黑龍江Nanoscribe灰度光刻系統(tǒng)

來源: 發(fā)布時間:2024-04-03

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及非常廣的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您詳細講解灰度光刻技術。黑龍江Nanoscribe灰度光刻系統(tǒng)

黑龍江Nanoscribe灰度光刻系統(tǒng),灰度光刻

Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。山東2PP灰度光刻3D光刻灰度光刻技術采用圖像處理的方法。

黑龍江Nanoscribe灰度光刻系統(tǒng),灰度光刻

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),雙光子聚合技術是實現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術,其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級,并可達到光學質(zhì)量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及非常普遍的材料-基板選擇。

Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ®)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用?;叶裙饪碳夹g可以實現(xiàn)高分辨率的微納米結(jié)構制造。

黑龍江Nanoscribe灰度光刻系統(tǒng),灰度光刻

Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項**技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構,適用于生命科學領域的應用,如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作?;叶裙饪碳夹g還可以與其他先進技術相結(jié)合,如直接激光寫入(Direct Laser Writing)等。廣東雙光子灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

制備各種復雜的微納米結(jié)構,滿足不同應用領域的需求。黑龍江Nanoscribe灰度光刻系統(tǒng)

   QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代,打印樣品結(jié)構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術要點在于:這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。黑龍江Nanoscribe灰度光刻系統(tǒng)