吉林高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫

近年來，實(shí)現(xiàn)微納尺度下的3D灰度光刻結(jié)構(gòu)在包括微機(jī)電（MEMS）、微納光學(xué)及微流控研究領(lǐng)域內(nèi)備受關(guān)注，良好的線性側(cè)壁灰度結(jié)構(gòu)可以很大程度上提高維納器件的靜電力學(xué)特性，信號(hào)通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)手段，如超快激光刻蝕工藝、電化學(xué)腐蝕或反應(yīng)離子刻蝕等，灰度直寫圖形曝光結(jié)合干法刻蝕可以更加方便地制作任意圖形的3D微納結(jié)構(gòu)。該方法中，利用微鏡矩陣（DMD）開合控制的激光灰度直寫曝光表現(xiàn)出更大的操作便捷性、易于設(shè)計(jì)等特點(diǎn)，不需要特定的灰度色調(diào)掩膜版，結(jié)合軟件的圖形化設(shè)計(jì)可以直觀地獲得灰度結(jié)構(gòu)。如需詳細(xì)了解雙光子聚合（2PP）和雙光子灰度光刻（2GL ?）的內(nèi)容請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。吉林高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(shù) (2GL ®)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。德國超高速灰度光刻無掩光刻想要了解更多雙光子灰度光刻技術(shù)，請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25 cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué)，微流體，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。Quantum X shape作為具備光敏樹脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng)，非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)。

    Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。 Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL ?)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。湖南高分辨率灰度光刻3D微納加工

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儀器儀表行業(yè)本身是一個(gè)加入，產(chǎn)出周期較長的行業(yè)，所以作為業(yè)內(nèi)廠家，一方面要尋找中、短期市場熱點(diǎn)，另一方面也要在產(chǎn)品、技術(shù)研發(fā)方面有長遠(yuǎn)的規(guī)劃;儀器儀表在工業(yè)生產(chǎn)過程中扮演著重要的角色，用到各種各樣的儀器儀表，如PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)等為工業(yè)的檢驗(yàn)、測量和計(jì)量提供技術(shù)支撐。目前我國作為Nanoscribe在中國全資子公司，納糯三維科技（上海）有限公司可進(jìn)行三維打印科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開發(fā)，技術(shù)轉(zhuǎn)讓，技術(shù)咨詢，技術(shù)服務(wù)，三維打印設(shè)備，光電機(jī)一體化設(shè)備和相關(guān)零配件的批發(fā)，進(jìn)出口，傭金代理，并提供相關(guān)配套服務(wù)，貿(mào)易信息咨詢，企業(yè)管理咨詢。產(chǎn)品，主要集中在中低檔市場，而市場則主要被國外品牌所占據(jù)。在某些領(lǐng)域，國產(chǎn)產(chǎn)品甚至是空白，這就需要未來我國儀器儀表向市場進(jìn)軍，擴(kuò)大產(chǎn)品占比。從貿(mào)易廣義角度來說，儀器儀表也可具有自動(dòng)操控、報(bào)警、信號(hào)傳遞和數(shù)據(jù)處理等功能，例如用于工業(yè)生產(chǎn)過程自動(dòng)操控中的氣動(dòng)調(diào)節(jié)儀表，和電動(dòng)調(diào)節(jié)儀表，以及集散型儀表操控系統(tǒng)也皆屬于儀器儀表。吉林高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫

納糯三維科技（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加楓路26號(hào)108室。納糯三維致力于為客戶提供良好的PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競爭力，努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識(shí)，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。納糯三維憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專業(yè)的服務(wù)、眾多的成功案例積累起來的聲譽(yù)和口碑，讓企業(yè)發(fā)展再上新高。