Nanoscribe 將在未來進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場的主導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求3D打印技術可用于制造輕量化零部件。湖南增材制造無掩膜光刻
Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構。光學和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質(zhì)量表面不達標的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件,還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結(jié)構,包括光子集成電路,光纖頂端和預制晶片等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結(jié)合,從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質(zhì)量的特點上海高精度增材制造3D微納加工Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司為您簡述增材制造技術的應用。
QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造,以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量。總而言之,工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創(chuàng)新微納光學器件(如衍射和折射光學器件)的整體制造時間。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構。
人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設計,甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術,通過該用戶可以得到尺寸微小的高質(zhì)量產(chǎn)品。全新推出的Quantum X平臺新型超高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝縮短了企業(yè)的設計迭代,打印樣品結(jié)構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別,請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。
Nanoscribe成立于2007年,作為卡爾斯魯厄理工學院研究小組的分拆,目前,Nanoscribe已經(jīng)成為納米和微米3D打印的出名企業(yè),并且在許多項目上都有所作為。Nanoscribe的激光光刻系統(tǒng)用于3D打印世界上特別小的強度高的3D晶格結(jié)構,它使用高精度激光來固化光刻膠中具有小至千分之一毫米特征的結(jié)構。換句話說,激光使基于液體的材料的小液滴內(nèi)部的特定層硬化。為了進一步適應日益增長的業(yè)務,Nanoscribe還宣布將把設施搬遷到KIT投資3000萬歐元的蔡司創(chuàng)新中心。此舉將于2019年底舉行,將有助于推動微型3D打印領域的更多創(chuàng)新。Hermatschweiler補充說:“通過這個創(chuàng)新中心能夠與KIT靠的更近,卡爾斯魯厄不斷為Nanoscribe等公司提供創(chuàng)新和成功發(fā)展的理想環(huán)境?!監(jiān)RNL的科學家們使用Nanoscribe的增材制造系統(tǒng)來構建世界上特別小的指尖陀螺,該迷你玩具的寬度只為100微米(與人類頭發(fā)的寬度相當)。除了用于無線技術,Nanoscribe的3D打印技術還可用于制造高精度的光學微透鏡,衍射光學元件,用于生物打印的納米級支架等等。增材制造(AdditiveManufacturing,AM)俗稱3D打印,融合了計算機輔助設計、材料加工與成型技術、以數(shù)字模型文件為基礎。3D打印技術正在改變制造業(yè)。湖北微納光刻增材制造QX
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全新GlassPrintingExplorerSet是Nanoscribe公司推出的頭一個用于熔融石英玻璃微納結(jié)構3D微納加工的商用高精度增材制造工藝和材料。新型光刻膠GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心內(nèi)容,也是世界上只有的一款用于熔融石英玻璃微納加工的光刻膠。這種打印材料因其高光透性,出色的熱穩(wěn)性,機械性能和化學穩(wěn)定性脫穎而出。這為探索生命科學,微流控,微納光學,材料工程和其他微納技術領域的新應用開辟了更多可能性。TheGlassPrintingExplorerSet拓寬了注重耐高溫特性,化學和機械穩(wěn)定性以及光透性的高精度3D微納加工應用。雙光子聚合技術(2PP)的高精度結(jié)合熔融石英玻璃的出色玻璃性能,推動者生命科學,微流控,微納光學及其他領域新應用的發(fā)展和探索。“盡管所需的后期熱處理要求很高,GP-Silica在我們研究制造復雜的微流體系統(tǒng)方面具有巨大的潛力?!比鹗扛ダ锉ご髮W工程與建筑學院助理教授兼圖像打印系主任NicolasMuller博士總結(jié)道。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。湖南增材制造無掩膜光刻