山東TPP增材制造PPGT2

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高增材制造技術(shù)可用于生產(chǎn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)，傳統(tǒng)制造無法達(dá)到。山東TPP增材制造PPGT2

雖然半導(dǎo)體行業(yè)一直在使用3D打印技術(shù)，我們可能會有一個疑問，為什么我們沒有聽說，一個因素是競爭。如果全球只有四個龐大的大型公司，它們構(gòu)成了光刻或制造機(jī)器的主要部分，那么這些公司并沒有告訴外界關(guān)于他們應(yīng)用3D打印技術(shù)的內(nèi)幕，因?yàn)樗麄兿氪_保的競爭優(yōu)勢。至少，對外界揭示其優(yōu)化設(shè)備性能的技術(shù)，這種主觀動機(jī)并不強(qiáng)。增材制造改善半導(dǎo)體工藝是多方面的，從輕量化，到隨形冷卻,再到結(jié)構(gòu)一體化實(shí)現(xiàn)，根據(jù)3D科學(xué)谷的市場觀察，增材制造使得半導(dǎo)體設(shè)備中的零件性能邁向了一個新的進(jìn)化時代！在許多情況下，3D打印-增材制造可能使這些系統(tǒng)能夠更接近理論上預(yù)期的工作環(huán)境，而不是在機(jī)器操作上做出妥協(xié)。廣東微納米增材制造系統(tǒng)3D打印技術(shù)可用于制造復(fù)雜的工具和模具。

隨著各行各業(yè)的發(fā)展及科技的進(jìn)步，人們可以用3D打印創(chuàng)建在人體內(nèi)傳導(dǎo)藥物的載體，可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設(shè)計，甚至可以用這項技術(shù)做出巨大的藝術(shù)雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術(shù)，通過該用戶可以得到尺寸微小的高質(zhì)量產(chǎn)品。全新推出的Quantum X平臺新型超高速無掩模光刻技術(shù)主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了**復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。

3D打印公司Nanoscribe早期是德國卡爾斯魯厄理工學(xué)院的分支機(jī)構(gòu)，自此成為全球市場的高精度，微型3D打印技術(shù)和微光解決方案的提供商。德國3D打印公司Nanoscribe正在使用其Photonic Professional GT 3D打印機(jī)來制造包括標(biāo)準(zhǔn)折射微光學(xué)，自由光學(xué)元件，衍射光學(xué)元件和多透鏡系統(tǒng)在內(nèi)的微光學(xué)形狀。德國增材制造公司表示，“將 3D打印技術(shù) 與用戶友好的軟件和創(chuàng)新材料相結(jié)合，導(dǎo)致可重復(fù)的精益流程”，使客戶能夠“克服當(dāng)前的技術(shù)障礙”。 Nanoscribe使用其Photonic Professional GT 3D打印機(jī)，近期展示了如何使用雙光子聚合工藝生產(chǎn)各種微光學(xué)形狀。增材制造技術(shù)是一種三維實(shí)體快速自由成形制造新技術(shù)。

   Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機(jī)器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件，其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別，請咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。廣東微流道增材制造微納加工系統(tǒng)

激光增材制造可以實(shí)現(xiàn)材料的精細(xì)控制和定制化生產(chǎn)。山東TPP增材制造PPGT2

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高.山東TPP增材制造PPGT2