佛山低摩擦低溫涂層技術(shù)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-06-08

國(guó)內(nèi)外一些研究者另辟蹊徑,將傳統(tǒng)的表面處理技術(shù)如滲碳、氮化、鍍鉻等與現(xiàn)代的PVD、CVD等處理技術(shù)相結(jié)合,選擇不同的金屬和金屬氮化物、碳化物作為過(guò)渡層,DLC層摻雜金屬合金。這些工作都不同程度的改進(jìn)了DLC涂層的力學(xué)、摩擦磨損以及各種物理化學(xué)性能,從而解決了DLC涂層應(yīng)用于活塞環(huán)的一些技術(shù)瓶頸。目前在活塞環(huán)上主要是采用先將活塞環(huán)做氣體氮化或離子氮化,然后再與DLC涂層結(jié)合的復(fù)合處理方式,以鉻、鎢等氮化物為過(guò)渡層,由于氮化后的活塞環(huán)基體表面有較深的硬化層,具有一定的硬度、耐磨性和殘余壓應(yīng)力,構(gòu)成了DLC涂層理想支承體,其承載能力遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)未氮化基材.涂層的附著性能都大為提高。同時(shí)由于進(jìn)行了全表面的氮化處理,進(jìn)而提高了活塞環(huán)的整體耐磨性。DLC涂層非常堅(jiān)硬耐磨,可以說(shuō)是不變色的。佛山低摩擦低溫涂層技術(shù)

金剛石涂層的質(zhì)量檢驗(yàn)涂覆完成后,就要對(duì)成形工件的膜層質(zhì)量進(jìn)行檢驗(yàn),檢測(cè)膜層厚度是否均勻、工件的光澤、膜層是否出現(xiàn)分層及尺寸是否在控制范圍內(nèi)。如果膜層出現(xiàn)問(wèn)題、厚度超差、結(jié)合力不強(qiáng)等問(wèn)題需要及時(shí)解決,下面我們來(lái)了解一下相應(yīng)的解決辦法是什么吧!1、檢驗(yàn)?zāi)泳鶆蚨葯z驗(yàn)成形后的膜層如果出現(xiàn)光澤不均勻、有花紋,應(yīng)該是靶材的材質(zhì)的純凈度不夠,雜質(zhì)多就會(huì)導(dǎo)致膜層不均勻。也可能是涂覆設(shè)備的故障。解決辦法:所以如果檢驗(yàn)出了膜層的問(wèn)題可以先檢測(cè)設(shè)備是否故障,如果設(shè)備穩(wěn)定正常的話則必須更換靶材。2、檢驗(yàn)?zāi)雍穸葯z驗(yàn)?zāi)訒r(shí)如果發(fā)現(xiàn)厚度超差的情況,可能是處理時(shí)間過(guò)長(zhǎng)或過(guò)短所導(dǎo)致的。解決辦法:在設(shè)備穩(wěn)定正常的情況下,膜層的厚度都是取決于成形的工藝時(shí)間,所以如果出現(xiàn)膜層超差的情況只要調(diào)整處理時(shí)間就可以了。寧波復(fù)合納米涂層處理硬質(zhì)合金表面SiC/DLC涂層組織和性能研究。

DLC是一種由碳元素組成的物質(zhì),在性質(zhì)上類似于DIAMOND-LIKECRBON。DLC是一種非晶膜,因其硬度高、彈性模量大、摩擦因數(shù)低、耐磨性好、真空摩擦性好,非常適合作為耐磨涂層,引起了摩擦界的重視。目前制備DLC膜的方法很多,不同制備方法使用的碳源和到達(dá)基體表面的離子能量不同,沉積的DLC涂層結(jié)構(gòu)和性能差別很大,摩擦性能也不同。下面就來(lái)了解一下DLC涂層沉積設(shè)備的系統(tǒng)組成都有哪些?一、熱水冷卻系統(tǒng)。在沉積室內(nèi),加熱系統(tǒng)和水冷系統(tǒng)均布于沉積室四周,可控制加熱溫度、速度和水量,并設(shè)有相應(yīng)的報(bào)警器,旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)設(shè)在沉積室底部,絕緣陶瓷絕緣,旋轉(zhuǎn)速度可控。二、真空系統(tǒng)。本機(jī)由機(jī)械泵、羅茨泵、擴(kuò)散泵及相應(yīng)的控制閥、測(cè)量元件組成,可根據(jù)工藝要求自由切換高、低真空。三、供氣系統(tǒng)。煤氣供應(yīng)系統(tǒng)位于沉積室頂部,氣體種類包括H2、N2、Ar、CHa、C2H2、Si氣體,同時(shí)在沉積室頂部預(yù)留兩個(gè)通道接口,便于日后添加其它氣體。含有Si的過(guò)渡層是已確認(rèn)的有利于DLC涂層與基體結(jié)合力的一種涂層,為得到Si,通常使用SiH4作為原料氣,但SiH4卻具有較高危險(xiǎn)性,因此采用SiH4作為Si的含Si氣體源。

一種常見(jiàn)的CVD涂層是采用三種氣體——四氯化鈦(TiCl4)、氫氣(H2)和氮?dú)猓∟2)——來(lái)產(chǎn)生氮化鈦(TiN)+氯化氫(HCl)。HCl是該工藝的二次產(chǎn)物,必須按照嚴(yán)格的環(huán)保法規(guī)進(jìn)行處理。CVD法的優(yōu)勢(shì)包括較好的涂層粘附性,以及涂層分布的均勻性。CVD法的缺點(diǎn)是:涂層時(shí)的高溫會(huì)對(duì)基體產(chǎn)生不利影響,適用的涂層材料不多(因?yàn)橥繉硬牧鲜且詺鈶B(tài)形式提供的),以及工藝循環(huán)時(shí)間長(zhǎng)。PVD涂層是一種相對(duì)較新的刀具涂層方法,在刀具行業(yè)正變得日益流行。PVD法是在真空環(huán)境中,將涂層材料從材料源(靶材)經(jīng)過(guò)傳送空間轉(zhuǎn)移到基體上。該方法采用加熱或電源供能的方式,將涂層材料氣化,然后使氣化的材料附著在基體上。真空涂層機(jī)DLC涂層金屬熱處理工藝一般可分為三類:整體熱處理、表面熱處理和化學(xué)熱處理。

目前比較常用的兩種刀具涂層工藝為化學(xué)氣相沉積法(ChemicalVaporDeposition)和物理的氣相沉積法(PhysicalVaporDeposition)。PVD是在真空條件下,采用電弧放電技術(shù)使靶材蒸發(fā)并與周?chē)鷼怏w一起電離,金屬原子通過(guò)氣相反應(yīng)過(guò)程,利用電場(chǎng)的加速作用,在基體表面沉積出具有某種功能的涂層。CVD沉積溫度高達(dá)1000-1100℃,超出了許多材料的處理溫度,即使采用硬質(zhì)合金也會(huì)產(chǎn)生G相缺陷,另外可用CVD工藝涂層材料的類別較少,應(yīng)用于切削刀具只TiC、TiN、TiCN、Al2O3等。PVD加工溫度一般在250-450℃之間,較CVD處理工藝溫度低,不改變基體材料強(qiáng)度,故刃口可刃磨至十分鋒利,易切入工件,更有利于切削加工;降低了表面的摩擦系數(shù),減少了因摩擦而引起的彈、塑性變形,減小了切削熱的產(chǎn)生量;不使用切削液,對(duì)環(huán)境影響較小,符合綠色制造發(fā)展方向。PVD涂層使用對(duì)噴砂工藝對(duì)質(zhì)量的影響。深圳類金剛石涂層廠家

DLC涂層的基本概念和特點(diǎn)。佛山低摩擦低溫涂層技術(shù)

真空鍍膜機(jī)的適用范圍:1.建筑用五金:浴室五金(如水龍頭).門(mén)鎖.門(mén)拉手.衛(wèi)浴,五金合片,家具等。2.制表行業(yè):可用于表殼、表帶鍍膜、水晶制品。3.其他小五金:皮革五金、不銹鋼餐具、眼鏡框、刀具、模具等4.大型工件:汽車(chē)輪轂、不銹鋼板.招牌.雕塑等。5、不銹鋼管和板(各種類型表面)6、家具、燈具、賓館用具。7、鎖、把手、衛(wèi)浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器皿等五金制品鍍超硬裝飾膜。8、手表、表帶、眼鏡、納米膜、納米膜和納米疊層膜,如手表、表帶、眼鏡、珠寶等。佛山低摩擦低溫涂層技術(shù)

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