從根本上看，中山DLC薄膜之所以未能在世界范圍內(nèi)獲得普遍應用，主要技術(shù)瓶頸體現(xiàn)在以下幾個方面。①DLC薄膜在沉積過程中產(chǎn)生較高的內(nèi)應力，使其與基體（特別是金屬材料）的結(jié)合力差，膜層容易起皮、脫落，限制了DLC薄膜的沉積厚度。為了克服這一問題，可利用多層膜和梯度膜作為過渡層，金屬或非金屬摻雜也是行之有效的手段。②DLC薄膜的熱穩(wěn)定性差，當溫度高于200°C時即發(fā)生氫解離石墨化轉(zhuǎn)變，高于450°C時，開始出現(xiàn)明顯的氧化現(xiàn)象及完全氫解離，DLC薄膜性能將明顯變差，從而限制了其使用范圍。目前，主要是通過各種金屬或非金屬摻雜技術(shù)來解決這一問題，達到改善DLC薄膜熱穩(wěn)定性的目的。但是從表現(xiàn)結(jié)果來看，其熱穩(wěn)定性仍未得到明顯改善，如何通過各種結(jié)構(gòu)和成分設計來有效改善碳基薄膜C-C骨架的穩(wěn)定性仍然是未來技術(shù)突破的重中之重。③碳基薄膜材料存在韌性低、脆性強以及其摩擦學行為具強環(huán)境敏感性等問題，從目前來看，基于元素摻雜、多相復合、非晶-納米晶復合結(jié)構(gòu)構(gòu)筑、薄膜內(nèi)部特殊納米組織調(diào)控、微/納表界面織構(gòu)優(yōu)化等多尺度耦合設計來實現(xiàn)薄膜材料多界面/多結(jié)構(gòu)的跨尺度構(gòu)筑，可能是獲得強韌性和低環(huán)境敏感性碳基薄膜的突破口。DLC涂層具有導電性強的優(yōu)點。湛江自潤滑表面DLC涂層廠家
中山DLC涂層目前可以通過很多種技術(shù)獲得，但市面上常用的方法分別是磁控濺射、離子束和電弧技術(shù)。實現(xiàn)這三種技術(shù)手段依靠的硬件——等離子體源（磁控濺射靶座、離子束源和電弧源），其結(jié)構(gòu)開發(fā)設計和裝配甚至后續(xù)的檢驗和維護保養(yǎng)等，都是由公司自行完成。星弧應用于活塞環(huán)上的DLC主要采用磁控濺射技術(shù)和離子束技術(shù)多層復合沉積而成。等離子體源在相應的電源和反應氣體的共同作用下，將原材料變成大量微觀帶電的等離子體。這些提供涂層主要成分的等離子體隨著鍍膜設備內(nèi)產(chǎn)生的電磁場的分布，有規(guī)律地做定向運動，z終在需要沉積的工件位置，逐漸形成宏觀可見的、具有一定厚度的涂層。珠海類金剛石DLC涂層加工技術(shù)由于DLC涂層具有非晶態(tài)結(jié)構(gòu)和高度碳化結(jié)構(gòu)，使其具有優(yōu)異的耐腐蝕性。
“DLC”是英文“DIAMOND-LIKECARBON”一詞的縮寫。中山DLC是一種由碳元素構(gòu)成、在性質(zhì)上和鉆石類似，同時又具有石墨原子組成結(jié)構(gòu)的物質(zhì)。類金剛石薄膜（DLC）是一種非晶態(tài)薄膜，基本上可以分為含氫類金剛石(a-C:H)涂層，和無氫類金剛石涂層。含氫DLC涂層的氫含量在20%--50%之間，SP3成分小于70%。無氫DLC涂層中常見的是四面體非晶碳（ta-c）膜，ta-c涂層中以sp3鍵為主，一般高于70%。DLC薄膜具有高硬度和高彈性模量，低摩擦因數(shù)，耐磨損以及良好的真空摩擦學特性，很適合于作為耐磨涂層，從而引起了摩擦學界的重視。DLC涂層的典型應用：1）切削工具：鉆頭、銑刀、硬質(zhì)合金刀片（加工非鐵類金屬）2）金屬材料成型模具：凸模、凹模、精密沖裁、壓印成型零件3）模具成型：模腔和型芯、頂桿及各類鑲件4）引擎部件：閥類、活塞銷、頂桿、活塞5）其它零件：軸類、齒輪、軸承、凸輪等本公司引進瑞士專業(yè)DLC涂層設備PL1068，采用磁控濺射與PECVD相結(jié)合的方式，沉積DLC2(a-C:H）涂層和DLC3（ta-c）涂層。DLC2的硬度在2500HV，摩系數(shù)0.2，DLC3涂層的硬度高達6000HV，摩擦系數(shù)0.1，優(yōu)異的性能吸引了眾多刀具廠和模具廠的青睞。
反響氣源的組成對中山DLC涂層結(jié)構(gòu)影響很大，特別是對DLC涂層的氫氣結(jié)構(gòu)有重要影響。首先，原子氫對石墨以及其他非金剛石相碳具有擇優(yōu)刻蝕的效果。堆積金剛石薄膜過程中，在沒有超平衡氫原子參與時，甲烷分解為石墨和金剛石鍵價結(jié)構(gòu)的速率是處于同一個數(shù)量級的。可是當甲烷和氫氣的混合氣體中引入超平衡原子氫后，甲烷的熱分解效果和原子氫的刻蝕效果加在一起，就出現(xiàn)了金剛石的成長速率為正，石墨的成長速率為負的情況，即原子氫刻蝕石墨的速度遠高于刻蝕金剛石的速度。因而，當反響氣源中引入原子氫有利于添加DLC膜中sp3相含量，安穩(wěn)隨機共價鍵網(wǎng)絡，阻止其轉(zhuǎn)化為石墨相。其次，反響氣源中氫氣比例越高，DLC膜中含氫量越高，越有利于完成超i低突沖系數(shù)。經(jīng)過改變DLC膜中的氫含量，突沖因數(shù)可改變幾個數(shù)量級。DLC涂層的應用領(lǐng)域有哪些？
應用于活塞環(huán)上的中山DLC主要采用磁控濺射技術(shù)和離子束技術(shù)多層復合沉積而成。等離子體源在相應的電源和反應氣體的共同作用下，將原材料變成大量微觀帶電的等離子體。這些提供涂層主要成分的等離子體隨著鍍膜設備內(nèi)產(chǎn)生的電磁場的分布，有規(guī)律地做定向運動，Z終在需要沉積的工件位置，逐漸形成宏觀可見的、具有一定厚度的涂層。其中，磁控濺射技術(shù)沉積速率高，穩(wěn)定性高，均勻性好，結(jié)合力強，需要沉積的材料只要制作成相應的塊狀靶材即可安裝在靶座上；在涂層沉積過程中，該技術(shù)負責沉積與基材接觸的底層以及介于底層和Z外層的功能層之間的過渡層。離子束技術(shù)主要用來沉積功能層，含碳的反應氣體在離子束源產(chǎn)生的強電場作用下被電離成等離子體并沉積到上述過渡層上。因為是氣體作為碳元素的來源，所以沉積出的涂層結(jié)構(gòu)更為致密，表面更為光滑和黑亮。過渡層的存在能夠有效地提高納米硬度范圍，從而能夠?qū)崿F(xiàn)功能層厚度的增加，并且可以有效緩沖后功能層帶來的巨大應力，提高復合薄膜與基材的結(jié)合力。同時，由于過渡層的表面微觀結(jié)構(gòu)良好，不會破壞DLC自身的粗糙度，從而保證復合涂層具有較低的摩擦系數(shù)DLC涂層的制備方法主要包括物理i氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）兩種。珠海類金剛石DLC涂層加工技術(shù)
DLC涂層在刀片刀具上的應用。湛江自潤滑表面DLC涂層廠家
中山DLC涂層的應用。DLC金剛石涂層以其獨特的優(yōu)點應用于對摩擦和磨損有特殊要求的場合，并受到好評。1.模壓成型領(lǐng)域：DLC金剛石涂層技術(shù)可用于頂桿及各種鑲件.模腔及型芯等。2.切割領(lǐng)域：可用于銑刀.鉆頭.硬質(zhì)合金刀片等。3.引擎領(lǐng)域：活塞銷.閥類.活塞.頂桿等。4.半導體領(lǐng)域：引腳成形模具的刀口件.封裝模具的成形鑲嵌件及鑲塊等。5.金屬材料成型領(lǐng)域：DLC涂層可用于凹模.凸模.壓印成型.精密沖裁等。6.其他部件：齒輪.軸.凸輪.軸承及自動滾輪等部件。湛江自潤滑表面DLC涂層廠家