海南高精度無掩膜光刻PPGT

Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料，微納機器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺效果上更清晰，結(jié)構(gòu)分類上更明確。首頁導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息，產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫，公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經(jīng)理崔博士表示：“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情，我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙，更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應(yīng)用。”Nanoscribe 的Quantum X 無掩模光刻系統(tǒng)在多個領(lǐng)域運用較廣。海南高精度無掩膜光刻PPGT

Nanoscribe公司推出針對微光學(xué)元件（如微透鏡、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數(shù)的特性，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計尤為重要，尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性和復(fù)合三維光學(xué)系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高，因此光敏樹脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先，同時也是光通訊、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個新的高度。由于其光學(xué)特性，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用，例如光電應(yīng)用中，他們可以增加顯示設(shè)備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。湖南高精度無掩膜光刻3D打印支持多種材料：無掩膜光刻技術(shù)不僅限于特定的材料，還可以應(yīng)用于各種不同的材料為制造帶來了更大的靈活性。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學(xué)元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司

作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微細加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?！拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術(shù)而感到自豪，憑借我們的技術(shù)支持，我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司，與客戶保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場地位的關(guān)鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為前列科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術(shù)支持，并推動生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術(shù)，即采用電子束直接在硅片上制作出需要的圖形。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為mmNanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)未來的發(fā)展趨勢。廣東無掩膜光刻PPGT

采用先進技術(shù)，實現(xiàn)高精度無掩膜光刻寫，滿足您的精細加工需求。海南高精度無掩膜光刻PPGT

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設(shè)計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾?，工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。海南高精度無掩膜光刻PPGT