重慶工業(yè)級Nanoscribe微納機器人

來源: 發(fā)布時間:2025-04-01

IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機械超材料和3D細(xì)胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。微納機械系統(tǒng),咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。重慶工業(yè)級Nanoscribe微納機器人

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現(xiàn)微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復(fù)合物,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)(MEMS)。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準(zhǔn)工藝,衍射光學(xué)元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。重慶雙光子聚合Nanoscribe中國分公司科學(xué)家們使用德國Nanoscribe 的3D打印設(shè)備制造了復(fù)雜的微孔膜結(jié)構(gòu)。

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來自德國亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計。科學(xué)家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學(xué)的光子學(xué)研究小組(B-PHOT)的科學(xué)家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)(2PP)將光波導(dǎo)漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進(jìn)行高效和穩(wěn)健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調(diào)整SMF的模式場,以匹配光子芯片上光波導(dǎo)模式場。Nanoscribe的2PP技術(shù)將可調(diào)整模場的錐形體作為階躍折射率光波導(dǎo)光束。

Nanoscribe設(shè)備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中,激光固化部分流體光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米。另一方面,GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體,通常為160納米至毫米范圍。此外,使用GT2,用戶可以選擇針對其應(yīng)用定制的多組物鏡,基板,材料和自動化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,用于制作單個元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細(xì)胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求更多有關(guān)微納3D打印產(chǎn)品和技術(shù)咨詢,歡迎聯(lián)系 納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭增材制造技術(shù)存在多方面的優(yōu)勢,如需了解請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。廣東雙光子聚合NanoscribeQX

Nanoscribe是德國高精度增材制造系統(tǒng)的先驅(qū)。重慶工業(yè)級Nanoscribe微納機器人

對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn)。首先,他們設(shè)計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,以激發(fā)制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰(zhàn),特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)。重慶工業(yè)級Nanoscribe微納機器人