江蘇無掩膜光刻3D光刻

來源: 發(fā)布時間:2024-02-21

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現(xiàn)微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)(MEMS)。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。支持多種材料:無掩膜光刻技術(shù)不僅限于特定的材料,還可以應用于各種不同的材料為制造帶來了更大的靈活性。江蘇無掩膜光刻3D光刻

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集成光子學可較廣地應用于各種領(lǐng)域,例如數(shù)據(jù)通訊,激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),尤其是微型光子組件應用,可以很大程度縮小復雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,需要權(quán)衡對準、效率和寬帶方面的種種要求。針對這些困難,科學家們提出了寬帶光纖耦合概念,并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設備而制造的3D耦合器得以實現(xiàn)。廣東微納米無掩膜光刻設備無掩膜光刻技術(shù)可以輕松地更改圖案,從而方便地進行試制和修整。

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Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項專項技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項專項技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設計自由度和超高精度的特點,結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),適用于生命科學領(lǐng)域的應用,如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),您可以實現(xiàn)亞細胞結(jié)構(gòu)的三維成像,適用于細胞研究和芯片實驗室應用(lab-on-a-chip)。

斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心,共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡。該內(nèi)窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米,可以用于直徑小于半毫米的血管內(nèi)進行內(nèi)窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設備制作的。微型內(nèi)窺鏡可以幫助檢測人體動脈內(nèi)的斑塊、血栓和膽固醇晶體,因此對于醫(yī)學檢測極其重要,可以有助于減少中風和心臟病發(fā)作的風險。來自不來梅大學微型傳感器、致動器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng),利用雙光子聚合原理(2PP)結(jié)合光刻技術(shù),將自由形式3D微流控混合元件集成到預制的晶圓級二維微流道中。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)未來的發(fā)展趨勢。

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由于在紅外區(qū)域吸收率不高,因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先,同時也是光通訊、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設計,并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性,高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術(shù)的各種應用,例如光電應用中,他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外,這些材料在3D微納加工技術(shù)應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件。例如圖示中可應用于微型成像系統(tǒng),內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。無掩膜光刻技術(shù)可大幅提高芯片制造效率。德國進口無掩膜光刻PPGT

無掩膜光刻技術(shù)還具有靈活性和可擴展性。江蘇無掩膜光刻3D光刻

QuantumXshape技術(shù)特點概要:快速原型制作,高精度,高設計自由度,簡易明了的工程流程;工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn);200個標準結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。江蘇無掩膜光刻3D光刻