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納米紋理在納米技術(shù)中起著越來越重要的作用。近期的研究表明,可以通過空間調(diào)節(jié)其納米級(jí)像素的高度來進(jìn)一步增強(qiáng)其功能。但是,實(shí)現(xiàn)該概念非常具有挑戰(zhàn)性,因?yàn)樗枰獙?duì)納米像素進(jìn)行“灰度”打印,其中,納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內(nèi)。只有少數(shù)幾種方法(例如,灰度光刻或掃描束光刻)可以滿足這種嚴(yán)格的要求,但通常其成本較高,并且它們中的大多數(shù)需要化學(xué)開發(fā)過程。因此,具有高垂直和水平分辨率的可重構(gòu)灰度納米像素打印技術(shù)受到高度追捧。如果了解雙光子灰度光刻技術(shù),敬請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。2GL灰度光刻
QuantumX新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。而且Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。德國(guó)灰度光刻無(wú)掩光刻Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術(shù)。
微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件,具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制,傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu),這樣的1組微透鏡陣列無(wú)法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上,會(huì)產(chǎn)生場(chǎng)曲。在商業(yè)生產(chǎn)中,為了消除場(chǎng)曲這種光學(xué)像差,只能在后續(xù)光路中引入場(chǎng)鏡組來進(jìn)行校正,從而增加了器件復(fù)雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場(chǎng)曲。
Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的子公司,開發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機(jī)以及光敏材料和工藝解決方案。其口號(hào)是:“我們讓小物件變得重要”,公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術(shù),對(duì)智能手機(jī)、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品。通過基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機(jī)投入市場(chǎng),他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案,致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級(jí)3D打印光學(xué),甚至利用他們的技術(shù)來開發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。“納米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收,這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程?;叶裙饪碳夹g(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結(jié)合。
對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合(2PP)的一種新型專利納米微納制造技術(shù)。該技術(shù)可以將打印的結(jié)構(gòu)自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)到光纖和光子芯片上,例如用于光子封裝中的光學(xué)互連。同時(shí)高精度檢測(cè)系統(tǒng)還可以識(shí)別基準(zhǔn)點(diǎn)或拓?fù)浠滋卣鳎_保對(duì)3D打印進(jìn)行高度精確的對(duì)準(zhǔn)。Nanoscribe對(duì)準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX,一種基于場(chǎng)景圖概念的軟件工具,可用于定義對(duì)準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對(duì)象和操作的分層組織,用于定義何時(shí)、何地、以及如何進(jìn)行打印。在nanoPrintX中可以定義單個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征,例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,可以識(shí)別這些特定的基板標(biāo)記,并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配。對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標(biāo)配。在灰度光刻技術(shù)的幫助下,芯片制造商可以更好地滿足不斷增長(zhǎng)的市場(chǎng)需求。德國(guó)德國(guó)灰度光刻3D光刻
如需了解德國(guó)Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù),請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。2GL灰度光刻
德國(guó)Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng),該系統(tǒng)是first基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的精密加工微納米打印系統(tǒng),可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印的面世**著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動(dòng)化系統(tǒng)的QuantumX無(wú)論從外形或者使用體驗(yàn)上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。下面講講在衍射微光學(xué)中的應(yīng)用:多級(jí)衍射光學(xué)元件雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。2GL灰度光刻