定位臺用于移動3D干涉儀系統(tǒng)中的干涉物鏡或光纖連接器以產(chǎn)生位相移動，分5步位相移動，每移動一步后由CCD攝像頭讀取干涉條紋。壓電納米定位臺內(nèi)部采用無摩擦柔性鉸鏈導(dǎo)向機(jī)構(gòu)，一體化的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。機(jī)構(gòu)放大式驅(qū)動原理，內(nèi)置高性能壓電陶瓷，可實(shí)現(xiàn)納米級位移。具有高剛性、高負(fù)載、無摩擦等特點(diǎn)，可適應(yīng)匹配光纖端面檢測的需求。壓電納米定位臺內(nèi)部采用無摩擦柔性鉸鏈導(dǎo)向機(jī)構(gòu)，一體化的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。機(jī)構(gòu)放大式驅(qū)動原理，內(nèi)置高性能壓電陶瓷，可實(shí)現(xiàn)納米級位移。具有高剛性、高負(fù)載、無摩擦等特點(diǎn)。此外，壓電納米定位臺還可用于：光路調(diào)整；納米操控技術(shù)；納米光刻，生物科技；激光干涉；CCD圖像處理；...

掃描電子顯微鏡的納米電子束光刻（EBL）系統(tǒng)。它的主要組成部分包括改進(jìn)型掃描電子顯微鏡、激光干涉儀控制平臺、多功能高速圖形發(fā)生器和功能齊全、操作簡便的軟件系統(tǒng)。 在電子和電氣制造業(yè)中，光刻技術(shù)是制造無源/有源器件的重要步驟。隨著納米技術(shù)的飛速發(fā)展，納米光刻技術(shù)作為一種重要的納米結(jié)構(gòu)和納米器件制造技術(shù)，越來越受到人們的關(guān)注。尤其是電子束光刻技術(shù)（EBL），以其高分辨率和出色的靈活性在納米光刻技術(shù)中發(fā)揮著不可替代的作用。電子束的束斑尺寸可聚焦到小于一個納米，并可生成超高分辨率的圖案。因此，EBL在納米電子學(xué)、納米光學(xué)和其他大多數(shù)納米制造領(lǐng)域都有著巨大的應(yīng)用潛力。 壓電納米定位臺憑借高穩(wěn)定...

頻率響應(yīng)頻率響應(yīng)本質(zhì)上是設(shè)備在給定頻率下響應(yīng)輸入信號的速度指示。壓電系統(tǒng)對命令信號響應(yīng)迅速，具有更高的諧振頻率，產(chǎn)生更快的響應(yīng)速率以及更高的穩(wěn)定性和帶寬。然而，應(yīng)注意的是，納米定位設(shè)備的諧振頻率會受到施加負(fù)載的影響，負(fù)載的增加會降低諧振頻率，從而降低納米定位器的速度和精度。4.穩(wěn)定和上升時間納米定位系統(tǒng)能在短距離內(nèi)進(jìn)行高速位移。這意味著穩(wěn)定時間是關(guān)鍵因素。這里的時間指的是，在隨后拍攝圖像或測量之前，運(yùn)動速度降低到可接受水平時所需的時長。相比之下，上升時間是納米定位平臺在兩個命令點(diǎn)之間移動的時間間隔；通常比穩(wěn)定時間快得多，重要的是，上升時間不包括納米定位平臺穩(wěn)定所需的時間。這兩個因素...