DLC兼具了金剛石和石墨的特性，由于含有金剛石成分，涂層硬度高，是普通鍍硬鉻環(huán)或氮化環(huán)硬度的2～3倍，具有更高的耐磨損性能，同時(shí)由于含有石墨成分，其摩擦系數(shù)極低（0.2以下），降低了環(huán)對(duì)缸套的攻擊性，在惡劣潤(rùn)滑條件下提高了環(huán)的抗拉缸性能，同時(shí)對(duì)解決活塞環(huán)早期異常磨損效果明顯。同為PVD處理方式獲得，DLC涂層與CrN硬質(zhì)涂層比較，其比較為突出的優(yōu)點(diǎn)是很大程度地降低了活塞環(huán)摩擦功耗。在發(fā)動(dòng)機(jī)設(shè)計(jì)時(shí)，為了改善發(fā)動(dòng)機(jī)的燃油耗，應(yīng)盡可能地將燃燒能量無(wú)損地作為驅(qū)動(dòng)力加以有效利用。減少發(fā)動(dòng)機(jī)滑動(dòng)部件摩擦可直接降低這種能量的損失，它直接關(guān)系到發(fā)動(dòng)機(jī)燃油耗的改善。資料顯示活塞/活塞環(huán)部分的摩擦隨著發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速的升高而增加，在發(fā)動(dòng)機(jī)總摩擦損失中占40～50％，而DLC涂層活塞環(huán)可有效降低摩擦功耗。DLC涂層是一種具有和金剛石涂層非常相近的性能，且表面超硬的涂層。青島DLC鍍膜涂層處理
比較早應(yīng)用的刀具PVD涂層材料是TiN，是將靶材（金屬固體材料）轉(zhuǎn)換成電離狀態(tài)，在電場(chǎng)作用下金屬離子在工件表面與活化了的氮形成2～4μm厚的薄膜涂層，具有較高的硬度和耐磨性，抗氧化溫度在550～600℃；而進(jìn)入本世紀(jì)后，使用具有一定原子比的鈦鋁合金靶作為靶材，通過(guò)磁控濺射法制得的TiAlN涂層正逐漸代替TiN涂層成為主流涂層，其比較高工作溫度可達(dá)1150℃，更好得滿足這種高速高溫切削的需要。TiN涂層刀具適用在低速和低溫切削條件下，磨損形式主要是粘著磨損和磨粒磨損，表面脆性大，抗拉強(qiáng)度低，涂層當(dāng)中常常存在有殘余應(yīng)力。而TiAlN涂層刀具隨著切削速度的增大，切削溫度的提高，刀具表面逐漸形成的致密的Al2O3保護(hù)膜具有潤(rùn)滑作用，減少了切削摩擦及切屑對(duì)于刀具的黏著，使得切削力進(jìn)一步減少。深圳PVD涂層加工真空涂層機(jī)DLC涂層采用不同的熱處理工藝，可獲得不同的組織，具有不同的性能。
DLC涂層應(yīng)用于活塞環(huán)，國(guó)內(nèi)外廠家在近幾年才實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)，其較PVD處理CrN涂層遲緩，主要是受限于制備技術(shù)，目前制備DLC涂層的方法主要有電化學(xué)法、物理的氣相沉積法和化學(xué)氣相沉積法三大類。其中電化學(xué)法制備DLC涂層的性能較差，無(wú)法達(dá)到應(yīng)用要求；工業(yè)上采用較多的是物理的氣相沉積法（PVD）和化學(xué)氣相沉積法（CVD），這兩種方法對(duì)設(shè)備的要求高，制備工藝也比較復(fù)雜。在初期應(yīng)用中，普遍出現(xiàn)了涂層內(nèi)應(yīng)力大，涂層厚度受到限制的問(wèn)題。
真空鍍膜機(jī)主要是指一種需要在高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空電阻加熱蒸發(fā)、電子槍加熱蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積、離子束濺射等。主要思路分為蒸發(fā)和濺射。需要涂層的稱為基板，涂層材料稱為靶板。基板和靶板在真正的空腔中。蒸面加熱發(fā)射膜一般是使表面組分以原子團(tuán)或離子的形式蒸發(fā)。并沉降在基板表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷狀結(jié)構(gòu)-長(zhǎng))形成薄膜，可以理解為使用電子或高能激光轟擊使表面組分以原子團(tuán)或離子的形式濺射，沉積在基板表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，然后形成薄膜。刀具涂層是近20年出現(xiàn)的一種新型刀具材料，是刀具發(fā)展中的一項(xiàng)重要突破.
國(guó)內(nèi)外一些研究者另辟蹊徑,將傳統(tǒng)的表面處理技術(shù)如滲碳、氮化、鍍鉻等與現(xiàn)代的PVD、CVD等處理技術(shù)相結(jié)合,選擇不同的金屬和金屬氮化物、碳化物作為過(guò)渡層，DLC層摻雜金屬合金。這些工作都不同程度的改進(jìn)了DLC涂層的力學(xué)、摩擦磨損以及各種物理化學(xué)性能，從而解決了DLC涂層應(yīng)用于活塞環(huán)的一些技術(shù)瓶頸。目前在活塞環(huán)上主要是采用先將活塞環(huán)做氣體氮化或離子氮化,然后再與DLC涂層結(jié)合的復(fù)合處理方式,以鉻、鎢等氮化物為過(guò)渡層，由于氮化后的活塞環(huán)基體表面有較深的硬化層,具有一定的硬度、耐磨性和殘余壓應(yīng)力,構(gòu)成了DLC涂層理想支承體,其承載能力遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)未氮化基材.涂層的附著性能都大為提高。同時(shí)由于進(jìn)行了全表面的氮化處理，進(jìn)而提高了活塞環(huán)的整體耐磨性。DLC涂層和PVD涂層在我們的日常生活中的運(yùn)用非常廣。湖北DLC涂層加工
DLC涂層廠多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣。青島DLC鍍膜涂層處理
DLC薄膜通常是非晶的（即沒(méi)有占主導(dǎo)地位的晶格結(jié)構(gòu)），由石墨和金剛石相的混合物組成。膜性能的控制強(qiáng)烈地依賴于所選擇的沉積技術(shù)的通量特性、膜內(nèi)的金屬和氫含量、石墨和金剛石比、襯底偏置電壓、離子能量和離子密度以及襯底溫度。DLC膜對(duì)鋼的摩擦系數(shù)一般在0.05-0.20之間，而膜硬度和金剛石含量可以根據(jù)具體應(yīng)用而定制。含金屬和氫的DLC(Me-DLC或a-C:H:Me)在500-2000HV范圍內(nèi)具有35%金剛石的硬度，無(wú)金屬DLC(C-DLC或a-C:H)通常為1500-4000HV和高達(dá)75%金剛石，而四面體非晶碳(ta-C)在4000-9000HV范圍內(nèi)具有80-85%金剛石。青島DLC鍍膜涂層處理
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