湖南增材制造無掩膜光刻

Nanoscribe 將在未來進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)的主導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求3D打印技術(shù)可用于制造輕量化零部件。湖南增材制造無掩膜光刻

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。光學(xué)和光電組件的小型化對(duì)于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計(jì)會(huì)有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預(yù)先設(shè)計(jì)的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu)，包括光子集成電路，光纖頂端和預(yù)制晶片等。世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合，從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制，自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn)上海高精度增材制造3D微納加工Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您簡述增材制造技術(shù)的應(yīng)用。

   QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實(shí)現(xiàn)通過簡單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾I(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝，適用于晶圓級(jí)批量加工。作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。

人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設(shè)計(jì)，甚至可以用這項(xiàng)技術(shù)做出巨大的藝術(shù)雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術(shù)，通過該用戶可以得到尺寸微小的高質(zhì)量產(chǎn)品。全新推出的Quantum X平臺(tái)新型超高速無掩模光刻技術(shù)主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了**復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別，請(qǐng)咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。

   Nanoscribe成立于2007年，作為卡爾斯魯厄理工學(xué)院研究小組的分拆，目前，Nanoscribe已經(jīng)成為納米和微米3D打印的出名企業(yè)，并且在許多項(xiàng)目上都有所作為。Nanoscribe的激光光刻系統(tǒng)用于3D打印世界上特別小的強(qiáng)度高的3D晶格結(jié)構(gòu)，它使用高精度激光來固化光刻膠中具有小至千分之一毫米特征的結(jié)構(gòu)。換句話說，激光使基于液體的材料的小液滴內(nèi)部的特定層硬化。為了進(jìn)一步適應(yīng)日益增長的業(yè)務(wù)，Nanoscribe還宣布將把設(shè)施搬遷到KIT投資3000萬歐元的蔡司創(chuàng)新中心。此舉將于2019年底舉行，將有助于推動(dòng)微型3D打印領(lǐng)域的更多創(chuàng)新。Hermatschweiler補(bǔ)充說：“通過這個(gè)創(chuàng)新中心能夠與KIT靠的更近，卡爾斯魯厄不斷為Nanoscribe等公司提供創(chuàng)新和成功發(fā)展的理想環(huán)境?！監(jiān)RNL的科學(xué)家們使用Nanoscribe的增材制造系統(tǒng)來構(gòu)建世界上特別小的指尖陀螺，該迷你玩具的寬度只為100微米（與人類頭發(fā)的寬度相當(dāng)）。除了用于無線技術(shù)，Nanoscribe的3D打印技術(shù)還可用于制造高精度的光學(xué)微透鏡，衍射光學(xué)元件，用于生物打印的納米級(jí)支架等等。增材制造（AdditiveManufacturing，AM）俗稱3D打印，融合了計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)、材料加工與成型技術(shù)、以數(shù)字模型文件為基礎(chǔ)。3D打印技術(shù)正在改變制造業(yè)。湖北微納光刻增材制造QX

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   全新GlassPrintingExplorerSet是Nanoscribe公司推出的頭一個(gè)用于熔融石英玻璃微納結(jié)構(gòu)3D微納加工的商用高精度增材制造工藝和材料。新型光刻膠GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心內(nèi)容，也是世界上只有的一款用于熔融石英玻璃微納加工的光刻膠。這種打印材料因其高光透性，出色的熱穩(wěn)性，機(jī)械性能和化學(xué)穩(wěn)定性脫穎而出。這為探索生命科學(xué)，微流控，微納光學(xué)，材料工程和其他微納技術(shù)領(lǐng)域的新應(yīng)用開辟了更多可能性。TheGlassPrintingExplorerSet拓寬了注重耐高溫特性，化學(xué)和機(jī)械穩(wěn)定性以及光透性的高精度3D微納加工應(yīng)用。雙光子聚合技術(shù)（2PP）的高精度結(jié)合熔融石英玻璃的出色玻璃性能，推動(dòng)者生命科學(xué)，微流控，微納光學(xué)及其他領(lǐng)域新應(yīng)用的發(fā)展和探索。“盡管所需的后期熱處理要求很高，GP-Silica在我們研究制造復(fù)雜的微流體系統(tǒng)方面具有巨大的潛力?！比鹗扛ダ锉ご髮W(xué)工程與建筑學(xué)院助理教授兼圖像打印系主任NicolasMuller博士總結(jié)道。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。湖南增材制造無掩膜光刻